一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体，光栅盘本体包括内盘和外盘，外盘盘体上分别开设有外圈光栅孔和内圈光栅孔，外圈光栅孔开孔数需多于内圈光栅孔，且外圈光栅孔和内圈光栅孔均是由激光蚀刻开设而成，内盘盘体上对应开设有多个定位孔，内盘中部开设有中孔，光栅盘本体的上端面和下端面均镀有耐磨层。采用301不锈钢作为光栅盘的基本材料，提高了光栅盘的抗磨性和疲劳强度，耐磨层提高光栅盘的耐磨性能，光栅盘本体上的光栅孔等基于激光蚀刻工艺进行制作，光栅盘表面平整，加工线条均均，无毛刺毛剌，且蚀刻精度极高，能保证光栅盘的加工质量和使用效果，确保光栅盘的正常使用，使用寿命大大提高。

A Metal Grating Disk Based on Laser Etching

The utility model discloses a metal grating disc based on laser etching, which comprises a grating disc body, an inner disc and an outer disc. The outer disc body is provided with outer ring grating holes and inner ring grating holes respectively. The number of outer ring grating holes is more than that of inner ring grating holes, and the outer ring grating holes and inner ring grating holes are formed by laser etching, and the inner disc body corresponds to each other. A plurality of positioning holes are arranged, and a middle hole is arranged in the middle of the inner disk. The upper and lower ends of the grating disc body are coated with wear-resistant layer. The 301 stainless steel is used as the basic material of grating disc, which improves the wear resistance and fatigue strength of grating disc, and the wear resistance of the wear-resistant layer. The grating holes on the grating disc body are fabricated by laser etching technology. The surface of the grating disc is smooth, the processing lines are uniform, without burrs, and the etching accuracy is very high, which can guarantee the processing quality and the use effect of the grating disc. To ensure the normal use of grating disk, the service life is greatly improved.

【技术实现步骤摘要】
一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘
本技术涉及一种金属光栅盘，特别涉及一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘。
技术介绍
光电编码器，是一种通过光电转换将输出轴上的机械几何位移量转换成脉冲或数字量的传感器，这是目前应用最多的传感器，光电编码器是由光栅盘和光电检测装置组成。光栅盘是在一定直径的圆板上等分地开通若干个长方形孔。由于光电码盘与电动机同轴，电动机旋转时，光栅盘与电动机同速旋转，经发光二极管等电子元件组成的检测装置检测输出若干脉冲信号，通过计算每秒光电编码器输出脉冲的个数就能反映当前电动机的转速，现有的光栅盘，使用时因为转速很高，导致光栅盘极易损坏，使用寿命大大缩短，且制作工艺简单，光栅矩阵码道可能出现毛刺毛剌和缺口，影响正常使用。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，大大提高了光栅盘的抗磨性和疲劳强度，提高了光栅盘的耐磨性能，光栅孔等基于激光蚀刻工艺进行制作，光栅盘表面平整，加工线条均均，无毛刺毛剌，蚀刻精度极高，确保光栅盘的正常使用，使用寿命大大提高。为了解决上述技术问题，本技术提供了如下的技术方案：本技术一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体，其特征在于，所述光栅盘本体包括内盘和外盘，所述外盘盘体上分别开设有外圈光栅孔和内圈光栅孔，所述外圈光栅孔开孔数需多于内圈光栅孔，且外圈光栅孔和内圈光栅孔均是由激光蚀刻开设而成。作为本技术的一种优选技术方案，所述内盘盘体上对应开设有多个定位孔，所述内盘中部开设有中孔。作为本技术的一种优选技术方案，所述光栅盘本体的上端面和下端面均镀有耐磨层。作为本技术的一种优选技术方案，所述耐磨层是由碳化钨制作而成。作为本技术的一种优选技术方案，所述光栅盘本体是采用301不锈钢制作而成。与现有技术相比，本技术的有益效果如下：本技术通过采用301不锈钢作为光栅盘的基本材料，大大提高了光栅盘的抗磨性和疲劳强度，耐磨层提高光栅盘的耐磨性能，光栅盘本体上的光栅孔等基于激光蚀刻工艺进行制作，光栅盘表面平整，加工线条均均，无毛刺毛剌，无缺口，且蚀刻精度极高，能保证光栅盘的加工质量和使用效果，确保光栅盘的正常使用，使用寿命大大提高。附图说明附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：图1是本技术的整体结构示意图；图2是本技术的侧视结构示意图；图中：1、光栅盘本体；2、内盘；3、外盘；4、外圈光栅孔；5、内圈光栅孔；6、定位孔；7、中孔；8、耐磨层。具体实施方式以下结合附图对本技术的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本技术，并不用于限定本技术。其中附图中相同的标号全部指的是相同的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出本技术的特征是不必要的，则将其省略。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义，此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。实施例1如图1-2所示，本技术提供一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体1，光栅盘本体1包括内盘2和外盘3，外盘3盘体上分别开设有外圈光栅孔4和内圈光栅孔5，外圈光栅孔4开孔数需多于内圈光栅孔5，且外圈光栅孔4和内圈光栅孔5均是由激光蚀刻开设而成，增强了外圈光栅孔4和内圈光栅孔5光信号转换电信号的程度，激光蚀刻没有毛刺，压点，产品不变形。进一步的，内盘2盘体上对应开设有多个定位孔6，内盘2中部开设有中孔7，便于定位和安装。光栅盘本体1的上端面和下端面均镀有耐磨层8，加强了光栅盘的耐磨性。耐磨层8是由碳化钨制作而成，碳化钨的耐磨性抗压和表面光洁度都极高，抗冲击性好。光栅盘本体1是采用301不锈钢制作而成，其强度、硬度高，并且保留了足够的塑、韧性，抗磨性优良。具体的，光栅盘本体1采用301不锈钢作为主材料，加强它的工作性能和抗磨强度，光栅盘本体1上的外圈光栅孔4和内圈光栅孔5基于激光蚀刻工艺制作而成，确保光栅孔无毛刺毛剌，保证光栅盘的正常使用和工作质量，提高外圈光栅孔4和内圈光栅孔5的孔数，孔数码道越多，分辨率就越高，此外，码盘还可提供相位相差90°的两路脉冲信号，以判断旋转方向，光栅盘本体1的上下端面涂镀以碳化钨为主要材料的耐磨层8，提高光栅盘整体的耐磨性和抗冲击性能，且能保证一定的光洁度。本技术通过采用301不锈钢作为光栅盘的基本材料，大大提高了光栅盘的抗磨性和疲劳强度，耐磨层提高光栅盘的耐磨性能，光栅盘本体1上的光栅孔等基于激光蚀刻工艺进行制作，光栅盘表面平整，加工线条均均，无毛刺毛剌，无缺口，且蚀刻精度极高，能保证光栅盘的加工质量和使用效果，确保光栅盘的正常使用，使用寿命大大提高。最后应说明的是：以上所述仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体(1)，其特征在于，所述光栅盘本体(1)包括内盘(2)和外盘(3)，所述外盘(3)盘体上分别开设有外圈光栅孔(4)和内圈光栅孔(5)，所述外圈光栅孔(4)开孔数需多于内圈光栅孔(5)，且外圈光栅孔(4)和内圈光栅孔(5)均是由激光蚀刻开设而成。

【技术特征摘要】
1.一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，包括光栅盘本体(1)，其特征在于，所述光栅盘本体(1)包括内盘(2)和外盘(3)，所述外盘(3)盘体上分别开设有外圈光栅孔(4)和内圈光栅孔(5)，所述外圈光栅孔(4)开孔数需多于内圈光栅孔(5)，且外圈光栅孔(4)和内圈光栅孔(5)均是由激光蚀刻开设而成。2.根据权利要求1所述的一种基于激光蚀刻制造的金属光栅盘，其特征在于，所述内盘(2)盘体上对应开设有多个...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘飞豹，刘浩雨，
申请(专利权)人：景瓷精密零部件桐乡有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33