提升销单元和具有该提升销单元的基板支承单元制造技术

提供了一种提升销单元和具有同样的提升销单元的基板支承单元。提供了一种基板支承单元。所述基板支承单元包括：基座，其支承所述基板并且具有垂直形成于其中的销孔；提升销，其设置成沿所述销孔上下移动；支承板，其支承所述销孔；以及，驱动单元，其垂直地移动所述支承板。所述提升销具有在其下端形成的第一磁性体。所述支承板具有在其上设置的第二磁性体并且所述第二磁性体具有与第一磁性体的极性相反的极性。

【技术实现步骤摘要】
提升销单元和具有该提升销单元的基板支承单元
技术介绍
此处描述的本专利技术构思的实施例涉及一种将基板安装在基板支架(substratesupport)上的提升销单元、以及包括该提升销单元的基板支承单元。通常，为了制备半导体装置，相对于基板依序地或者重复地执行例如沉积、涂覆、显影、刻蚀、和洗涤的单元工艺。执行单元工艺的基板处理设备包括用于将基板安装在腔室内的板。用于支承基板的多个提升销以规则的间隔排布在板上。同样，为了固定基板，板通过使用夹钳或真空或利用静电力固定基板。参考图1，典型的基板处理设备包括将基板安装在腔室(未示出)的静电吸盘(ESC)1。ESC1将基板安装在其顶面，并且包括以预定间隔彼此间隔开的多个提升销2以将基板与ESC1的顶面分离并支承基板。ESC1具有多个用于安装提升销2的销孔3。每个销孔3穿过ESC1垂直地形成从而安装的提升销2可垂直地移动。提升销2与ESC1下方的销固定器(pinholder)4啮合。为此，提升销2和销固定器4可彼此螺纹连接。在这种结构中，在最初设置期间或在ESC1的长时间使用期间，当销固定器未对准或者提升销未对准时，提升销被提起与销孔3的内侧表面接触，因此产生颗粒。
技术实现思路
本专利技术构思的实施例提供了一种能够精确地保持提升销的对准的提升销单元，以及包括该提升销单元的基板支承单元。本专利技术构思的实施例提供了一种能够使颗粒最小化的提升销单元，以及包括该提升销单元的基板支承单元。本专利技术构思的实施例中待实现的目的不限于以上所述，但是对于那些本领域技术人员来说，其他没有提到的目的应该是明显地能够理解的。根据示例性的实施例，可提供一种基板支承单元，其包括：基座(susceptor)，其支承所述基板并且具有垂直形成于其中的销孔(pinhole)；提升销(liftpin)，其设置为以沿所述销孔上下移动；支承板，其支承所述提升销；以及驱动单元，其垂直地移动所述支承板。所述提升销和所述支承板通过连接单元彼此连接，并且所述提升销相对于所述支承板可移动。此外，所述连接单元可包括设置在所述提升销的下端的第一接头、以及设置在所述支承板的上部的第二接头，并且所述第一接头对于所述第二接头以特定的角度倾斜。此外，所述第一接头和所述第二接头可设置成彼此点接触。进一步地，所述提升销可具有在其下端形成的第一磁性体(firstmagneticsubstance)，以及所述支承板可具有在其上设置的、并且具有与所述第一磁性体的极性相反的极性的第二磁性体。此外，所述第一磁性体和所述第二磁性体可设置为球形以彼此间点接触。进一步地，所述第一磁性体和所述第二磁性体通过球形连接结构彼此连接。此外，所述销孔的内壁可包括第三磁性体，并且所述提升销在其外周表面上设置有第四磁性体，所述第四磁性体具有与所述第三磁性体的极性相同的极性。进一步地，所述第三磁性体可设置成磁性材料涂覆在所述销孔的内壁上的形式。进一步地，所述第三磁性体可设置成插入所述销孔的内壁的衬套的形状。此外，所述提升销由可弯曲的柔性材料形成。根据示例性的实施例，可提供一种提升销单元，其包括：提升销，其具有与基板接触的上端以支承所述基板、还具有磁性体；支承构件，其上安装有提升销；以及，提升构件，其提升所述支承构件。所述提升销和所述支承构件可包括为所述提升销和所述支承构件提供自由度的连接单元。此外，所述连接单元可包括：形成于所述提升销的下端的第一接头；以及，形成于所述支承构件的上部并且连接至所述第一接头的第二接头。所述第一接头和所述第二接头可包括具有极性互异的磁性体，从而引力作用于所述第一接头与所述第二接头之间。此外，所述第一接头和所述第二接头可设置成球形形状以彼此间点接触。进一步地，所述第一接头和所述第二接头中的一个设置成球形形状，并且所述第一接头和所述第二接头中的另一个具有插座的形状，所述插座具有包围所述球形形状的插入槽。附图说明通过参考附图详细描述本专利技术构思的示例性实施例，本专利技术构思的上述和其他的目的和特征将变得显而易见。图1为示出了典型的提升销单元的视图；图2为根据本专利技术构思的实施例示出了基板处理设备的剖视图；图3为详细的示出了提升销单元的主要组件的放大的剖视图；图4为示出了被提升销单元支承的基板的视图；图5为示出了基板支承单元的支承板被扭动的情况的视图；图6为示出了销孔的第三磁性体的另一个示例的视图；以及图7为示出了将支承板和提升销连接的连接单元的另一个示例的视图。具体实施方式本说明书和附图中采用的术语为方便解释而提供，但是本专利技术构思不限于此。此外，在本专利技术构思的实施例的以下说明中，为了避免不必要地使本专利技术构思的要旨模糊不清，将会排除众所周知的特征和功能的详细描述。提供在以下说明中陈述的实施例以允许那些本领域技术人员清楚地理解本专利技术构思并且本专利技术构思不限制于以下说明中陈述的实施例。在本专利技术构思的范围内对本专利技术构思的修改及变化是可能的。以下，根据本专利技术构思的一个实施例将会描述基板处理设备10。图2为根据本专利技术构思的实施例示出了基板处理设备的剖视图。参照图2，基板处理设备10可包括腔室100、基板支承单元200、气体供应单元300、和等离子体源单元(plasmasourceunit)400。腔室100提供了在其中执行等离子体处理的空间，以及基板支承单元200支承腔室100内基板W。气体供应单元300向腔室100供应工艺气体以及等离子体源单元400向腔室100内提供电磁波以从工艺气体中产生等离子体。以下，将会详细描述每个配置。所述腔室100包括腔室体(chamberbody)110和介电盖(dielectriccover)120。腔室体110具有敞开的顶面和内部空间。在腔室体110的底板上形成排出孔113。所述排出孔113连通排出管(exhaustline)117为排出在工艺过程期间产生的残留在腔室体110内的废气和反应副产物提供到外界的通道。在腔室体110的底板的边缘可形成多个排出孔113。介电盖120密封腔室体110的敞开的顶面。介电盖120具有对应腔室体110的周长的半径。介电盖120可由介电材料形成。介电盖120可由铝材料形成。被介电盖120和腔室体110围绕的空间作为在其中执行等离子体处理工艺的处理空间130。挡板250控制腔室100内工艺气体的流量。所述挡板250设置为环形并且插入腔室100和基板支承单元200之间。在挡板250上形成分配孔251。停留在腔室100中的工艺气体通过分配孔251被导入排出孔113。导入到排出孔113的工艺气体的流量可根据分配孔251的形状和排布来控制。气体供应单元300向腔室100内供应工艺气体。气体供应单元300包括喷嘴310、储气罐320、和气体供应线330。所述喷嘴310安装在介电盖120上。所述喷嘴310可定位在介电盖120的中心。喷嘴310通过气体供应线330连接至储气罐320。气体供应线330上安装有阀门340。阀门340开启/关闭气体供应线330以及调节工艺气体的供应流速。储存在储气罐320中的工艺气体通过气体供应线330被供应到喷嘴310并且从喷嘴310喷射进入腔室100中。喷嘴310主要向处理空间130的中心区域供应工艺气体。可选地，气体供应单元可进一步包括安装在腔室体110侧壁上的喷嘴(未示出)。喷嘴向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对基板进行支承的基板支承单元，所述基板支承单元包括：基座，其支承所述基板并且具有垂直形成于其中的销孔；提升销，其设置为使得沿所述销孔上下移动；支承板，其支承所述提升销；以及驱动单元，其垂直地移动所述支承板；其中所述提升销和所述支承板通过连接单元彼此连接，并且其中所述提升销相对于所述支承板移动。

【技术特征摘要】
2017.07.25 KR 10-2017-00939241.一种对基板进行支承的基板支承单元，所述基板支承单元包括：基座，其支承所述基板并且具有垂直形成于其中的销孔；提升销，其设置为使得沿所述销孔上下移动；支承板，其支承所述提升销；以及驱动单元，其垂直地移动所述支承板；其中所述提升销和所述支承板通过连接单元彼此连接，并且其中所述提升销相对于所述支承板移动。2.根据权利要求1所述的基板支承单元，其中，所述连接单元包括设置在所述提升销的下端的第一接头、以及设置在所述支承板的上部的第二接头，并且其中，所述第一接头对于所述第二接头以特定的角度倾斜。3.根据权利要求2所述的基板支承单元，其中，所述第一接头和所述第二接头设置成彼此点接触。4.根据权利要求1所述的基板支承单元，其中，所述提升销具有在其下端形成的第一磁性体，以及其中所述支承板具有在其上设置的第二磁性体、并且所述第二磁性体具有与所述第一磁性体的极性相反的极性。5.根据权利要求4所述的基板支承单元，其中，所述第一磁性体和所述第二磁性体设置为球形使得彼此间点接触。6.根据权利要求4所述的基板支承单元，其中，所述第一磁性体和所述第二磁性体通过球形连接结构彼此连接。7.根据权利要求4所述的基板支承单元，其中，所述提升销由可弯曲的柔性材料形成。8.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：河钢来，金炯俊，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国,KR