一种硅片脱胶清洗设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种硅片脱胶清洗设备，涉及工业领域。该一种硅片脱胶清洗设备，包括清洗室，所述清洗室的内壁固定连接有固定板，所述固定板的底部与支撑放置板的顶部固定连接，所述固定板通过其内部开设的孔洞与第一连接管的外表面固定连接，所述第一连接管的底部固定连接有喷淋头，所述第一连接管的顶部分别固定连接有入水接口和第三连接管，所述第三连接管的底部与过滤室的底部固定连接。该一种硅片脱胶清洗设备，通过第二连接管、第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网、防尘网、增压泵和第三连接管结构的配合可以提高清洗用水的使用效率，入水接口接入净水，对硅片进行清洗，解决了清洗用水利用效率不高的问题。

A Degumming and Cleaning Equipment for Silicon Wafers

The utility model provides a silicon degumming cleaning device, which relates to the industrial field. The silicon wafer degumming cleaning equipment includes a cleaning room, the inner wall of the cleaning room is fixedly connected with a fixing plate, the bottom of the fixing plate is fixedly connected with the top of the supporting placing plate, the fixing plate is fixedly connected with the outer surface of the first connecting pipe through a hole opened inside the fixing plate, the bottom of the first connecting pipe is fixedly connected with a spray head, and the top of the first connecting pipe is fixedly connected with a spray head. The water inlet interface and the third connecting pipe are respectively fixed connected, and the bottom of the third connecting pipe is fixed connected with the bottom of the filter chamber. The degumming and cleaning equipment for silicon wafer can improve the efficiency of cleaning water through the cooperation of the second connecting pipe, the first filtering net, the second filtering net, the third filtering net, the dust-proof net, the booster pump and the third connecting pipe structure. The water inlet interface is connected with the clean water and the silicon wafer is cleaned, thus solving the problem of low utilization efficiency of cleaning water.

【技术实现步骤摘要】
一种硅片脱胶清洗设备
本技术涉及工业领域，具体为一种硅片脱胶清洗设备。
技术介绍
硅片脱胶(预清洗)主要分为两个部分，首先是通过物理方法，诸如喷淋清洗、超声清洗、溢流清洗等，先将硅片表面附着的金属粉末、硅粉、碳化硅、切割悬浮液等杂质去除，然后对硅片进行脱胶处理，脱胶时所需的液体温度根据所使用的胶水来定，其原理是胶水在一定的温度范围内会软化，硅片自动从晶拖上脱落，同时在热水中加入乳酸或者柠檬酸可将胶水软化的时间缩短，同时可以对硅片表面的损伤层进行粗抛，也防止了硅片在高温情况下发生氧化，但在清洗过程过程中耗水量很大，增加了企业负担的同时，也浪费水资源，利用效率不高。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本技术提供了一种硅片脱胶清洗设备，解决了清洗用水利用效率不高的问题。(二)技术方案为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种硅片脱胶清洗设备，包括清洗室，所述清洗室的内壁固定连接有固定板，所述固定板的底部与支撑放置板的顶部固定连接，所述固定板通过其内部开设的孔洞与第一连接管的外表面固定连接，所述第一连接管的底部固定连接有喷淋头，所述第一连接管的顶部分别固定连接有入水接口和第三连接管，所述第三连接管的底部与过滤室的底部固定连接，所述过滤室的内壁分别固定连接有第一过滤网、第二过滤网和第三过滤网，所述过滤室的顶部固定连接有增压泵固定放置室，所述增压泵固定放置室的内壁固定连接有增压泵，所述增压泵的表面固定连接有出气口，所述出气口的底部与防尘网的顶部固定连接，所述过滤室的表面与第二连接管的一端个固定连接，所述第二连接管远离过滤室的一端与清洗室的外表面固定连接，所述第二连接管的内壁通过转轴转动连接有转动密闭板，所述过滤室通过转轴与转门的一侧转动连接。优选的，所述清洗室的底部与支柱的顶部固定连接，所述支柱的表面与固定支撑套环的内壁固定连接。优选的，所述增压泵固定放置室的顶部固定连接有散热板，所述增压泵固定放置室的外表面开设有散热孔，所述增压泵固定放置室的表面开设有与防尘网大小相适配的孔洞。优选的，所述清洗室的表面固定连接有控制面板。优选的，所述过滤室和清洗室的表面均开设有与第二连接管大小相适配的孔洞。优选的，所述第三过滤网位于第二过滤网的下方，所述第二过滤网位于第一过滤网的下方。优选的，所述入水接口和第三连接管的直径相同，所述第一连接管的直径是入水接口和第三连接管的两倍。(三)有益效果本技术提供了一种硅片脱胶清洗设备。具备以下有益效果：1、该一种硅片脱胶清洗设备，通过第二连接管、第一过滤网、第二过滤网、第三过滤网、防尘网、增压泵和第三连接管结构的配合可以提高清洗用水的使用效率，入水接口接入净水，对硅片进行清洗，通过控制面板控制并打开转动密闭板，使清洗后的废水通过第二连接管进入过滤室得内部，废水依次通过第一过滤网、第二过滤网和第三过滤网，去除掉废水里的杂质，在关闭转动密闭板，运行增压泵，对过滤室的内部进行加压，加压使杂质的过滤速度加快，提高了过滤效率，并且在压力的作用下，过滤处理后的水通过第三连接管移动到第一连接管，再通过喷淋头对硅胶进行清洗，是水得以循环使用，解决了清洗用水利用效率不高的问题。2、该一种硅片脱胶清洗设备，通过散热板和散热孔对增压泵固定放置室的内部进行散热，防止增压泵长时间运行温度过高，提高增压泵的故障率，减少增压泵的使用寿命，增压泵和转动密闭板等结构部件均通过控制面板进行控制，使用方便，打开转门，可以对第一过滤网、第二过滤网和第三过滤网表面过滤的杂质进行清洗，或者对其进行更换，在结构运行使会产生一定的震动，通过固定支撑套环可以对结构整体进行一定程度的固定，减少震动。结构简单并且使用方便，解决了清洗用水利用效率不高的问题。附图说明图1为本技术正视图的结构示意图；图2为本技术过滤室的结构正视示意图。图中：1入水接口、2第一连接管、3喷淋头、4固定板、5支撑放置板、6清洗室、7支柱、8固定支撑套环、9第二连接管、10过滤室、11第一过滤网、12第二过滤网、13第三过滤网、14防尘网、15散热孔、16散热板、17第三连接管、18增压泵、19出气口、20增压泵固定放置室、21转门、22转动密闭板、23控制面板。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。本技术实施例提供一种硅片脱胶清洗设备，如图1-2所示，包括清洗室6，清洗室6的内壁固定连接有固定板4，固定板4的底部与支撑放置板5的顶部固定连接，固定板4通过其内部开设的孔洞与第一连接管2的外表面固定连接，第一连接管2的底部固定连接有喷淋头3，第一连接管2的顶部分别固定连接有入水接口1和第三连接管17，第三连接管17的底部与过滤室10的底部固定连接，过滤室10的内壁分别固定连接有第一过滤网11、第二过滤网12和第三过滤网13，过滤室10的顶部固定连接有增压泵固定放置室20，增压泵固定放置室20的内壁固定连接有增压泵18，增压泵18的表面固定连接有出气口19，出气口19的底部与防尘网14的顶部固定连接，过滤室10的表面与第二连接管9的一端个固定连接，第二连接管9远离过滤室10的一端与清洗室6的外表面固定连接，第二连接管9的内壁通过转轴转动连接有转动密闭板22，过滤室10通过转轴与转门21的一侧转动连接，清洗室6的底部与支柱7的顶部固定连接，支柱7的表面与固定支撑套环8的内壁固定连接，增压泵固定放置室20的顶部固定连接有散热板16，增压泵固定放置室20的外表面开设有散热孔15，增压泵固定放置室20的表面开设有与防尘网14大小相适配的孔洞，清洗室6的表面固定连接有控制面板23，过滤室10和清洗室6的表面均开设有与第二连接管9大小相适配的孔洞，第三过滤网13位于第二过滤网12的下方，第二过滤网12位于第一过滤网11的下方，入水接口1和第三连接管17的直径相同，第一连接管2的直径是入水接口1和第三连接管17的两倍。该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接，并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备。综上可得，该一种硅片脱胶清洗设备，通过第二连接管9、第一过滤网11、第二过滤网12、第三过滤网13、防尘网14、增压泵18和第三连接管17结构的配合可以提高清洗用水的使用效率，入水接口1接入净水，对硅片进行清洗，通过控制面板23控制并打开转动密闭板22，使清洗后的废水通过第二连接管9进入过滤室10得内部，废水依次通过第一过滤网11、第二过滤网12和第三过滤网13，去除掉废水里的杂质，在关闭转动密闭板22，运行增压泵18，对过滤室10的内部进行加压，加压使杂质的过滤速度加快，提高了过滤效率，并且在压力的作用下，过滤处理后的水通过第三连接管17移动到第一连接管2，再通过喷淋头3对硅胶进行清洗，是水得以循环使用，解决了清洗用水利用效率不高的问题。并且，该一种硅片脱胶清洗设备，通过散热板16和散热孔15对增压泵固定放置室20的内部进行散热，防止增压泵18长时间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片脱胶清洗设备，包括清洗室(6)，其特征在于：所述清洗室(6)的内壁固定连接有固定板(4)，所述固定板(4)的底部与支撑放置板(5)的顶部固定连接，所述固定板(4)通过其内部开设的孔洞与第一连接管(2)的外表面固定连接，所述第一连接管(2)的底部固定连接有喷淋头(3)，所述第一连接管(2)的顶部分别固定连接有入水接口(1)和第三连接管(17)，所述第三连接管(17)的底部与过滤室(10)的底部固定连接，所述过滤室(10)的内壁分别固定连接有第一过滤网(11)、第二过滤网(12)和第三过滤网(13)，所述过滤室(10)的顶部固定连接有增压泵固定放置室(20)，所述增压泵固定放置室(20)的内壁固定连接有增压泵(18)，所述增压泵(18)的表面固定连接有出气口(19)，所述出气口(19)的底部与防尘网(14)的顶部固定连接，所述过滤室(10)的表面与第二连接管(9)的一端个固定连接，所述第二连接管(9)远离过滤室(10)的一端与清洗室(6)的外表面固定连接，所述第二连接管(9)的内壁通过转轴转动连接有转动密闭板(22)，所述过滤室(10)通过转轴与转门(21)的一侧转动连接。

【技术特征摘要】
1.一种硅片脱胶清洗设备，包括清洗室(6)，其特征在于：所述清洗室(6)的内壁固定连接有固定板(4)，所述固定板(4)的底部与支撑放置板(5)的顶部固定连接，所述固定板(4)通过其内部开设的孔洞与第一连接管(2)的外表面固定连接，所述第一连接管(2)的底部固定连接有喷淋头(3)，所述第一连接管(2)的顶部分别固定连接有入水接口(1)和第三连接管(17)，所述第三连接管(17)的底部与过滤室(10)的底部固定连接，所述过滤室(10)的内壁分别固定连接有第一过滤网(11)、第二过滤网(12)和第三过滤网(13)，所述过滤室(10)的顶部固定连接有增压泵固定放置室(20)，所述增压泵固定放置室(20)的内壁固定连接有增压泵(18)，所述增压泵(18)的表面固定连接有出气口(19)，所述出气口(19)的底部与防尘网(14)的顶部固定连接，所述过滤室(10)的表面与第二连接管(9)的一端个固定连接，所述第二连接管(9)远离过滤室(10)的一端与清洗室(6)的外表面固定连接，所述第二连接管(9)的内壁通过转轴转动连接有转动密闭板(22)，所述过滤室(10)通过转轴与转门(21)的一侧转动连接。2...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈忠海，
申请(专利权)人：苏州德瑞姆超声科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32