The utility model discloses a sun-drying device for glass slide after cleaning, which comprises a limit baffle, glass slide, shelf, support seat, air duct assembly, limit chuck and cushion cushion. The upper tenon of the support seat is connected with a symmetrical support side plate. By setting a symmetrical limit baffle, a plurality of slide carriers can be clamped and connected between the two limit baffles, so that the slide carriers can be placed vertically. The water droplets on the slide can be lowered by gravity at the first time, and then the whole device can be irradiated by sunlight. At the same time, the device has a small volume and occupies a small space, but the number of slide carriers is large, and the space utilization rate is high. It is very high and easy for multiple slides to be aired at the same time. By installing air duct components under the slides, each adjacent slides are equipped with a blower branch, which can greatly accelerate the drying efficiency after cleaning the slides, and ensure the uniformity of drying, so that the slides can be aired at the same time.
【技术实现步骤摘要】
一种载玻片清洗后晒晾装置
本技术属于实验器材
,具体涉及一种载玻片清洗后晒晾装置。
技术介绍
载玻片是用显微镜观察东西时用来放东西的玻璃片或石英片,制作样本时,将细胞或组织切片放在载玻片上,将盖玻片放置其上,用作观察。在光学上,用于产生相位差的一种类似玻璃材料的薄片。装片法制作时应注意:手持载玻片时,应注意持平,或放在平台上。滴水时水量要适当,以恰好被盖玻片盖满为度。应将材料用解剖针或镊子展开不使重叠,展平在同一平面上。放盖玻片时,从一侧慢慢盖在水滴上,防止出现气泡。染色时,将一滴染色液滴在盖玻片的一侧,用吸水纸从另一侧吸引,使盖玻片下的标本均匀着色。着色后,用同样的方法,滴一滴清水,把染色液吸出后,在显微镜下观察。现有技术的载玻片晾晒装置存在以下问题:实验室内在对载玻片进行晾晒的时候大多平摊在实验台上,或安放在一种储纳盒中,这两种方式都只能对载玻片的一个面进行晾晒,还需要对载玻片进行翻面,且晾晒的效率不高,影响接下来的实验进度。
技术实现思路
为解决上述
技术介绍
中提出的问题。本技术提供了一种载玻片清洗后晒晾装置,具有晾晒效率高的特点。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种载玻片清洗后晒晾装置,包括限位挡板、载玻片、搁板、支撑座、风管组件、限位卡槽、缓冲垫,所述支撑座的上方榫接有相互对称的支撑侧板,所述支撑侧板的顶部一体成型设置有限位挡板,两个所述限位挡板相对的一侧设置有若干个限位卡槽,所述限位卡槽的另一侧设置有缓冲垫,所述缓冲垫粘连在限位挡板上,两个所述限位卡槽之间均安装有载玻片,所述载玻片的底部设置有搁板,所述搁板设置在两个支撑侧板之间,所述支撑座 ...
【技术保护点】
1.一种载玻片清洗后晒晾装置,包括限位挡板(1)、载玻片(2)、搁板(4)、支撑座(5)、风管组件(6)、限位卡槽(8)、缓冲垫(9),其特征在于:所述支撑座(5)的上方榫接有相互对称的支撑侧板(3),所述支撑侧板(3)的顶部一体成型设置有限位挡板(1),两个所述限位挡板(1)相对的一侧设置有若干个限位卡槽(8),所述限位卡槽(8)的另一侧设置有缓冲垫(9),所述缓冲垫(9)粘连在限位挡板(1)上,两个所述限位卡槽(8)之间均安装有载玻片(2),所述载玻片(2)的底部设置有搁板(4),所述搁板(4)设置在两个支撑侧板(3)之间,所述支撑座(5)的上方一侧设置有鼓风机(7),所述鼓风机(7)靠近支撑侧板(3)的一侧安装有风管组件(6),所述风管组件(6)设置在搁板(4)的下方;所述风管组件(6)包括吹风支管(61)、分流管(62)和主风管(63),其中,所述主风管(63)连接在鼓风机(7)的一侧,所述主风管(63)的另一侧卡合连接有分流管(62),所述分流管(62)的上方设置有若干个均匀分布的吹风支管(61),所述吹风支管(61)设置在相邻的两个搁板(4)之间。
【技术特征摘要】
1.一种载玻片清洗后晒晾装置,包括限位挡板(1)、载玻片(2)、搁板(4)、支撑座(5)、风管组件(6)、限位卡槽(8)、缓冲垫(9),其特征在于:所述支撑座(5)的上方榫接有相互对称的支撑侧板(3),所述支撑侧板(3)的顶部一体成型设置有限位挡板(1),两个所述限位挡板(1)相对的一侧设置有若干个限位卡槽(8),所述限位卡槽(8)的另一侧设置有缓冲垫(9),所述缓冲垫(9)粘连在限位挡板(1)上,两个所述限位卡槽(8)之间均安装有载玻片(2),所述载玻片(2)的底部设置有搁板(4),所述搁板(4)设置在两个支撑侧板(3)之间,所述支撑座(5)的上方一侧设置有鼓风机(7),所述鼓风机(7)靠近支撑侧板(3)的一侧安装有风管组件(6),所述风管组件(6)设置在搁板(4)的下方;所述风管组件(6)包括吹风支管(61)、分流管(62)和主风管(63),其中,所述主风管(63)连接在...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈富民,陈诚,
申请(专利权)人:盐城市黄海电子有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏,32
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