光学层叠体的制造方法技术

本发明专利技术的目的在于，提供一种光学层叠体的制造方法，该方法会减少制造工序中产生的来自于构成光学层叠体的材料的异物在制造现场的残留量。本发明专利技术提供一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且将所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法。

【技术实现步骤摘要】
光学层叠体的制造方法
本专利技术涉及一种光学层叠体的制造方法。
技术介绍
以往，在光学领域中所用的各种聚合物膜的制造中，作为生产效率好的量产方式，广泛地采用可以使用卷绕成卷筒状的带状的基材、进行连续的加工至最终产品的所谓卷对卷(RolltoRoll)方式。例如，专利文献1中记载有一边运送长尺寸的聚合物膜一边沿长度方向拉伸而制造光学膜的方法。另外，专利文献2及3中记载有在利用卷对卷方式运送的膜上形成硬涂层、金属膜的方法。在这些方法中记载，以防止对膜、或形成于膜上的层或膜的损伤等为目的，包含以使运送中的膜的带电量为给定的值以下的方式进行除静电的工序。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2017－39291号公报专利文献2：日本特开2015－196322号公报专利文献3：日本特开2014－214365号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题椭圆偏振板等光学层叠体可以通过将相位差膜、偏振膜等各种光学膜层叠而制造。对于此种光学领域中所用的光学层叠体的制造，为了防止异物的混入，通常在悬浮于空气中的异物少的洁净室内进行。然而，在光学膜的层叠工序中会有光学膜的端部等剥离的情况，剥离了的膜片成为异物而附着于所得的光学层叠体的外表面，由此在所得的光学层叠体中产生缺陷，而且剥离了的膜片等异物残留于洁净室内，由此有可能因残留的异物而在其后制造的光学层叠体中产生连续的缺陷。因此，在光学层叠体的制造工序中，除了需要防止由异物造成的制造中的光学层叠体自身的损伤以外，还需要尽可能减少洁净室内的异物的残留量。另一方面，伴随着近年的图像显示装置的薄型化，开发出包含通过将聚合性液晶化合物涂布于基材或取向膜上、并在取向状态下使之固化而得的液晶固化膜的相位差膜等光学膜。发现在此种包含液晶固化膜的光学膜中，特别容易因液晶固化膜的端部剥落而产生异物。因而，本专利技术的目的在于，提供一种光学层叠体的制造方法，该方法会减少在制造工序中产生的来自于构成光学层叠体的材料的异物在制造现场的残留量。用于解决问题的方法本专利技术提供以下的适合的方式。[1]一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、并将所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法，该方法包括：带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)，将具备长尺寸的基材膜(5)和层叠于所述基材膜(5)上的所述聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送；贴合工序(B)，对利用所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)运送的所述带有基材膜的聚合物层(6)，在所述聚合物层(2)侧夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合长尺寸的光学膜(1)，得到具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)；以及剥离工序(C)，从所述贴合工序(B)中得到的带有基材膜的光学层叠体(7)剥离所述基材膜(5)而得到所述光学层叠体(4)，并且包括基材膜除静电运送工序(D)，将所述剥离工序(C)中被剥离后的所述基材膜(5)一边除静电一边沿长度方向运送，所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)中的除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下，或者所述基材膜除静电运送工序(D)中的除静电后的所述基材膜(5)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。[2]根据所述[1]中记载的制造方法，其中，在所述带有基材膜的聚合物层(6)中，所述聚合物层(2)遍及该聚合物层(2)的宽度方向的整体地设于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的宽度大于所述聚合物层(2)的宽度。[3]根据所述[1]或[2]中记载的制造方法，其中，在所述带有基材膜的聚合物层(6)中，在所述基材膜(5)上夹隔着取向层(8)层叠所述聚合物层(2)，所述取向层(8)遍及宽度方向的整体地层叠于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的宽度大于所述取向层(8)的宽度。[4]根据所述[1]～[3]中任一项记载的制造方法，其中，在所述带有基材膜的光学层叠体(7)中，所述聚合物层(2)的宽度大于所述粘合剂或粘接剂层(3)的宽度。[5]根据所述[1]～[4]中任一项记载的制造方法，其中，在所述带有基材膜的光学层叠体(7)中，在所述基材膜(5)上夹隔着取向层(8)层叠所述聚合物层(2)，所述取向层(8)的宽度大于所述粘合剂或粘接剂层(3)的宽度。[6]一种带有基材膜的聚合物层的运送方法，是将具备长尺寸的基材膜(5)和层叠于所述基材膜(5)上的由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送的方法，除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。[7]一种带有基材膜的光学层叠体的制造方法，是制造具备长尺寸的基材膜(5)、由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、和夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)的方法，该方法包括：带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)，将具备所述长尺寸的基材膜(5)和层叠于该基材膜(5)上的所述聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送；以及工序(B)，对利用所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)运送的所述带有基材膜的聚合物层(6)，在所述聚合物层(2)侧夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合长尺寸的光学膜(1)，得到具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)，所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)中的除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。[8]一种光学层叠体的制造方法，是制造具备长尺寸的光学膜(1)和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且所述聚合物层(2)被夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠的光学层叠体(4)的方法，该方法具备剥离工序(C)，从具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)剥离所述基材膜(5)而得到所述光学层叠体(4)，并且具备基材膜除静电运送工序(D)，将所述剥离工序(C)中被剥离后的所述基材膜(5)一边除静电一边沿长度方向运送，所述基材膜除静电运送工序(D)中的除静电后的所述基材膜(5)的带电量的绝对值为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)、和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法，该方法包括：带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)，将具备长尺寸的基材膜(5)和层叠于所述基材膜(5)上的所述聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送；贴合工序(B)，对利用所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)运送的所述带有基材膜的聚合物层(6)，在所述聚合物层(2)侧夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合长尺寸的光学膜(1)，得到具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)；以及剥离工序(C)，从所述贴合工序(B)中得到的带有基材膜的光学层叠体(7)剥离所述基材膜(5)而得到所述光学层叠体(4)，并且该方法包括基材膜除静电运送工序(D)，将所述剥离工序(C)中被剥离后的所述基材膜(5)一边除静电一边沿长度方向运送，所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)中的除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下，或者所述基材膜除静电运送工序(D)中的除静电后的所述基材膜(5)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。...

【技术特征摘要】
2017.06.19 JP 2017-1195901.一种光学层叠体的制造方法，是制造具备光学膜(1)、和由聚合性液晶化合物的聚合物形成的聚合物层(2)、且所述聚合物层(2)夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)与所述光学膜(1)层叠而成的光学层叠体(4)的方法，该方法包括：带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)，将具备长尺寸的基材膜(5)和层叠于所述基材膜(5)上的所述聚合物层(2)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的聚合物层(6)一边除静电一边沿长度方向运送；贴合工序(B)，对利用所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)运送的所述带有基材膜的聚合物层(6)，在所述聚合物层(2)侧夹隔着粘合剂或粘接剂层(3)贴合长尺寸的光学膜(1)，得到具备长尺寸的基材膜(5)、所述聚合物层(2)、和夹隔着所述粘合剂或粘接剂层(3)贴合于该聚合物层(2)上的长尺寸的光学膜(1)、且所述基材膜(5)能够从所述聚合物层(2)剥离的长尺寸的带有基材膜的光学层叠体(7)；以及剥离工序(C)，从所述贴合工序(B)中得到的带有基材膜的光学层叠体(7)剥离所述基材膜(5)而得到所述光学层叠体(4)，并且该方法包括基材膜除静电运送工序(D)，将所述剥离工序(C)中被剥离后的所述基材膜(5)一边除静电一边沿长度方向运送，所述带有基材膜的聚合物层除静电运送工序(A)中的除静电后的所述带有基材膜的聚合物层(6)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下，或者所述基材膜除静电运送工序(D)中的除静电后的所述基材膜(5)的带电量的绝对值为0.01kV以上且6kV以下。2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，在所述带有基材膜的聚合物层(6)中，所述聚合物层(2)遍及该聚合物层(2)的宽度方向的整体地设于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的宽度大于所述聚合物层(2)的宽度。3.根据权利要求1或2所述的制造方法，其中，在所述带有基材膜的聚合物层(6)中，在所述基材膜(5)上夹隔着取向层(8)层叠所述聚合物层(2)，所述取向层(8)遍及宽度方向的整体地层叠于所述基材膜(5)上，所述基材膜(5)的宽度大于所述取向层(8)的宽度。4.根据权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其中，在所述带有基材膜的光学层叠体(7)中，所述聚合物层(2)的宽度大于所述粘合剂或粘接剂层(3)的宽度。5.根据权利要求1～4中任一项所述的制造方法，其中，在所述带有基材膜的光学层叠体(7)中，在所述基材膜(5)上夹隔着取向层(8)层叠所述聚合物层(2)...

【专利技术属性】
技术研发人员：羽场康弘，幡中伸行，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP