【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光子集成电路中的激光器对准技术相关申请本专利申请要求于2016年2月19日提交的美国临时专利申请第62/297,735号的优先权,其全部内容通过引用并入本文中。
本公开内容总体上涉及半导体激光器并且,更具体地涉及用于将半导体激光器对准光子集成电路(PIC)基板的技术。
技术介绍
硅光子芯片需要施加电流和光以便起作用。以与其他类型的硅芯片使用的方式类似的方式提供电流。然而,到目前为止,已经使用各种方法来向PIC基板提供光输入以形成PIC。用于光学耦合的主要方法是基于有源对准。使用有源对准,可以通过为激光器供电来生成光,通常在下游检测到来自激光器的能量。为了峰值光学耦合,在固定几何形状之前相对于检测器精确地移动激光器、光纤、透镜或其他中间对象。该方法需要在组装过程的早期电接触激光器,这可以使可制造性复杂化。以下是与PIC基板的光学耦合的三个示例。第一示例使用将光线带到PIC基板的光纤。该示例使用将光纤与PIC基板有源对准,这可以是耗时并且昂贵的并且可以产生易碎的组件。使用光纤还消耗了不仅用于光纤而且用于可以连接至光纤的另一端的封装半导体激光器的大量空间。第二示例与透镜和其他光学元件使用外部封装的半导体激光器二极管,如美国专利8,168,939中所公开的。虽然该示例与第一示例相比减少了使用的空间量,但是它仍然消耗太多空间,而且增加了与光学元件以及所需的组装和封装关联的成本。该示例通常还需要在对准期间激活激光器。第三示例直接与硅光子芯片使用切割或蚀刻的端面半导体激光器。该示例使整体尺寸最小化,然而,它需要将半导体激光器与硅光子芯片有源或无源对准,这是耗时的并且 ...
【技术保护点】
1.一种光子集成电路(PIC),包括:半导体激光器,其包括激光器配合表面;以及基板,其包括基板配合表面,其中,所述激光器配合表面的形状和所述基板配合表面的形状被配置成在三个维度上将所述半导体激光器与所述基板对准。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.02.19 US 62/297,7351.一种光子集成电路(PIC),包括:半导体激光器,其包括激光器配合表面;以及基板,其包括基板配合表面,其中,所述激光器配合表面的形状和所述基板配合表面的形状被配置成在三个维度上将所述半导体激光器与所述基板对准。2.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述激光器配合表面的形状和所述基板配合表面的形状被配置成当向所述半导体激光器施加外力时将所述半导体激光器与所述基板对准。3.根据权利要求2所述的PIC,其中,所述激光器配合表面的边缘被配置成当将所述半导体激光器与所述基板对准时接触所述基板配合表面。4.根据权利要求3所述的PIC,其中,所述基板的后壁被配置成当将所述半导体激光器与所述基板对准时接触所述半导体激光器的后部部分,并且所述基板的侧壁被配置成当将所述半导体激光器与所述基板对准时接触所述半导体激光器的侧表面。5.根据权利要求4所述的PIC,其中,所述半导体激光器的侧表面的一部分被配置成当将所述半导体激光器与所述基板对准时位于所述基板的间隙部分上方。6.根据权利要求2所述的PIC,其中,在从所述半导体激光器朝向所述基板的方向上施加所述外力。7.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述激光器配合表面的形状是三角形或梯形。8.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述基板配合表面的形状是三角形、梯形、正方形或矩形。9.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述激光器配合表面的第一边缘接触所述基板配合表面,并且所述激光器配合表面的第二边缘不接触所述基板配合表面。10.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述基板配合表面包括弯曲边缘,其中,所述弯曲边缘被配置成在将所述半导体激光器与所述基板对准期间散布施加到所述半导体激光器的外力。11.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述基板包括波导并且所述半导体激光器包括激光器端面,并且其中,所述波导被配置成接收离开所述激光器端面的激光束。12.根据权利要求11所述的PIC,其中,所述激光器端面成角度并且所述波导的引导边缘成角度,并且其中,所述激光器端面的角度和所述波导的所述引导边缘的角度被配置成减少所述激光束从所述波导背反射到所述激光器端面中。13.根据权利要求12所述的PIC,其中,所述激光器端面和所述波导的所述引导边缘在相同方向上成角度。14.根据权利要求12所述的PIC,其中,所述激光器端面在竖直方向或水平方向上成角度。15.根据权利要求1所述的PIC,其中,所述半导体激光器包括被配置成与所述基板形成电连接的接触表面,并且所述基板还包括被配置成容纳所述半导体激光器的着陆区域,所述着陆区域包括:所述基板配合表面;以及接触垫,其被配置成电连接至所述半导体激光器的所述接触表面。16.根据权利要求15所述的PIC,其中,焊料位于所述接触垫与所述半导体激光器的所述接触表面之间。17.根据权利要求15所述的PIC,其中,所述着陆区域还包括:焊料层,其位于所述接触垫上;以及溢流区域,其被配置成从位于所述接触垫上的所述焊料层接收焊料。18.根据权利要求17所述的PIC,其中,所述溢流区域被配置成通过从所述焊料层拉动所述焊料远离所述接触垫来接收所述焊料。19.根据权利要求18所述的PIC,其中,所述溢流区域相对于所述接触垫垂直地成角度。20.一种制造光子集成电路(PIC)的方法,所述方法包括:将半导体激光器布置在基板上,所述半导体激光器包括激光器配合表面并且所述基板包括基板配合表面;以及使用所述激光器配合表面的形状和所述基板配合表面的形状在三个维度上将所述半导体激光器与所述基板对准。21.根据权利要求20所述的方法,还包括:在从所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷·海明威,克里斯蒂安·斯塔加雷斯库,丹尼尔·梅罗维奇,马尔科姆·R·格林,沃尔夫冈·帕尔兹,日基·马,理查德·罗伯特·格日博夫斯基,纳森·比克尔,
申请(专利权)人:镁可微波技术有限公司,
类型:发明
国别省市:美国,US
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