一种硅片清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种硅片清洗装置，包括底座，所述底座为矩形空腔结构，所述底座的底端内壁的中间位置安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴末端贯穿底座的顶端侧壁且连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端连接有放置板，所述底座的顶端侧壁设置有集水板，所述底座的顶端侧壁设置有环形轨道，所述环形轨道内活动安装有两个移动装置，两个移动装置位于环形轨道的两侧，所述移动装置上连接有支撑杆，两根支撑杆远离移动装置的一端连接有放置板。本实用新型专利技术结构简单，设计新颖，清洗效果更好，可以同时实现清洗和烘干两个功能，不需要分步进行，省时省力，同时可以对多个硅片进行清洗，简单方便，值得推广。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗装置
本技术涉及清洗装置
，尤其涉及一种硅片清洗装置。
技术介绍
随着科学技术的发展，硅片的应用越来越广，在各种领域中都得到了应用，半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维，无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等，严重影响少数载流子寿命和表面电导；碱金属如钠等，引起严重漏电；颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等，会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种，硅片清洗时需要用到清洗装置，但是现有技术中的清洗装置普遍存在以下几点缺陷：1、清洗效率低下，无法将硅片的清洗过程生产线化，通常都是将硅片一起直接放置在清洗装置内，同一洗好后取出，然后再放置下一批硅片，十分浪费时间；2、待硅片清洗取出后还要对硅片进行甩干，先清洗后甩开的方式操作起来比较浪费人力和时间。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种硅片清洗装置。为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：一种硅片清洗装置，包括底座，所述底座为矩形空腔结构，所述底座的底端内壁的中间位置安装有驱动电机，所述驱动电机的输出轴末端贯穿底座的顶端侧壁且连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端连接有放置板，所述底座的顶端侧壁设置有集水板，所述底座的顶端侧壁设置有环形轨道，所述环形轨道内活动安装有两个移动装置，两个移动装置位于环形轨道的两侧，所述移动装置上连接有支撑杆，两根支撑杆远离移动装置的一端连接有放置板，所述放置板的上表面圆周阵列设置有放置槽，所述底座上表面两侧对称安装有固定杆，两根固定杆之间固定有固定板，所述固定板上表面两侧对称设置有水箱，所述水箱上设置有清洗装置，所述固定板的上表面中间位置安装有风机，所述固定板下表面的中间位置固定有安装架，所述安装架上安装有电热条。优选的，所述集水板为环形结构，且集水板位于环形轨道的内部，集水板沿圆周方向设置有凹槽。优选的，所述移动装置上有移动轮和安装板，移动轮通过轴承安装在安装板上，且移动轮活动安装在环形轨道上，安装板连接有支撑杆。优选的，所述放置槽位于集水板的正上方，且放置槽的底端侧壁上均匀设置有通水孔。优选的，所述清洗装置包括水管和喷嘴，水管的一端连接有水箱，另一端连接有喷嘴，喷嘴沿水管长度方向等距离设置，水管上设置有水泵。与现有技术相比，本技术的有益效果是：将硅片放置在放置槽内，通过驱动电机和转轴带动放置板转动，利用清洗装置和风机对硅片进行清洗和烘干，硅片随着放置板的转动而移动，通过两个清洗装置可以清洗两次，清洗效果更好，清洗完成后直接将硅片取下，然后放置下一块硅片进行清洗，省时省力，同时可以对多个硅片进行清洗，简单方便，值得推广。本技术结构简单，设计新颖，清洗效果更好，可以同时实现清洗和烘干两个功能，不需要分布进行，省时省力，同时可以对多个硅片进行清洗，简单方便，值得推广。附图说明图1为本技术提出的一种硅片清洗装置的结构示意图；图2为本技术提出的一种硅片清洗装置的放置板的俯视图。图中：1底座、2驱动电机、3转轴、4放置板、5集水板、6环形轨道、7移动装置、8支撑杆、9固定杆、10固定板、11水箱、12清洗装置、13风机、14安装架、15电热条、16放置槽。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。参照图1-2，一种硅片清洗装置，包括底座1，底座1为矩形空腔结构，底座1的底端内壁的中间位置安装有驱动电机2，驱动电机2的输出轴末端贯穿底座1的顶端侧壁且连接有转轴3，转轴3远离驱动电机2的一端连接有放置板4，底座1的顶端侧壁设置有集水板5，集水板5为环形结构，且集水板5位于环形轨道6的内部，集水板5沿圆周方向设置有凹槽，底座1的顶端侧壁设置有环形轨道6，环形轨道6内活动安装有两个移动装置7，两个移动装置7位于环形轨道6的两侧，移动装置7上连接有支撑杆8，移动装置7上有移动轮和安装板，移动轮通过轴承安装在安装板上，且移动轮活动安装在环形轨道6上，安装板连接有支撑杆8，两根支撑杆8远离移动装置7的一端连接有放置板4，放置板4的上表面圆周阵列设置有放置槽16，放置槽16位于集水板5的正上方，且放置槽的底端侧壁上均匀设置有通水孔，底座1上表面两侧对称安装有固定杆9，两根固定杆9之间固定有固定板10，固定板10上表面两侧对称设置有水箱11，水箱11上设置有清洗装置12，清洗装置12包括水管和喷嘴，水管的一端连接有水箱，另一端连接有喷嘴，喷嘴沿水管长度方向等距离设置，水管上设置有水泵，固定板10的上表面中间位置安装有风机13，固定板10下表面的中间位置固定有安装架14，安装架14上安装有电热条15，本技术结构简单，设计新颖，清洗效果更好，可以同时实现清洗和烘干两个功能，不需要分布进行，省时省力，同时可以对多个硅片进行清洗，简单方便，值得推广。工作原理：在清洗硅片时，将硅片一次放置在放置槽16内，然后打开驱动电机2，通过转轴3，带动放置板4通过支撑杆8和移动装置7在环形轨道6内进行圆周运动，打开清洗装置12的水泵、风机13和电热条15，利用清洗装置12的喷头对硅片进行清洗，清洗的污水通过放置槽16上的通水孔进入集水板5内，利用风机13和电热条15，对硅片进行烘干，通过两个清洗装置12可以清洗两次，清洗效果更好，清洗完成后直接将硅片取下，然后放置下一块硅片进行清洗，省时省力，同时可以对多个硅片进行清洗，简单方便，值得推广。以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本
的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其技术构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种硅片清洗装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)为矩形空腔结构，所述底座(1)的底端内壁的中间位置安装有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)的输出轴末端贯穿底座(1)的顶端侧壁且连接有转轴(3)，所述转轴(3)远离驱动电机(2)的一端连接有放置板(4)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有集水板(5)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有环形轨道(6)，所述环形轨道(6)内活动安装有两个移动装置(7)，两个移动装置(7)位于环形轨道(6)的两侧，所述移动装置(7)上连接有支撑杆(8)，两根支撑杆(8)远离移动装置(7)的一端连接有放置板(4)，所述放置板(4)的上表面圆周阵列设置有放置槽(16)，所述底座(1)上表面两侧对称安装有固定杆(9)，两根固定杆(9)之间固定有固定板(10)，所述固定板(10)上表面两侧对称设置有水箱(11)，所述水箱(11)上设置有清洗装置(12)，所述固定板(10)的上表面中间位置安装有风机(13)，所述固定板(10)下表面的中间位置固定有安装架(14)，所述安装架(14)上安装有电热条(15)。

【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)为矩形空腔结构，所述底座(1)的底端内壁的中间位置安装有驱动电机(2)，所述驱动电机(2)的输出轴末端贯穿底座(1)的顶端侧壁且连接有转轴(3)，所述转轴(3)远离驱动电机(2)的一端连接有放置板(4)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有集水板(5)，所述底座(1)的顶端侧壁设置有环形轨道(6)，所述环形轨道(6)内活动安装有两个移动装置(7)，两个移动装置(7)位于环形轨道(6)的两侧，所述移动装置(7)上连接有支撑杆(8)，两根支撑杆(8)远离移动装置(7)的一端连接有放置板(4)，所述放置板(4)的上表面圆周阵列设置有放置槽(16)，所述底座(1)上表面两侧对称安装有固定杆(9)，两根固定杆(9)之间固定有固定板(10)，所述固定板(10)上表面两侧对称设置有水箱(11)，所述水箱(11)上设置有清洗装置(12)，所述固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕海强，郑安，黄杨康，
申请(专利权)人：浙江金乐太阳能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33