The invention provides a substrate processing system and a cost calculation system suitable for serving the pharmaceutical solution used in the substrate manufacturing as the best state. In the baseboard processing system, the baseboard processing mechanism (1), the medicinal liquid modulating mechanism (3), and the medicinal liquid regeneration mechanism (4), which regenerates the medicinal liquid after use, are connected by piping. Pharmaceutical solution management body (2) Determines the concentration of the liquid of the substrate treatment body and supplements the original, new and regenerated liquid of the liquid, and manages the liquid as the optimum concentration. Supplementary fluid supplied is measured by a cumulative flowmeter (51-55) equipped with piping. In the processing cost calculation system (5) of the baseboard, the cumulative flowmeter and server system (502) with communication function are connected with the network (501). The cumulative traffic is received and stored by the server system via the network. The server system has an operation unit (505) that calculates the cost based on the cumulative flow of each cumulative flowmeter and the specified period.
【技术实现步骤摘要】
基板处理系统以及基板的处理费用计算系统
本专利技术涉及使用在半导体或者液晶显示器基板的制造工序中反复使用的各种药液进行基板的处理的基板处理系统、以及对使用该基板处理系统实施的基板的处理所涉及的基板处理费用进行计算的基板的处理费用计算系统。
技术介绍
在半导体或者液晶显示器基板的制造工序中,例如,使用有显影液、蚀刻液、剥离液、防带电剂、清洗液等各种药液。这些药液(以下,在无需具体区别这些药液的情况下将这些药液统一称作“药液”。)被维持管理为根据需要的规定的浓度而使用,以便使其性能最大限度地发挥作用。药液的浓度管理通过药液的浓度的监视和基于测定出的浓度进行的补充液的补给来完成。作为所补给的补充液,除了药液的原液、纯水之外,还使用新调制出的药液(以下也称作“新液”。)、再生处理为能够再利用的药液(以下也称作“再生液”。)等。以往,使用药液对基板进行处理的人(以下有时称作“基板制造者”。)为了维持管理药液的浓度而购入并使用药液的浓度管理装置。基板制造者必须调配药液的原液、新液等来作为为了管理药液的浓度而补给的补充液。基板制造者在自身调制药液的新液时,必须购入用其原料自动地对药液进行调制的药液调制装置并运用该药液调制装置。另外,基板制造者在自身准备再生液时,必须购入将使用后的药液再生处理为能够再利用的药液的再生处理装置。作为药液的浓度管理装置,例如公开有以下的专利文献。在专利文献1中,公开有对显影液的碱浓度和溶解树脂浓度进行管理的显影液浓度管理装置。另外,在专利文献2中,公开有对酸浓度和溶解铟浓度进行管理的蚀刻液管理装置。作为药液的再生处理装置,例如,在专利文献3中 ...
【技术保护点】
1.一种基板处理系统,其中,所述基板处理系统具备:基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;药液管理机构,其对在所述基板处理机构反复使用的所述药液的浓度进行管理;以及配管,其与所述基板处理机构连接,将由所述药液管理机构向所述药液供给的补充液输送至所述基板处理机构,在所述配管中配备有累计流量计。
【技术特征摘要】
2017.05.26 JP 2017-1046221.一种基板处理系统,其中,所述基板处理系统具备:基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;药液管理机构,其对在所述基板处理机构反复使用的所述药液的浓度进行管理;以及配管,其与所述基板处理机构连接,将由所述药液管理机构向所述药液供给的补充液输送至所述基板处理机构,在所述配管中配备有累计流量计。2.根据权利要求1所述的基板处理系统,其中,所述基板处理系统还具备:药液调制机构,其将所述药液调制为新液;以及新液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液调制机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液调制机构调制出的所述新液,在所述新液用配管中配备有累计流量计。3.根据权利要求2所述的基板处理系统,其中,所述基板处理系统还具备:药液再生机构,其将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液;以及再生液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液再生机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液再生机构再生后的所述再生液,在所述再生液用配管中配备有累计流量计。4.根据权利要求1所述的基板处理系统,其中,所述基板处理系统还具备:药液再生机构,其将在所述基板处理机构使用后的所述药液再生为能够再利用的再生液;以及再生液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液再生机构连接,通过所述药液管理机构向在所述基板处理机构反复使用的药液供给由所述药液再生机构再生后的所述再生液,在所述再生液用配管中配备有累计流量计。5.根据权利要求1~4中任一项所述的基板处理系统,其中,所述累计流量计具备通信功能。6.一种基板处理系统,其中,所述基板处理系统具备:基板处理机构,其使用药液对基板进行处理;药液调制机构,其将所述药液调制为新液;以及新液用配管,其与所述基板处理机构及所述药液调制机构连接,将由所述药液调制机...
【专利技术属性】
技术研发人员:中川俊元,
申请(专利权)人:株式会社平间理化研究所,
类型:发明
国别省市:日本,JP
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