可回火三层防反射涂层、包括可回火三层防反射涂层的涂层制品和/或制作其的方法技术

涂层制品包括可回火防反射(AR)涂层，该涂层利用在AR涂层中具有残余压应力的中间折射率和低折射率(折射率“n”)层。在某些示例性实施例中，涂层从玻璃基板向外可包括以下层：氧氮化硅(SiOxNy)中间折射率层/高折射率层/低折射率层。在某些示例性实施例中，根据高折射率层和基板的化学和光学性质，AR涂层的中间折射率层和低折射率层被选出以造成净的残余压应力，从而在涂层制品被回火和/或加热处理时优化防反射涂层的整体性能。

【技术实现步骤摘要】
可回火三层防反射涂层、包括可回火三层防反射涂层的涂层制品和/或制作其的方法相关申请的交叉引用本专利申请为美国专利申请序列第12/923146号的部分后续(CIP)，在此通过引用将其全部内容纳入。专利
本专利技术的某些示例性实施例涉及一种包括可回火防反射涂层的涂层制品，和/或制作其的方法。在某些示例性实施例中，可回火防反射(AR)涂层利用SiOxNy作为涂层的中间折射率层。在某些示例性实施例中，涂层从玻璃基板向外可包括以下层：作为中间折射率层的氧氮化硅(如SiOxNy)中间折射率层/作为高折射率层的钛氧化物(如TiOx)/作为低折射率层的氧化硅(如SiOx)。在某些示例性实施例中，在每一层中的应力的厚度和/或类型可以被优化以产生可回火三层防反射涂层。专利技术背景及示例性实施例综述在本
中，防反射(AR)涂层为人熟知。例如，可见范围内的AR涂层被广泛应用在电子、照明、电气用具、建筑学和显示应用中的玻璃上。各种技术都可用于减少来自空气的可见光照向或穿过玻璃表面的反射。一种将薄材料层应用在玻璃基板表面的技术将薄层插入玻璃基板和空气之间。最佳情况下，薄层的折射率等于可见光通过空气的折射率和可见光通过玻璃基板的折射率的平方根。然而实现这一最佳折射率很难。此外，在许多这类应用程序中，玻璃的回火或热强化可能是必需的。玻璃的回火或热强化有时在AR涂层沉积之前进行，以避免为了回火和其他高温处理形式而将涂层暴露在高温下导致的涂层不可取的光学、机械或美学质量变化。然而，该“先回火后涂覆”的方法在某些情况下可能也是不可取的。此外，先涂覆后回火的技术可能会造成额外的问题。当玻璃被涂覆然后回火的时候，回火过程可能会导致整个玻璃产品的不良光学瑕疵。例如色移，或ΔE，玻璃涂层产品在回火过程中可能导致玻璃着色而无法使用。此外，在回火前和回火后之间保持带有AR涂层的基板的光学特性是可取的(例如AR涂层可被应用于不止一个情况下)。因此，应当认识到，本技术中需要改进涂层制品如窗户和类似物品的防反射(AR)涂层(例如可回火AR涂层)。在某些示例性实施例中，提供了一种涂层制品，其包括由基板主表面支承的防反射涂层，基板与防反射涂层一同通过热处理，所述防反射涂层按从基板移离的次序包括：中间折射率层，其包括氮氧化硅并在380nm、550nm和780nm波长处具有约1.65至2.0的折射率，高折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有至少约2.0的折射率，和低折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有约1.4至1.6的折射率，所述中间折射率层在高温处理后具有残余压应力。在某些示例性实施例中，提供了一种可热处理的涂层制品，所述涂层制品包括：由基板主表面支承的防反射涂层，所述防反射涂层按从基板移离的次序包括：含氮氧化硅的中间折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有约1.65至2.0的折射率，高折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有比中间折射率层高的折射率，和低折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有比中间折射率层低的折射率，其中中间折射率层和低折射率层在任何高温处理后都具有残余压应力，高折射率层在任何高温处理后都具有残余拉应力，且防反射涂层具有净残余压应力。在某些示例性实施例中，提供了一种可热处理的涂层制品，所述涂层制品包括：由基板主表面支承的防反射涂层，所述防反射涂层按从基板移离的次序包括：硅包容性中间折射率层，其在550nm和780nm波长处具有1.8或低于1.8的折射率并在380nm波长处具有2.0或低于2.0的折射率，高折射率层，其在380nm、550nm和780nm波长处具有比中间折射率层高的折射率，所述高折射率层的厚度不超过约20nm，且低折射率层在380nm、550nm和780nm波长处具有具有比中间折射率层低的折射率，且中间折射率层和低折射率层具有残余压应力，高折射率层具有残余拉应力，且防反射涂层具有净残余压应力。在某些示例性实施例中，提供了一种制作具有三层防反射涂层的涂层制品的方法，所述方法包括：直接或间接地在玻璃基板上安置中间折射率层；在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层；在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层；和对上安置有防反射涂层的玻璃基板进行热处理，其中所述涂层制品具有净残余压应力。在某些示例性实施例中，提供了一种制作涂层制品的方法。提供玻璃基板。直接或间接地在基板的第一主表面上安置硅包容性中间折射率层。在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度。在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层。对上安置有中间折射率层、高折射率层、低折射率层的基板进行热处理。所述涂层制品在沉积态和热处理态之间具有小于3的ΔE*值。在某些示例性实施例中，提供了一种制作涂层制品的方法。提供玻璃基板。直接或间接地在基板的第一主表面上安置硅包容性中间折射率层。在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度。在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层。所述涂层制品是可热处理的，以便具有小于3的ΔE*值。在某些示例性实施例中，提供了一种涂层制品，其包括由基板的第一主表面支承的防反射涂层。按从基板移离的次序，所述防反射涂层包括：直接或间接地在基板的第一主表面上安置的硅包容性中间折射率层；在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置的高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；和在高折射率层之上并接触高折射率层安置的低折射率层。所述涂层制品是可热处理的，以便具有小于3的ΔE*值。根据某些示例性实施例，基板的第二主表面可支承防反射涂层，所述防反射涂层按从基板移离的次序包括：直接或间接地在基板的第二主表面上安置的第二硅包容性中间折射率层；在第二中间折射率层之上并接触第二中间折射率层安置的第二高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；在第二高折射率层之上并接触第二高折射率层安置的第二低折射率层。所述的所有层在任何热处理之前被安置在基板上。在此类示例性实施例中，ΔE*值可小于2，有时小于或等于约1.5。此处描述的特征、方面、优势和示例性实施例可被结合起来以进一步实现更多的实施例。附图简述这些和其他特征和优势可通过结合附图参考如下示例性示意性实施例的详细描述获得更好、更完整的理解：图1是大致根据本专利技术的某些示例性实施例的三层可回火AR涂层的示例；图2是根据本专利技术的某些示例性实施例制作的最佳三层可回火AR涂层的示例；图3是根据本专利技术的某些示例性实施例制作的两面可回火AR涂层的示例；图4是暴露在回火环境之前和之后的AR涂层的第一表面反射性对比的图表；图5是示出与用于颜色计算的三色刺激值相比的沉积中和回火态之间的反射性变化的图表；图6是示出根据本专利技术的某些示例性实施例制作的AR涂层的涂层可见传输和颜色特性的表；图7是示出根据本专利技术的某些示例性实施例制作的AR涂层暴露在650摄氏度下10分钟后产生的光学特质的表；图8是示出与沉积中和热处理后和/或回火后可在不同层产生的压应力和拉应力的示例的表；图9是示出具有不同钛氧化物厚度的涂层的残余压力的图表；图10是示出根本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种制作涂层制品的方法，所述方法包括以下步骤：提供玻璃基板；直接或间接地在基板的第一主表面上安置硅包容性中间折射率层；在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层；和对上安置有中间折射率层、高折射率层、低折射率层的基板进行热处理，其中，所述涂层制品在沉积态和热处理态之间具有小于3的ΔE*值。

【技术特征摘要】
2010.10.08 US 12/923,8381.一种制作涂层制品的方法，所述方法包括以下步骤：提供玻璃基板；直接或间接地在基板的第一主表面上安置硅包容性中间折射率层；在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层；和对上安置有中间折射率层、高折射率层、低折射率层的基板进行热处理，其中，所述涂层制品在沉积态和热处理态之间具有小于3的ΔE*值。2.如权利要求1所述的方法，其中：所述中间折射率层包括氮氧化硅，并在380nm处具有约1.8至2.0的折射率，在550nm处具有约1.7至1.8的折射率，在780nm处具有约1.65至1.8的折射率；所述高折射率层包括钛的氧化物，并在380nm处具有约2.7至2.9的折射率，在550nm处具有约2.3至2.5的折射率，在780nm处具有约2.2至2.4的折射率；且所述低折射率层包括硅的氧化物，并在380nm处、550nm处、780nm处具有约1.45至1.55的折射率。3.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述低折射率层包括氧化硅。4.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述中间折射率层包括氮氧化硅并在550nm处具有约1.7至1.8的折射率。5.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述高折射率层包括钛的氧化物并具有约95至105nm之间的厚度。6.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中：所述中间折射率层由氮氧化硅组成，并在550nm处具有约1.7至1.8的折射率，所述高折射率层包括钛的氧化物，并具有约95至105nm之间的厚度，且所述低折射率层包括氧化硅或由氧化硅组成。7.如前述权利要求中任何一项所述的方法，进一步包括以下步骤：直接或间接地在基板的第二主表面上安置第二硅包容性中间折射率层；在第二中间折射率层之上并接触第二中间折射率层安置第二高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；和在第二高折射率层之上并接触第二高折射率层安置第二低折射率层，其中，所述第二中间折射率层、第二高折射率层、第二低折射率层在所述热处理之前被安置在基板上。8.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述涂层制品在沉积态和热处理态之间具有小于2的ΔE*值。9.如前述权利要求中任何一项所述的方法，其中，所述涂层制品在沉积态和热处理态之间具有小于或等于约1.5的ΔE*值。10.一种制作涂层制品的方法，所述方法包括以下步骤：提供玻璃基板；直接或间接地在基板的第一主表面上安置硅包容性中间折射率层；在中间折射率层之上并接触中间折射率层安置高折射率层，所述高折射率层具有至少85nm的厚度；和在高折射率层之上并接触高折射率层安置低折射率层，其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：大卫·M·布罗德韦，陆毅伟，
申请(专利权)人：葛迪恩实业公司，
类型：发明
国别省市：美国,US