用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置(1)。该装置(1)包括沉积室(100)、雾化源(10)和用于液体的储液器(20)，其中该储液器(20)设置于沉积室(100)中。该储液器(20)包括从沉积室(100)的侧壁(102)向上延伸至沉积空间(200)中的倾斜外壁(21)，使得该储液器(20)形成于侧壁(102)和倾斜外壁(21)之间；并且沉积室(100)中设置有用于从沉积空间(200)中排出多余气溶胶的气溶胶出口(30)。根据本实用新型专利技术的装置，无论所涉及的沉积室的尺寸如何，使得气溶胶沉积都是均匀的。并且，由装置生成的气溶胶可以有效地分布，并使得基底的表面上的涂层均匀。

A device for generating aerosols from one or more liquid precursors

The utility model relates to a device (1) for generating aerosols from one or more liquid phase precursors. The device (1) comprises a deposition chamber (100), an atomization source (10) and a liquid reservoir (20) for liquids, wherein the liquid reservoir (20) is arranged in the deposition chamber (100). The reservoir (20) comprises an inclined outer wall (21) extending upward from the side wall (102) of the deposition chamber (100) to the inclined outer wall (200) of the deposition space (200), so that the reservoir (20) is formed between the side wall (102) and the inclined outer wall (21); and the deposition chamber (100) is provided with an aerosol outlet (30) for discharging excess aerosols from the deposition space (200). According to the device of the utility model, the aerosol deposition is uniform regardless of the size of the deposition chamber involved. Moreover, the aerosol generated by the device can be effectively distributed and the coating on the surface of the substrate can be uniform.

【技术实现步骤摘要】
用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置
本技术涉及用于生成气溶胶的装置，更特别地，涉及用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置。
技术介绍
本技术涉及用于生成气溶胶的装置，其中术语“气溶胶”意为液体微滴的细雾。本技术还涉及用于以在沉积室中生成的气溶胶在沉积室中涂覆基底的装置。在现有技术中，用于涂覆基底的装置通常为具有这样的沉积室的装置，在该沉积室中，气溶胶射流被引向基底，使得气溶胶射流的微滴被引至待涂覆的基底的表面。这种类型的涂覆通过设置面向待涂覆的基底的表面的雾化器使得气溶胶射流被引向基底的表面上的第一碰撞点、并且随后气溶胶在基底的表面上行进至第二点而实现，在第二点处，尚未参与涂覆过程的气溶胶被移除。与上述布置相关的缺点是涂层不均匀并且可能因来自雾化器的气溶胶的不均匀分布而在基底的表面上包括条带式效果。同样已知的是，来自于雾化器的气溶胶射流形成具有沉降物区域的沉降物，并且薄膜仅会生成于基底的位于沉降物区域下方的那一部分，因此并非遍及整个基底表面。
技术实现思路
本技术的目的在于提供用于生成气溶胶的装置，该装置使气溶胶在基底的表面上均匀分布，使得基底表面上的涂层均匀且无瑕疵。本技术的另一目的在于提供这样的装置，其控制气溶胶在较大沉积室中的分布，使得在基底的整个表面上的沉积是均匀的。本技术的目的通过具有下述特征的、用于生成气溶胶的装置实现。以下还公开了本技术的优选实施方式。本技术基于以下构思，即提供用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置以及设置使得所生成的气溶胶在沉积室中循环以在基底的表面上提供均匀的涂层的结构。该装置包括沉积室、雾化源、储液器以及气溶胶出口。在本申请中，术语“气溶胶”除了仅意指气溶胶外还意指作为悬浮于空气中的液体微滴的集合的雾。气溶胶指的是细小的液体微滴在气体中的悬浮液，但在本文中也指涉及含有液体颗粒的混合物的雾，但雾中的液体颗粒的平均尺寸大于气溶胶。液体微滴可能含有一些固体颗粒。在根据本技术的装置中，沉积室包括顶壁和自顶壁延伸的至少一个侧壁并且形成沉积空间。沉积室中设置有雾化源以雾化液相先驱体。根据本技术的装置还包括用于液体的储液器，该储液器包括从沉积室的侧壁向上延伸到沉积空间中的倾斜外壁，使得储液器于侧壁和倾斜外壁之间形成。根据本技术的装置还包括用于从沉积空间中排出多余气溶胶的、设置于沉积室中的气溶胶出口。在本技术的优选实施方式中，储液器在沉积室中设置为使得在雾化源中形成的气溶胶首先沉积到储液器上，进而使得其散布到整个储液器中，并且当储液器充满时，则气溶胶朝向沉积室的底部下落到待涂覆的基底的表面。来自于储液器的气溶胶沿储液器的倾斜外壁而行，使得其以可控制的方式朝向基底下落。在本申请中，气溶胶射流是指至少一种液体的液体微滴和至少一种气体的混合物的射流。在本技术的优选实施方式中，雾化源包括具有用于生成第一气溶胶射流的第一排出口的第一雾化器、具有用于生成第二气溶胶射流的第二排出口的第二雾化器以及在第一排出口和第二排出口之间延伸的雾化区带。第一雾化器和第二雾化器形成雾化器对，使得第一雾化器的第一排出口和第二雾化器的第二排出口朝向彼此对齐，进而使得经排出口排出的第一气溶胶射流和第二气溶胶射流互相碰撞从而在雾化区带生成气溶胶平面。来自气溶胶喷射流的压力导致气溶胶大部分沿垂直于气溶胶射流的方向的平面远离碰撞点而离开。然而，由于气体分子的惯性较低，部分气体分子沿与气溶胶射流相反的方向返回气溶胶射流附近处，从而在靠近每个雾化器的表面处引起轻微的反向的气体流。当两个雾化的气溶胶射流以使它们撞向彼此的方式取向时，生成具有更小微滴的气溶胶。换句话说，在碰撞中，较大的微滴分裂成较小的微滴。在根据本技术的优选实施方式的装置中，第一雾化器用于生成第一雾化的气溶胶射流，第二雾化器用于生成第二雾化的气溶胶射流。雾化的气溶胶射流由一种或多种液相先驱体生成并且经雾化器中的排出口从雾化器中排出。第一雾化器和第二雾化器共同形成雾化器对，使得雾化器朝向彼此对齐从而使气溶胶射流互相碰撞。在本技术的优选实施方式的装置中，储液器在沉积室中设置于雾化源的下方，使得储液器在竖向上位于雾化区带的正下方。在本技术的优选实施方式的装置中，气溶胶出口设置成在沉积室的竖向方向上高于第一雾化器的第一排出口和第二雾化器的第二排出口。在本技术的优选实施方式的装置中，沉积室包括彼此相对的第一侧壁和第二侧壁，储液器的倾斜外壁自第一侧壁延伸，并且气溶胶出口在第二侧壁上沿沉积室的竖向方向设置为高于储液器的倾斜外壁。在本技术的优选实施方式的装置中，气溶胶出口设置于沉积室的顶壁上。在本技术的优选实施方式的装置中，沉积室包括用于基底进入沉积室的第一开口和用于基底离开沉积室的第二开口，基底在第一开口和第二开口之间的区域中以通过雾化源生成的气溶胶进行涂覆。在本技术的优选实施方式的装置中，储液器的倾斜外壁具有边缘尖锐的末端。在本技术的优选实施方式的装置中，沉积室的顶壁包括上壁部和下壁部，上壁部和下壁部通过在上壁部和下壁部之间延伸的倾斜壁部连接在一起。在本技术的优选实施方式的装置中，雾化源连接至下壁部并且从下壁部向下延伸至沉积空间。在本技术的优选实施方式的装置中，下壁部与倾斜壁部之间的连接点设置成在竖向上位于储液器的倾斜外壁与沉积室的突出有倾斜外壁的侧壁之间的区域的正上方。在本技术的优选实施方式的装置中，沉积室包括用于引导液体微滴沿储液器的倾斜外壁的外表面流动的出口，出口在沉积室的与储液器的倾斜外壁相同的侧壁上、沿沉积室的竖向方向设置为低于倾斜外壁。在本技术的另一实施方式中，雾化源是设置为用以提供朝向储液器的气溶胶射流的单一雾化器。在本技术的又一实施方式的装置中，雾化源是设置为与储液器相连的超声谐振器。在本技术的优选实施方式的装置中，雾化源为设置为与储液器相连并且设置为使储液器中的液体振动以形成至液体的表面的雾化液体流的超声谐振器。本技术的优点在于，无论所涉及的沉积室的尺寸如何，由于装置的结构，使得气溶胶沉积都是均匀的。本技术的另一优点在于，由装置生成的气溶胶可以有效地分布，并使得基底的表面上的涂层均匀。附图说明借助具体实施方式并参照所附的附图对本技术进行了详细描述，其中：图1示出了根据本技术的装置的第一实施方式；图2示出了根据本技术的装置的第二实施方式；图3示出了处于操作模式下的图2所示的第二实施方式；图4示出了图2所示的技术的细节；图5示出了根据本技术的装置的第三实施方式；图6示出了根据本技术的装置的第四实施方式；图7示出了根据本技术的装置的第五实施方式；以及图8示出了根据本技术的装置的第六实施方式。具体实施方式图1示出了根据本技术的装置1，该装置1用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶，并且包括沉积室100，其中沉积室100包括顶壁101和延伸自顶壁的至少一个侧壁102并且形成沉积空间200。装置1还包括设置于沉积室100中的雾化源10。雾化源10设置于沉积室100的上部上。在本技术的该实施方式中，雾化源10包括具有用于生成第一气溶胶射流的第一排出口11a的第一雾化器11、具有用于生成第二气本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)包括：沉积室(100)，所述沉积室包括顶壁(101)和自所述顶壁延伸的至少一个侧壁(102)，并且所述沉积室形成沉积空间(200)；雾化源(10)，所述雾化源设置在所述沉积室(100)中，用于雾化液相先驱体；用于液体的储液器(20)，所述储液器(20)包括倾斜外壁(21)，所述倾斜外壁从所述沉积室(100)的所述侧壁(102)向上延伸至所述沉积空间(200)中，使得所述储液器(20)形成于所述侧壁(102)和所述倾斜外壁(21)之间；以及气溶胶出口(30)，所述气溶胶出口设置在所述沉积室(100)中，用于从所述沉积空间(200)中排出多余的气溶胶。

【技术特征摘要】
2017.02.08 FI 201770111.一种用于由一种或多种液相先驱体生成气溶胶的装置(1)，其特征在于，所述装置(1)包括：沉积室(100)，所述沉积室包括顶壁(101)和自所述顶壁延伸的至少一个侧壁(102)，并且所述沉积室形成沉积空间(200)；雾化源(10)，所述雾化源设置在所述沉积室(100)中，用于雾化液相先驱体；用于液体的储液器(20)，所述储液器(20)包括倾斜外壁(21)，所述倾斜外壁从所述沉积室(100)的所述侧壁(102)向上延伸至所述沉积空间(200)中，使得所述储液器(20)形成于所述侧壁(102)和所述倾斜外壁(21)之间；以及气溶胶出口(30)，所述气溶胶出口设置在所述沉积室(100)中，用于从所述沉积空间(200)中排出多余的气溶胶。2.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述雾化源(10)包括：第一雾化器(11)，所述第一雾化器具有用于生成第一气溶胶射流的第一排出口(11a)；第二雾化器(12)，所述第二雾化器具有用于生成第二气溶胶射流的第二排出口(12a)；以及雾化区带(13)，所述雾化区带在所述第一排出口(11a)和所述第二排出口(12a)之间延伸，所述第一雾化器(11)和所述第二雾化器(12)形成雾化器对，使得所述第一雾化器(11)的所述第一排出口(11a)和所述第二雾化器(12)的所述第二排出口(12a)朝向彼此对齐，进而使得经所述第一排出口(11a)和所述第二排出口(12a)排出的所述第一气溶胶射流和所述第二气溶胶射流互相碰撞以在所述雾化区带(13)中生成气溶胶平面(14)，并且所述储液器(20)在所述沉积室(100)中设置于所述雾化源(10)的下方，使得所述储液器(20)在竖向上位于所述雾化区带(13)的正下方。3.根据权利要求2所述的装置(1)，其特征在于，所述气溶胶出口(30)设置成在所述沉积室(100)的竖向方向上高于所述第一雾化器(11)的所述第一排出口(11a)和所述第二雾化器(12)的所述第二排出口(12a)。4.根据权利要求1所述的装置(1)，其特征在于，所述沉积室(100)包括彼此相对的第一侧壁(102a)和第二侧壁(102b)，所述储液器(20)的所述倾斜外壁(21)自所述第一侧壁(102a)延伸，并且所述气溶胶出口(30)在所述第二侧壁(102b)上沿所...

【专利技术属性】
技术研发人员：K·阿西卡拉，S·塔梅拉，T·梅泰，
申请(专利权)人：BENEQ有限公司，
类型：新型
国别省市：芬兰,FI