The silicon wafer detection method of the present invention is used for detecting and identifying silicon wafers with micro-crack defects, including: placing the silicon wafer to be tested in the silicon wafer bearing device; heat treating the silicon wafer bearing device; cooling the aforementioned heat treated silicon wafer to be tested; and detecting whether the cooling silicon wafer to be tested has micro-crack defects. The silicon wafer bearing device for the silicon wafer detection method comprises a handle and a bearing frame for placing the silicon wafer to be measured, on which an integral gear for inserting the silicon wafer to be measured is provided. The silicon wafer detection method of the invention has the advantages of simple operation, easy implementation, low implementation cost, cheap auxiliary materials, high detection efficiency and stronger flexibility. The surface of the insert part of the silicon wafer bearing device of the present invention has straight-line arrays, which are used to insert the silicon wafer to be measured. The material of the insert part and the rod body part are the same to ensure that the contact heat transfer does not occur because of the different materials in the thermal stress experiment; the insert part contacts the silicon wafer as a point, so as to ensure the uniform heating of the silicon wafer. Sex.
【技术实现步骤摘要】
硅片检测方法及其所用的硅片承载装置
本专利技术属于光伏太阳能电池硅片缺陷检测
,具体涉及一种硅片检测方法,还涉及一种用于上述检测方法的硅片承载装置。
技术介绍
在全球经济突飞猛进的今天,能源和环境一直是困扰世界各国发展的主要问题。煤炭、石油、天然气等作为人类目前生产、生活的主要能源,因过度开采已面临枯竭,而其对地球环境产生的负面影响也日益彰显。为此,寻找一种可持续的绿色能源对于人类未来极为重要。其中,太阳能作为一种新能源和可再生资源,取之不尽用之不竭,而且绿色无污染,受到世界各国的重视,特别是晶体硅片电池为主导的光伏太阳能行业的发展尤其引人注目。硅片品质是影响太阳能电池发电效率的关键因素。硅片的内部缺陷,比如隐裂(微裂纹)等,会增加太阳能发电器件在输运过程中的破损风险,同时也会降低光伏电站的使用寿命。在硅片制造过程中,如何快速、有效地剔除存在隐裂、微裂纹的不良硅片,寻求一种低成本的成品硅片品质检测方法,衡量同批次硅片的整体质量,保证硅片品质显得尤为重要。目前,人工目视检测法是硅片微裂纹缺陷检测最为直接的方法。但该方法主要依赖检测人员的工作经验,且易受到环境光线强度、入射角的影响,往往导致不同检测人员对同一硅片裂纹情况得出不同结论。此外,人工目视检测不能观察到硅片内部的缺陷,而且效率低,故而本方法常用于硅片质量抽检及其它检测方的辅助检测。为了克服目视检测法的技术缺陷,多种硅片微裂纹的新型检测方法应运而生。例如,信息产业部电子第二十四研究所利用光的透光性研制了一种新的抛光材料表面缺陷无损检测设备。还有,利用光致发光原理、电致发光原理,结合CCD图像传感器 ...
【技术保护点】
1.硅片检测方法,其特征在于,用于检测识别具有微裂纹缺陷的硅片,包括步骤:提供硅片承载装置及待测硅片,将所述待测硅片放置于所述硅片承载装置;对置于硅片承载装置的待测硅片进行热处理;冷却前述经热处理的待测硅片;以及检测前述经冷却后的待测硅片是否具有微裂纹缺陷。
【技术特征摘要】
1.硅片检测方法,其特征在于,用于检测识别具有微裂纹缺陷的硅片,包括步骤:提供硅片承载装置及待测硅片,将所述待测硅片放置于所述硅片承载装置;对置于硅片承载装置的待测硅片进行热处理;冷却前述经热处理的待测硅片;以及检测前述经冷却后的待测硅片是否具有微裂纹缺陷。2.根据权利要求1所述的硅片检测方法,其特征在于,在对所述待测硅片进行热处理的步骤中,将所述待测硅片及承载所述待测硅片的硅片承载装置置于80℃~500℃的加热装置内,在该温度下保温10~30min,以确保所述待测硅片受热均匀。3.根据权利要求1所述硅片检测方法,其特征在于,热处理后的所述待测硅片置于水中进行冷却。4.根据权利要求1所述硅片检测方法,其特征在于,利用硅片分选机检测经冷却后未破损的所述待测硅片是否具有微裂纹缺陷。5.根据权利要求2所述硅片检测方法,其特征在于,所述待测硅片的热处理温度为100~400℃。6.根据权利要求2所述硅片检测方法,其特征在于,所述加热装置选用马弗炉。7.用于如权利要求1-6任一项所述的硅片检测方法的硅片承载装置,其特征在于,包括手柄(2)和放置所述待测硅片的承载架(1),所述手柄(2)与承载架(1)可拆卸式连接,所述承载架(1)上具有用于插入所述待测硅片的一体式挡齿。8.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员:张济蕾,邓浩,李梦飞,姚宏,
申请(专利权)人:隆基绿能科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:陕西,61
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