【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】 一种拱墙式自立支护结构,包括有拱墙,其特征在于:该拱墙由上部的挡土拱墙和下部的支座拱墙构成;所述的拱墙形状可为二次曲线拱。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】 技术研发人员:彭高培, 申请(专利权)人:彭高培, 类型:实用新型 国别省市:90[中国|成都]
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