涂布装置和涂布膜的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。涂布装置包括：涂布辊，其在外周面具有凹部；以及供给部，其向所述涂布辊的外周面供给所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。

Coating device and manufacturing method of coating film

The invention relates to a coating device and a method for manufacturing a coating film. The coating device comprises: a coating roller with a concave part on the peripheral surface; and a supply part which supplies the coating liquid to the peripheral surface of the coating roller, and the coating device is configured to rotate the coating roller in a manner that the peripheral surface moves in a direction opposite to the moving direction of the coated object and causes the coating to be directed at the same time. The coating liquid supplied by the concave part contacts the coated substance, thereby coating the coating liquid on the coated substance to form a coating film. The outer diameter of the coating roller is 60mm to 80mm. The difference between the value of the rotation speed of the coating roller and the value of the moving speed of the coated substance is 0m/min to 60m/min.

【技术实现步骤摘要】
涂布装置和涂布膜的制造方法
本专利技术涉及涂布装置和涂布膜的制造方法。
技术介绍
以往，作为涂布装置，例如，公知有一种凹版涂布装置，该凹版涂布装置包括用于向片构件等被涂布物涂布涂布液而形成涂布膜的涂布辊。这种凹版涂布装置包括：圆柱状的涂布辊，其在外周面具有凹部；以及供给部，其向涂布辊的外周面供给涂布液。该凹版涂布装置构成为，通过使被向涂布辊的外周面供给的涂布液与被涂布物接触同时使涂布辊旋转，从而将涂布液连续地涂布于被涂布物。在该凹版涂布装置中，供给的涂布液进入涂布辊的外周面的凹部，使外周面的一部分与被涂布物接触同时使涂布辊旋转。由此，与被涂布物相接触的外周部的涂布液被涂布到被涂布物上。另外，在该凹版涂布装置中，涂布液自涂布辊的外周面转印并涂布到被涂布物上，使涂布辊进一步旋转。并且，自供给部向在凹部内出现空隙的外周面供给涂布液。作为这样的涂布装置，提出一种包括具有45mm～150mm的外径的涂布辊的涂布装置。采用该涂布装置，涂布辊的外径较小，与此对应地，在自涂布液被向涂布辊的凹部供给到涂布液被转印至被涂布物为止的期间内，涂布液暴露在外部空气中的时间变短。由此，即使在使用容易干燥的涂布液的情况下，也能够抑制涂布性能的降低(参照专利文献1)。另外，作为上述那样的涂布装置，提出如下一种涂布装置，其包括具有40mm～55mm的外径的涂布辊和向该涂布辊的凹部供给涂布液的供给部，该供给部具有：刮刀，其在涂布辊的旋转方向下游侧密封涂布液且将附着于涂布辊的多余的涂布液去除；以及密封板，其在涂布辊的旋转方向上游侧密封涂布液。采用该涂布装置，即使涂布辊的外径较小，也能够利用涂布辊将涂布液均匀地涂布在被涂布物上(参照专利文献2)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2014－226637号公报专利文献2：日本特开2002－186888号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，在专利文献1、2所记载的涂布装置中，存在已涂布的涂布液(即涂布膜)产生条纹、不均匀这样涂布不良的情况，很难说能够充分且稳定地进行涂布。另外，当欲抑制该涂布不良时，需要在较小的范围内设定涂布条件。另一方面，存在在被涂布物被输送至涂布辊的期间在该被涂布物附着有异物的情况，当如此以附着有异物的状态进行涂布时，异物会混入到涂布液中，从而得到品质降低的涂布物。因此，希望去除这样的异物。本专利技术的课题在于，鉴于上述情况而提供能够一边抑制涂布不良一边将涂布液涂布于被涂布物、并且还能够通过涂布来去除异物的涂布装置和涂布膜的制造方法。用于解决问题的方案为了解决上述课题，本专利技术的专利技术者们进行了潜心研究，结果发现，在凹版涂布中，空气被卷进被涂布物上的涂布液(涂膜)与涂布辊上的涂布液(涂膜)之间(涂布辊上的涂布液即将被转印到被涂布物上的那一侧)或者被涂布物与涂布辊之间(涂布辊上的涂布液刚被转印到被涂布物上的那一侧)(参照图3)。并且，随着涂布辊的旋转速度的值(大小)与被涂布物的移动速度的值(大小)的差变大，被卷进的空气的量增加，成为被涂布物相对于涂布辊上浮的状态，从而在涂布辊与被涂布物之间未形成有涂布液的液珠，其结果，发现产生了涂布不良。另外，在涂布辊的外径比较大的情况下，发现了，若不使涂布辊的旋转速度的值(大小)相对于被涂布物的移动速度的值(大小)的差的数值范围比较小，则在涂布辊上的涂布液向被涂布物转印时，难以抑制上述那样被卷进的空气的量，液珠的充分的形成受到阻碍，存在产生涂布不良的倾向。另一方面，在涂布辊比较小的情况下，发现了，即使上述差的数值范围比较大，也能够抑制上述那样被卷进的空气的量，充分地形成液珠，具有能够抑制产生涂布不良的倾向。并且，在涂布辊的外径为60mm～80mm的情况下，发现了，即使上述差为0m/每分钟～60m/每分钟这样较大的范围，也能够抑制涂布液夹带空气，从而能够抑制涂布不良。并且，在涂布辊的外径和上述速度的差为上述范围的情况下，利用涂布液在被涂布物上充分地形成液珠，抑制被涂布物上浮，因此被涂布物和涂布液充分地接触。另外，发现了，在该接触时，因涂布辊与被涂布物之间的速度差而在被涂布物与涂布液之间产生摩擦。即使异物附着在被涂布前的被涂布物的要被涂布的那一侧的面上，也能够利用该摩擦来去除该异物，从而完成了本专利技术。即，本专利技术提供一种涂布装置，其中，该涂布装置包括：涂布辊，其向相对地移动的被涂布物涂布涂布液，在该涂布辊的外周面具有凹部；以及供给部，其具有腔室，并向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。在此，涂布辊的旋转速度指的是涂布辊的外周面的移动速度(周速)。在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述被涂布物的移动方向上的比被所述涂布液涂布的位置靠下游侧的所述被涂布物的张力为50N/m～1000N/m。在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述被涂布物的厚度为10μm～70μm。在上述结构的涂布装置中，也可以是，所述涂布液的粘度为0.5mPa·s～50mPa·s。本专利技术提供一种涂布膜的制造方法，其中，该涂布膜的制造方法包括涂布工序，在该涂布工序中，通过使用于向相对地移动的被涂布物涂布涂布液且在外周面具有凹部的涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布工序具有供给工序，在该供给工序中，使用具有腔室的、用于向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液的供给部来向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，使所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。在此，与上述同样地，涂布辊的旋转速度指的是涂布辊的外周面的移动速度(周速)。附图说明图1是概略地表示将本专利技术的一实施方式的涂布装置沿与涂布辊的旋转轴垂直的方向剖切而得到的剖面的剖视图。图2是放大并概略地表示在本实施方式中使用的涂布辊的凹部局部的剖视图。图3是示意性表示空气被卷进被涂布物与涂布辊之间的状态的图。图4是表示在使用外径50mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。图5是表示在使用外径60mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。图6是表示在使用外径80mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。图7是表示在使用外径90mm的涂布辊时的、涂布辊的旋转速度相对于被涂布物的移动速度的差与异物的去除率之间的关系的图表。图8是表示涂布液的粘度与异物的去除率之间的关系的图表。附图标记说明1、涂布装置；2、涂布辊；2a、凹部；2b、周围面部；3、供给部；3a、腔室；3b、流入路径；3c、流出路本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种涂布装置，其中，该涂布装置包括：涂布辊，其向相对地移动的被涂布物涂布涂布液，在该涂布辊的外周面具有凹部；以及供给部，其具有腔室，并向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。

【技术特征摘要】
2017.03.29 JP 2017-0654871.一种涂布装置，其中，该涂布装置包括：涂布辊，其向相对地移动的被涂布物涂布涂布液，在该涂布辊的外周面具有凹部；以及供给部，其具有腔室，并向所述涂布辊的外周面的至少所述凹部供给所述腔室内的所述涂布液，该涂布装置构成为，通过使所述涂布辊以所述外周面向与所述被涂布物的移动方向相反的方向移动的方式旋转同时使被向所述凹部供给的涂布液与所述被涂布物接触，从而将所述涂布液涂布于所述被涂布物而形成涂布膜，所述涂布辊的外径为60mm～80mm，所述涂布辊的旋转速度的值与所述被涂布物的移动速度的值的差为0m/每分钟～60m/每分钟。2.根据权利要求1所述的涂布装置，其中，所述被涂布物的移动方向上的比被所述涂布液涂布的位置靠下游侧的所述被涂布物的张力为50N/m～1000N/m。3.根据权利要求1所述的涂布装置，其中，所述被涂布物的厚度为1...

【专利技术属性】
技术研发人员：道平创，三宅雅士，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP