真空干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种真空干燥装置，包括真空室和设于所述真空室内的基板支撑台，所述基板支撑台包括：承载平台、支撑柱和驱动机构，所述支撑柱可移动地设置于所述承载平台上，所述驱动机构用于控制驱动所述支撑柱移动。本发明专利技术公开的一种真空干燥装置，通过驱动机构控制支撑柱移动，从而使得支撑柱准确移动至指定位置，避免支撑柱对基板的显示区造成破坏，同时无需人工调节支撑柱，避免对真空室内部造成污染。

Vacuum drying device

The invention discloses a vacuum drying device, which comprises a vacuum chamber and a base plate support platform arranged in the vacuum chamber. The base plate support platform comprises a loading platform, a supporting column and a driving mechanism. The supporting column is movably arranged on the bearing platform and the driving mechanism is used to control and drive the movement of the supporting column. . The invention discloses a vacuum drying device, which controls the movement of the support pillar by a driving mechanism so that the support pillar moves to a specified position accurately, avoids damage to the display area of the substrate caused by the support pillar, and does not need to adjust the support pillar manually to avoid pollution to the vacuum chamber.

【技术实现步骤摘要】
真空干燥装置
本专利技术属于显示面板制造
，具体地讲，涉及一种真空干燥装置。
技术介绍
在液晶面板制造
，在进行曝光工艺时，对玻璃基板需要进行涂布光阻后，需要进行真空减压干燥工艺，以便去除光阻中的大部分溶剂，再经过烘烤后进入曝光机，接着利用掩膜版对玻璃基板上的光阻定义出图形，最后经过显影制程显示图形。其中，在涂布光阻完成后进行真空减压干燥时，将玻璃基板放置在真空设备中，真空设备中设有用于支撑玻璃基板的顶针(Pin)。玻璃基板和顶针接触的部分会有微小变形，在该部分光阻厚度会与其他正常区域有差异，在减压干燥过程中，玻璃基板和接触的部分的导热能力较弱，另外玻璃基板和接触的部分的面积的大小都会对其上方的光阻层的干燥产生影响，因此在玻璃基板上容易出现斑点。目前业界中通过人工更改的位置，使得支撑在玻璃基板的特定位置，例如，该特定位置为非显示区域所在的位置，使得的对玻璃基板的影响最小。但是在中小尺寸面板制造业中，一般会生产多种尺寸不同的面板，不同产品的显示区和非显示区的排版不同，这时对不同尺寸的玻璃基板进行真空干燥时，需要人工更改的位置，一方面需要耗费大量的人力和时间，另一方面，由于是人工操作，操作人员必须进入到真空设备中，这样会在真空设备，会产生大量的灰尘。同时人工更改位置时，不能保证的位置准确放置，也会对玻璃基板造成影响。
技术实现思路
为了解决上述现有技术存在的不足，本专利技术的目的在于提供一种便于更改支撑柱的位置的真空干燥装置。为了实现上述的目的，本专利技术采用了如下的技术方案：一种真空干燥装置，包括真空室和设于所述真空室内的基板支撑台，所述基板支撑台包括：承载平台、支撑柱和驱动机构，所述支撑柱可移动地设置于所述承载平台上，所述驱动机构用于控制驱动所述支撑柱移动。优选地，所述驱动机构包括设置于所述承载平台上的固定杆、可移动地连接于所述固定杆上的移动杆以及驱动单元，所述支撑柱固定于所述移动杆上，所述驱动单元用于驱动所述移动杆沿着所述固定杆移动，以带动所述移动杆上的所述支撑柱移动。优选地，所述驱动单元包括马达、传动轴和滑块，所述传动轴的一端与所述马达连接，所述传动轴的另一端与所述滑块连接，所述固定杆上设有滑槽，所述滑块容纳于所述滑槽中，所述移动杆固定于所述滑块上，所述马达通过所述传动轴驱动所述滑块在所述滑槽中滑动，以带动所述移动杆移动。优选地，所述支撑柱包括底座以及与所述底座磁性连接的顶针，所述底座固定于所述移动杆上。优选地，所述移动杆与所述固定杆相互垂直。优选地，所述支撑柱的数量为多个，多个所述支撑柱沿着所述移动杆的长度方向上间隔设置。优选地，所述真空干燥装置还包括设置于所述承载平台的边缘的光栅传感器，所述光栅传感器用于检测所述移动杆是否移动至所述承载平台的边缘的外侧。优选地，所述真空干燥装置还包括固定于所述固定杆上的位置传感器，所述位置传感器用于检测所述移动杆是否被移动至指定位置。优选地，所述指定位置与承载在所述支撑柱上的基板的非显示区所在位置正对。有益效果：本专利技术公开的一种真空干燥装置，通过驱动机构控制支撑柱移动，从而使得支撑柱准确移动至指定位置，避免支撑柱对基板的显示区造成破坏，同时无需人工调节支撑柱，避免对真空室内部造成污染。附图说明图1为本专利技术的实施例的真空干燥装置的剖面图；图2为本专利技术的实施例的基板支撑台的俯视图；图3为本专利技术的实施例的支撑柱的剖面示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。图1为根据本专利技术的真空干燥装置的剖面图，该真空干燥装置包括真空室100和设置于真空室100内的基板支撑台200。其中，基板支撑台200包括承载平台10、支撑柱20和驱动机构，支撑柱20可移动地设置于承载平台10上，驱动机构用于控制驱动支撑柱20相对于承载平台10移动。这样通过驱动机构可以精准地控制支撑柱20移动到指定位置，使得支撑柱20支撑于基板的非显示部分上，避免对基板造成影响，提高产品的品质，同时可以避免人工操作而将灰尘带入至真空设备中。具体地，如图2所示，驱动机构包括固定杆30、移动杆40和驱动单元50。其中，固定杆30固定在承载平台10上，移动杆40可移动地设置于固定杆30上，支撑柱20固定于移动杆40上，驱动单元50用于驱动移动杆40沿着固定杆30移动。这样在驱动单元50的驱动作用下，使得固定在移动杆40上的支撑柱20沿着特定的方向移动，从而使得支撑柱20移动至指定位置。进一步地，作为优选实施例，驱动单元50包括马达、传动轴和滑块，传动轴的一端与马达连接，传动轴的另一端与滑块连接，马达驱动传动轴以带动滑块移动。固定杆30上设有滑槽，滑块容纳于滑槽内，移动杆40固定于滑块上，马达通过传动轴驱动滑块在滑槽中滑动，以带动移动杆40移动。其中，通过控制马达的转动方向，可使得移动杆40朝着远离马达的方向移动或使得移动杆40朝着靠近马达的方向移动，即可使得移动杆40来回移动，以根据不同尺寸的基板来调整支撑柱20的位置，提高基板支撑台200的适用性。进一步地，滑槽沿着固定杆30的长度方向上延伸，滑块设置于滑槽内，在驱动马达的驱动作用下，滑块在滑槽内移动，从而精准控制滑块的滑动方向，防止滑块发生偏离，保证支撑柱20移动过程中不发生偏移，从而提高支撑柱20位置的准确性。作为优选实施例，移动杆40与固定杆30相互垂直。作为优选实施例，固定杆30的数量为多根，多根固定杆30沿一维方向间隔且平行设置，每根固定杆30均设有上述的驱动单元50，通过多个驱动单元50同时驱动同一根移动杆40，一方面提高了移动杆40的移动稳定性，另一方面由于移动杆40承载在多根固定杆30上，移动杆40上的支撑柱20承载基板时，可保证基板的稳定性。进一步地，移动杆40的数量为多根，且多根移动杆40平行设置，可以通过控制不同的移动杆40移动到不同的位置上，使得多个支撑柱组成不同大小的支撑单元，以支撑不同尺寸的基板。另外，多根固定杆30和多根移动杆40相互垂直地设置，提高了基板支撑台200的支撑能力。作为优选实施例，每根移动杆40上设有多个支撑柱20，多个支撑柱20沿着移动杆40的长度方向等间距设置，这样可使得支撑柱20上的基板受力更加均匀，同时提高支撑的稳定性。其中支撑柱20之间的间隔可根据不同尺寸的面板进行设定。进一步地，如图3所示，支撑柱20包括底座21和顶针22，顶针22可拆卸地设置于底座21上，这样便于更换顶针22，或者拆下不需要进行支撑的顶针。作为优选实施例，底座21和顶针22磁性连接。其中，底座21包括壳体和固定于壳体上的磁铁，顶针22的材料优选为铁材料，顶针22设置在底座21上时，通过顶针22与磁铁之间的吸引力，使得顶针22固定在底座21上，同时也方便更换不同的顶针22。例如当顶针22损坏时，方便更换新的顶针22。或者，当顶针22的高度不符合生产要求时，可方便更换不同高度的顶针22。可以选择性地在不同的底座21上设置顶针22，这样多个顶针22组成支撑不同大小单元，以支撑不同大小的基板。进一步地，真空干燥装置还包括设置于承载平台10边缘的光栅传感器60，光栅传感器60用于检测滑块是否移动至承载本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括真空室和设于所述真空室内的基板支撑台，所述基板支撑台包括：承载平台、支撑柱和驱动机构，所述支撑柱可移动地设置于所述承载平台上，所述驱动机构用于控制驱动所述支撑柱移动。

【技术特征摘要】
1.一种真空干燥装置，其特征在于，包括真空室和设于所述真空室内的基板支撑台，所述基板支撑台包括：承载平台、支撑柱和驱动机构，所述支撑柱可移动地设置于所述承载平台上，所述驱动机构用于控制驱动所述支撑柱移动。2.根据权利要求1所述的真空干燥装置，其特征在于，所述驱动机构包括设置于所述承载平台上的固定杆、可移动地连接于所述固定杆上的移动杆以及驱动单元，所述支撑柱固定于所述移动杆上，所述驱动单元用于驱动所述移动杆沿着所述固定杆移动，以带动所述移动杆上的所述支撑柱移动。3.根据权利要求2所述的真空干燥装置，其特征在于，所述驱动单元包括马达、传动轴和滑块，所述传动轴的一端与所述马达连接，所述传动轴的另一端与所述滑块连接，所述固定杆上设有滑槽，所述滑块容纳于所述滑槽中，所述移动杆固定于所述滑块上，所述马达通过所述传动轴驱动所述滑块在所述滑槽中滑动，以带动所述移动杆移动。4.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆明，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42