电声振膜和使用电声振膜的电声换能器制造技术

本申请提供电声振膜和使用电声振膜的电声换能器，具体地，提供适用于采用电磁驱动方法的平衡式电枢电声换能器的电声振膜和电声换能器。该电声振膜包括：基本上平坦的板状振膜，和形成在振膜部的端部并连接到驱动杆的驱动杆连接部。该振膜部包括：多个凹坑，所述多个凹坑以形成振膜部的基材在该基材的厚度方向上变形，使得基材的一侧凹陷并突出到另一侧这样的方式来形成；和平坦部，该平坦部形成在多个凹坑之间，在平坦部处基材不在厚度方向上变形。

【技术实现步骤摘要】
电声振膜和使用电声振膜的电声换能器
本专利技术涉及一种用于附到用户的耳部以重现音频的耳机的电声换能器的电声振膜，尤其涉及一种适用于平衡式电枢电声换能器的电声振膜。
技术介绍
日益需求一种用于附接到用户的耳部以重现音频的耳机的紧凑轻便的电声换能器，并且有时已使用作为电磁型电声换能器的平衡式电枢电声换能器。电磁型电声换能器被配置为使通过驱动杆连接到可振动电枢的电声振膜振动，来将电信号转换成声波。在平衡式电枢电声换能器中，电声振膜在紧凑壳体中振动。为此，驻波易在声路(soundpath)中生成，并且较大压力施加于振膜。振膜有强度要求，因此通常使用诸如铝、钛或不锈钢这样的金属基材料。有时提供用于保持振膜强度的肋。例如，JP-A-2012-004850公开了一种包括振膜(diaphragm)单元的电声换能设备。振膜单元包括驱动单元，该驱动单元具有：彼此相对布置的一对磁铁；轭部，该轭部附接到该对磁铁；线圈，驱动电流被供应到该线圈；和电枢，该电枢具有在将驱动电流供应到线圈时振动且通过线圈布置在成对磁铁之间的振动部。振膜单元还包括：保持框架，该保持框架具有开口；树脂膜，该树脂膜粘合到保持框架，以覆盖保持框架的开口；振膜，该振膜保持在保持框架内，同时振膜粘合到树脂膜；和光束部，该光束部与振膜整体形成，并且具有联接到电枢的振动部的尖端部，以将振动部的振动传输到振膜。JP-A-2012-004850中第0089段公开如下：振膜22由诸如铝或不锈钢这样的薄金属材料制成，并形成为其外形略小于保持框架20的内侧形状这样的矩形；在自右向左方向上彼此间隔定位的加强肋22a设置成在振膜22的前后方向上延伸并形成为向上-突出形状。如上所述，当在平衡式电枢电声换能器中的振膜处设置肋时，仅在上侧设置这些肋，以避免与驱动单元接触。为此，存在无法获得足够强度的问题。此外，在平衡式电枢电声换能器的制造过程中，声压灵敏度变化较大，导致质量控制问题。此类情况的主要原因是在平衡式电枢电声换能器的情况下，声路中振膜的相对位置不稳定。也就是说，当振膜接近形成声路的壳体以缩短相对距离时，重现声压级可能大幅升高，从而超出质量控制的可接受范围。鉴于振膜处的向上-突出肋，容易产生类似问题。
技术实现思路
本专利技术已解决了常规技术的上述问题。本专利技术的目的在于提供一种电声换能器的电声振膜，该电声换能器用于附接到用户的耳部以重现音频的耳机，尤其是提供一种适用于采用电磁驱动方法的平衡式电枢电声换能器的电声振膜。本专利技术的电声振膜包括：基本上平坦的板状振膜和驱动杆连接部，该驱动杆连接部形成在振膜部的端部并连接到驱动杆。振膜部包括：多个凹坑(dimple)，该多个凹坑以形成振膜部的基材在该基材的厚度方向上变形，使得基材的一侧凹陷并突出到另一侧这样的方式来形成；和平坦部，该平坦部形成在多个凹坑之间，在平坦部处基材不在厚度方向上变形。优选地，在本专利技术的电声振膜中，限定每个凹坑的凹陷部或凸起部的外形呈圆形或宽度尺寸和长度尺寸大致相等的多边形。优选地，在本专利技术的电声振膜中，限定多个凹坑的凹陷部或凸起部在纵向、横向及对角线方向中的任一个方向上整齐排列。优选地，在本专利技术的电声振膜中，限定多个凹坑的所有凸起部形成在形成振膜部的基材的一侧。优选地，在本专利技术的电声振膜中，形成振膜部的基材至少包含镁或镁合金，并且在基材的表面上形成氢氧化镁层。本专利技术的电声换能器包括：上述电声振膜；；振膜框架部，该振膜框架部支撑电声振膜的周边；驱动杆部，该驱动杆部连接到电声振膜的驱动杆连接部；磁驱动部，该磁驱动部包括被配置为使驱动杆部振动的电枢部；和壳体部，该壳体部容纳磁驱动部和振膜框架部并形成声路，该声路用于将从电声振膜发出的声波引导至驱动杆部和磁驱动部的相反侧。本专利技术的电声换能器是包括电声振膜的电声换能器，其中，该电声振膜被配置成限定多个凹坑的所有凸起部形成在形成振膜部的基材的一侧。多个凹坑的凸起部布置在作为基材的一侧的声路侧。在下文中，将描述本专利技术的有益效果。本专利技术的电声振膜是如下电声振膜，其包括：基本上平坦的板状振膜和驱动杆连接部，该驱动杆连接部形成在振膜部的端部并连接到驱动杆。因此，采用电磁驱动方法的平衡式电枢电声换能器可以被配置为具有：振膜框架部，该振膜框架部支撑电声振膜的周边；驱动杆部，该驱动杆部连接到电声振膜的驱动杆连接部；磁驱动部，该磁驱动部包括被配置为使驱动杆部振动的电枢部；和壳体部，该壳体部容纳磁驱动部和振膜框架部并形成声路，该声路用于将从电声振膜发出的声波引导至驱动杆部和磁驱动部的相反侧。在电声振膜中，振膜部包括：多个凹坑，该多个凹坑以形成振膜部的基材在厚度方向上变形，使得基材的一侧凹陷并突出到另一侧这样的方式来形成；和平坦部，该平坦部形成在多个凹坑之间，在平坦部处基材不在厚度方向上变形。限定多个凹坑的凹陷部或凸起部在纵向、横向及对角线方向中的任一个方向上整齐排列。每个凹坑由通过弯曲振膜部的基材而变形的凹陷部或凸起部来限定，并且与未提供凹坑的情况相比，可以提高振膜部的强度。因此，即使对于适用于包括基本上平坦的板状振膜的平衡式电枢电声换能器的电声振膜，也可以获得足够强度。优选地，形成振膜部的基材包含镁或镁合金，并且在基材的表面上形成氢氧化镁层。通过此构造，声压级可以随重现声压频率属性的延展而升高。在平衡式电枢电声换能器中，在声路中振膜的相对位置不稳定的情况下，容易产生诸如重现声压级显著升高这样的质量控制问题。在典型振膜被配置成在振膜处设置有连续凸起或凹陷肋的情况下，此类问题变得更加突出。通过振膜处的连续肋，肋接近形成声路的壳体的上表面以相对短距离扩展区域，为此，振膜实质上接近于形成声路的壳体的上表面。然而，如本专利技术那样，电声振膜包括：多个凹坑和形成在多个凹坑之间的平坦部，在平坦部处基材不在厚度方向上变形，可以减小重现声压级的变化，并且可以提高制造过程中的产额比。限定电声振膜的振膜部的每个凹坑的凹陷部或凸起部的外形呈圆形或宽度尺寸和长度尺寸大致相等的多边形。因此，在多个凹坑之间形成了基材不在厚度方向上变形的平坦部。也就是说，在没有形成诸如连续凸起或凹陷肋这样的、从平坦部到一侧或另一侧明显突出的部分的情况下，多个凹坑允许振膜部的相对较宽的平坦部。因此，即使在振膜部具有足够强度的情况下，平衡式电枢电声换能器中声路的容量可以增加，但不会缩短振膜和形成声路的壳体的上表面之间的平均相对距离。具体地，在电声振膜中，限定多个凹坑的所有凸起部优选地形成在形成振膜部的基材的一侧。此时，电声换能器可以被配置成将多个凹坑的凸起部布置在作为基材的一侧的声路侧。可以增加振膜和形成声路的壳体的上表面之间的相对距离，并且可以防止由于振膜和磁驱动部之间的接触而导致诸如噪声这样的缺陷。在本专利技术的电声振膜中，振膜部具有足够强度。在使用平衡式电枢电声换能器，其中，声路中振膜的相对位置不是很稳定的情况下，可以减少重现声压级变化，并且可以提高制造过程中的产额比(yieldratio)。附图说明图1A和图1B是本专利技术的实施方式的电声换能器的特定结构的截面图和透视图；图2是本专利技术的实施方式的电声换能器的特定结构的展开图；图3A和图3B是本专利技术的实施方式的电声振膜的特定结构的透视图；图4A到图4D是比较例的电声振膜的特定结构的透视图；图5示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电声振膜，所述电声振膜包括：基本上平坦的板状振膜部；以及驱动杆连接部，所述驱动杆连接部形成在所述振膜部的端部并连接到驱动杆，其中，所述振膜部包括：多个凹坑，所述多个凹坑以形成所述振膜部的基材在该基材的厚度方向上变形，使得所述基材的一侧凹陷并突出到另一侧这样的方式来形成，以及平坦部，所述平坦部形成在所述多个凹坑之间，在平坦部处所述基材不在所述厚度方向上变形。

【技术特征摘要】
2017.03.13 JP 2017-0477681.一种电声振膜，所述电声振膜包括：基本上平坦的板状振膜部；以及驱动杆连接部，所述驱动杆连接部形成在所述振膜部的端部并连接到驱动杆，其中，所述振膜部包括：多个凹坑，所述多个凹坑以形成所述振膜部的基材在该基材的厚度方向上变形，使得所述基材的一侧凹陷并突出到另一侧这样的方式来形成，以及平坦部，所述平坦部形成在所述多个凹坑之间，在平坦部处所述基材不在所述厚度方向上变形。2.根据权利要求1所述的电声振膜，其中限定每个凹坑的凹陷部或凸起部的外形呈圆形或宽度尺寸和长度尺寸大致相等的多边形。3.根据权利要求1所述的电声振膜，其中限定所述多个凹坑的凹陷部或凸起部在纵向、横向及对角线方向中的任一个方向上整齐排列。4.根据权利要求1所述的电声振膜，其中限定所述多个凹坑的所有凸起部形成在形成所述振膜部的所述基材的一侧。5.根据权利要求1所述的电声振膜，其中形成所述振膜部的所述基材至少包含镁或镁合金...

【专利技术属性】
技术研发人员：藤谷武士，
申请(专利权)人：安桥株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP