一种流体抛光机制造技术

本实用新型专利技术公开一种流体抛光机，其包括：上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞述研磨抛光活塞在驱动装置内部，且伸入磨料缸筒内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰连接；升降机构，上梁架上具有驱动机构；工件夹持在上梁架和下梁架的两个磨料缸筒之间，包括：设于上磨料缸筒的第一测距仪，第一测距仪测量上研磨抛光活塞的上表面到第一测距仪的距离或速度；本实用新型专利技术利用两个相对的磨料缸筒使磨料在这个通道中来回挤动；磨料均匀而渐进地对通道表面或边角进行研磨，产生抛光、倒角作用，可以通达零件复杂而难以进入的部位，使抛光表面均匀、完整。

A fluid polishing machine

The utility model discloses a fluid polishing machine, which comprises a grinding and polishing mechanism arranged on the upper beam frame and the lower beam frame. The grinding and polishing mechanism comprises an abrasive cylinder cylinder and a grinding and polishing piston used to drive the abrasive upward and downward reciprocating movement in the abrasive cylinder cylinder. The grinding and polishing piston is arranged in the driving device and is pushed into the abrasive cylinder cylinder. The workpiece is clamped between the two abrasive cylinders of the upper girder frame and the lower girder frame, including: a first rangefinder mounted on the upper abrasive cylinder, a first rangefinder mounted on the upper abrasive cylinder to measure the upper surface of the polished piston. The utility model uses two relative abrasive cylinders to make the abrasive move back and forth in the passage; the abrasive grinds the surface or edges of the passage evenly and progressively, and produces polishing and chamfering effects, which can reach the parts which are complex and difficult to enter, so that the polished surface is uniform and uniform. Complete.

【技术实现步骤摘要】
一种流体抛光机
本技术涉及一种抛光机
，尤其涉及一种流体抛光机。
技术介绍
抛光是机械加工中的一道重要工序，抛光水平的好坏对产品的质量来说尤为重要，随着产品形状的多样化、精度要求的不断提高，流体抛光机在对于复杂形状的工件内壁、普通刀具、磨具已经达到，不过由于在流体抛光机研磨抛光过程中研磨抛光活塞由于不断地上下运动，由于摩擦研磨抛光活塞具有一定的磨损，从而磨料溢出，当磨料溢出时，对于抛光的精度会有很大的影响。
技术实现思路
为了克服上述技术缺陷，本技术提出一种流体抛光机，夹具配合工件形成加工通道，两个相对的磨料缸使磨料在这个通道中来回挤动；磨料均匀而渐进地对通道表面或边角进行研磨，产生抛光、倒角作用，可以通达零件复杂而难以进入的部位，使抛光表面均匀、完整；另外，批量零件的加工效果重复一致，使零件性能得到改善，寿命延长，同时减免繁杂的手工劳动，大大降低劳动强度；根据测距仪测量的距离，控住面板可控制研磨抛光活塞进行匀速上下往复运动，从而推动磨料匀速运动，提高了工件抛光的精度，提升产品的品质和产能。为了达到上述目的，本技术采用如下技术方案实现：一种流体抛光机，其中，上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，所述研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞，所述研磨抛光活塞在驱动装置内部，且伸入所述磨料缸筒内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰连接；升降机构，包括对称设置在机台上的立柱，上梁架有能够使立柱通过的通孔和能够使上梁架沿所述立柱上下运动的驱动机构；工件通过抛光加工区夹持在所述上梁架和所述下梁架的两个所述磨料缸筒之间，包括：设于上磨料缸筒上部的第一测距仪，所述第一测距仪测量上研磨抛光活塞的上表面到所述第一测距仪的距离或速度。另外，根据本技术公开的流体抛光机还具有如下附加技术特征：进一步地，所述第一测距仪设在所述第一法兰上或在上磨料缸筒上部的内壁上。优选地，所述第一测距仪设置在靠近上磨料缸筒内壁的所述第一法兰上。进一步地，所述下驱动装置和所述下磨料缸筒通过第二法兰连接，第二测距仪设于下磨料缸筒下部。进一步地，所述第二测距仪设在所述第二法兰内壁上或在下磨料缸筒下部的内壁上，测量下研磨抛光活塞的下表面到所述第二测距仪的距离或速度。进一步地，所述测距仪为电学测距仪或光学测距仪或红外线测距仪。进一步地，所述研磨抛光活塞的活塞具有碗状密封圈。进一步地，通过上、下两个法兰夹持所述研磨抛光活塞的碗状密封圈并将碗状密封圈固定在活塞杆上，且法兰的半径小于所述碗状密封圈的半径。进一步地，通过上、下两个刚性的且中空的圆柱体夹持所述研磨抛光活塞的碗状密封圈，并将碗状密封圈固定在活塞杆上，且中空圆柱体的半径小于所述碗状密封圈的半径。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本技术中的流体抛光机，通过设置了升降机构，抛光加工区和研磨抛光机构，将工件放置在抛光加工区的定位模具内固定，以上研磨结构为例：驱动装置带动研磨抛光机构的上研磨缸内的研磨抛光活塞向下运动，进而推动磨料经工件内腔进入下磨料缸筒，待磨料下降到一定高度，下研磨缸内的研磨抛光活塞推动磨料向上运动，上升至一定高度，上研磨抛光活塞再次推动磨料向下运动，如此循环往复，当循环次数或时间到达预设值后停止，抛光的过程完成，其中位于上法兰中的测距仪测量测量上研磨抛光活塞运动到最低端的距离或整个运动过程中的任一距离；如果当上研磨抛光活塞的密封圈有磨损，磨料会沿磨损的地方溢出，并覆盖在研磨抛光活塞的上方，测距仪检测出的距离与没有磨料溢出时比较，就会在操作面板上体现，工作人员就会进行对磨损的密封圈进行更换；如果是下研磨抛光活塞的密封圈有磨损，磨料会沿磨损的地方溢出，溢出的磨料掉落，会将下测距仪覆盖，在操作面板上体现，同样工作人员就会进行对磨损的密封圈进行更换，有效的提高了工作效率，另外，根据测距仪测量的距离，控住面板可控制研磨抛光活塞进行匀速上下往复运动，从而推动磨料匀速运动，提高了工件抛光的精度，提升产品的品质和产能。附图说明图1是本技术的流体抛光机的结构示意图。其中，1为上梁架；2为下梁架；3为磨料缸筒；4为驱动装置，5为研磨抛光活塞，501为密封圈；6为第一法兰；7为升降机构，701为立柱，702为驱动机构；8为抛光加工区；9为第一测距仪；10为第二法兰；11为第二测距仪。具体实施方式请参考图1所示，为本技术的示意图。本技术提供了一种流体抛光机，夹具配合工件形成加工通道，两个相对的磨料缸筒使磨料在这个通道中来回挤动；磨料均匀而匀速地对通道表面或边角进行研磨，产生抛光、倒角作用，可以通达零件复杂而难以进入的部位，使抛光表面均匀、完整；另外，批量零件的加工效果重复一致，使零件性能得到改善，寿命延长，同时减免繁杂的手工劳动，大大降低劳动强度；根据测距仪测量的距离，控住面板可控制研磨抛光活塞进行匀速上下往复运动，从而推动磨料匀速运动，提高了工件抛光的精度，提升产品的品质和产能。如图1所示，所述流体抛光机包括上梁架1与下梁架2上均设有研磨抛光机构，所述研磨抛光机构包括磨料缸筒3和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞5，所述研磨抛光活塞5在驱动装置4内部，且伸入所述磨料缸筒3内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰6连接；升降机构7，包括对称设置在机台上的立柱701，上梁架1有能够使立柱701通过的通孔和能够使上梁架1沿所述立柱701上下运动的驱动机构702；工件通过合模装8置夹持在所述上梁架1和所述下梁架2的两个所述磨料缸筒3之间，包括：设于上磨料缸筒上部的第一测距仪9，所述第一测距仪9测量上研磨抛光活塞的上表面到所述第一测距仪9的距离或速度。与现有技术相比，本技术具有如下有益效果：本技术中的流体抛光机，通过设置了升降机构7，抛光加工区8和研磨抛光机构，将工件放置在抛光加工区8的定位模具(图中未显示)内固定，以上研磨结构为例：驱动装置4带动研磨抛光机构的上研磨缸内的研磨抛光活塞5向下运动，进而推动磨料经工件内腔进入下磨料缸筒，待磨料下降到一定高度，下研磨缸内的研磨抛光活塞5推动磨料向上运动，上升至一定高度，上研磨抛光活塞再次推动磨料向下运动，如此循环往复，当循环次数或时间到达预设值后停止，抛光的过程完成，其中位于第一法兰6中的第一测距仪9测量上研磨抛光活塞运动到最低端的距离或整个运动过程中的任一距离；如果当上研磨抛光活塞的密封圈501有磨损，磨料会沿磨损的地方溢出，并覆盖在研磨抛光活塞的上方，第一测距仪9检测出的距离与没有磨料溢出时比较，就会在操作面板上体现，工作人员就会进行对磨损的密封圈501进行更换，另外，在测距仪在测距的同时还能体现速度，当研磨抛光活塞是匀速的时候，提高了工件抛光的精度；优选地，测距仪设置在靠近上磨料缸筒内壁的所述第一法兰6内壁上，该位置在磨料从研磨抛光活塞5磨损处溢出时能第一时间检测出；如果是下研磨抛光活塞的密封圈有磨损，磨料会沿磨损的地方溢出，溢出的磨料掉落，将下测距仪覆盖，在操作面板上体现，同样工作人员就会进行对磨损的密封圈进行更换，优选地，第二测距仪11设置在靠近上磨料缸筒内壁的所述第二法兰10内壁上，该位置在磨料从研磨抛光活塞5磨损处溢出时能第一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流体抛光机，其特征在于，包括：上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，所述研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞，所述研磨抛光活塞在驱动装置内部，且伸入所述磨料缸筒内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰连接；升降机构，包括对称设置在机台上的立柱，上梁架有能够使立柱通过的通孔和能够使上梁架沿所述立柱上下运动的驱动机构；工件通过抛光加工区夹持在所述上梁架和所述下梁架的两个所述磨料缸筒之间；设于上磨料缸筒上部的第一测距仪，所述第一测距仪测量上研磨抛光活塞的上表面到所述第一测距仪的距离或速度。

【技术特征摘要】
1.一种流体抛光机，其特征在于，包括：上梁架与下梁架上均设有研磨抛光机构，所述研磨抛光机构包括磨料缸筒和用以推动磨料缸筒内磨料上、下往复运动的研磨抛光活塞，所述研磨抛光活塞在驱动装置内部，且伸入所述磨料缸筒内推动磨料运动，上驱动装置和上磨料缸筒通过第一法兰连接；升降机构，包括对称设置在机台上的立柱，上梁架有能够使立柱通过的通孔和能够使上梁架沿所述立柱上下运动的驱动机构；工件通过抛光加工区夹持在所述上梁架和所述下梁架的两个所述磨料缸筒之间；设于上磨料缸筒上部的第一测距仪，所述第一测距仪测量上研磨抛光活塞的上表面到所述第一测距仪的距离或速度。2.根据权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述第一测距仪设在所述第一法兰上或在上磨料缸筒上部的内壁上。3.根据权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述第一测距仪设置在靠近上磨料缸筒内壁的所述第一法兰上。4.根据权利要求1所述的流体抛光机，其特征在于，所述流体抛光机...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒙敏，陈利胜，
申请(专利权)人：昆山欣峰机械有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32