基板清洗设备制造技术

本发明专利技术提供一种基板清洗设备，通过设置框形的分隔构件在直接水洗室内划分出直接水洗区域和过渡水洗区域，并在直接水洗室的直接水洗区域底部和过渡水洗区域底部分别设置第一回收孔和第二回收孔来对已使用过的清洗水进行回收，可将直接水洗室内已使用过的清洗水分成光阻及异物浓度高和低的两部分，并可选择性地分开回收使用，纯度高的清洗水会从第一回收孔直接进入直接水循环水箱，而光阻及杂质浓度高的清洗水则可通过第二回收孔有选择性的回收到直接水循环水箱或置换水循环水箱，从而可有效提高过滤器的使用寿命，进而提高设备的嫁动率，降低产线生产成本。

Substrate cleaning equipment

The invention provides a substrate cleaning device, which divides the direct washing area and the transition washing area in the direct washing room by setting a frame-shaped separating member, and sets the first recovery hole and the second recovery hole respectively at the bottom of the direct washing area and the bottom of the transition washing area in the direct washing room to clean the used water. To recycle, the used cleaning water in the direct washing room can be divided into two parts, high and low concentration of light resistance and foreign matter, and can be selectively recycled. The clean water with high purity can enter the direct water circulation tank directly from the first recycling hole, while the clean water with high light resistance and impurity concentration can pass through the second recycling hole. Selective return of direct water circulation tank or displacement water circulation tank can effectively improve the life of the filter, thereby increasing the grafting rate of equipment and reducing production cost.

【技术实现步骤摘要】
基板清洗设备
本专利技术涉及显示器的制程领域，尤其涉及一种基板清洗设备。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)与有机发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示器等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(ThinFilmTransistor，TFT)基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由TFT基板、彩膜(ColorFilter，CF)基板以及配置于两基板间的液晶层和密封框胶(Sealant)所构成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。目前在平板显示工艺制程中，清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤是黄光制程的主要制程单元，其中，清洗单元的作用是除去玻璃基板上的尘埃颗粒(Particle)，去水干燥单元的作用是除去基板上的水分且增加表面的疏水性，涂布单元的作用是在基板上涂一层光阻，预烘烤单元(其常用温度为90-130℃)的作用是除去光阻中的溶剂并增加光阻与基板的黏附性，曝光单元的作用是利用光罩(MASK)在基板上对光阻定义图形，显影单元的作用是使光阻在基板上留下特定图案而显示图形，后烘烤单元的作用使图案化的光阻在玻璃基板上进一步固化。涂布前的清洗制程对基板的洁净度要求高，特别是对于低温多晶硅(LowTemperaturePolySilicon，LTPS)制程，超过1μm的尘埃残留在基板上就会造成涂布不良，故要求涂布前将基板表面彻底清洗干净，因用水量较大，会将后端使用过的水经过滤器(Filter)过滤后供给给前段使用。而显影制程由于光阻与显影液的化学反应会产生大量的光阻残渣，需要经过置换水洗和直水洗两段水洗制程才能清洗干净，首先在置换水洗室中向刚进行药液处理后的基板主面供给清洗水而利用清洗水置换基板上的药液，接着在直接水洗室中向基板的主面供给纯水而水洗基板，此时在直接水洗室中清洗基板时使用纯水(新水)，在置换水洗室中清洗基板时，将在直接水洗室中使用的水经Filter过滤后回收到循环水箱中的水用作清洗水(循环水)的水，由此节约纯水的使用量；涂布前的清洗及显影段的水洗均会使用Filter，在实际生产中，因显影段回收再利用的水中含有光阻的浓度较高，显影段所使用的Filter寿命往往低于平均使用寿命(3个月)，特别对于平坦层(PLN)制程，Filter使用寿命不足1个月，而Filter价格昂贵，且频繁更换Filter会降低设备嫁动率，影响产能。故需改善现有的水洗水回收机构，降低回收水中的光阻浓度，从而提高Filter的使用寿命，降低产线生产成本。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种基板清洗设备，可有效提高过滤器的使用寿命进而提高设备嫁动率，降低产线生产成本。为实现上述目的，本专利技术提供一种基板清洗设备，包括水洗处理室、传送机构及清洗水供给机构；其中，所述水洗处理室包括在基板传送方向上依次并列排布的置换水洗室和直接水洗室；所述传送机构用于传送基板并贯穿所述置换水洗室和直接水洗室；所述清洗水供给机构用于向被传送的所述基板供给清洗水，所述清洗水供给机构包括用于向基板表面喷淋清洗水的多个喷淋管及用于向所述多个喷淋管输送清洗液的送液单元；所述直接水洗室内底部设有分隔构件，所述分隔构件为框形，所述分隔构件在所述直接水洗室内划分出对应于所述分隔构件内的位于中部的直接水洗区域及对应于所述分隔构件外的位于所述直接水洗区域外围的过渡水洗区域；所述直接水洗室在直接水洗区域底部和过渡水洗区域底部分别设有第一回收孔和第二回收孔，所述置换水洗室底部设有第三回收孔；所述送液单元具有用于回收清洗水的直接水循环水箱和置换水循环水箱；所述直接水洗室在直接水洗区域内已使用过的清洗水通过第一回收孔被分配至直接水循环水箱；所述直接水洗室在过渡水洗区域内已使用过的清洗水通过第二回收孔被选择性分配至直接水循环水箱或置换水循环水箱；所述置换水洗室内已使用过的清洗水通过第三回收孔被分配至置换水循环水箱；所述送液单元将所述直接水循环水箱内回收的清洗水供给给所述多条喷淋管中的一部分以对基板进行清洗，所述送液单元将纯水作为清洗水供给给所述多条喷淋管中的另一部分以对基板进行清洗。所述传送机构具有用于承载基板的承载面，设所述传送装置对基板传送的方向为第一方向，与所述第一方向垂直且与所述传送装置的承载面平行的方向为第二方向，所述传送装置的承载面在沿第二方向上相对于水平面逐渐降低而呈倾斜状，从而对基板进行倾斜式传送。所述传送装置的承载面相对于水平面倾斜的角度为10-20°。所述分隔构件在直接水洗室内位于所述传送机构下方，且所述分隔构件的高度不影响其上方的传送机构的运转。所述多个喷淋管包括设于所述置换水洗室内的多个置换水喷淋管及设于所述直接水洗室内在基板传送方向上依次并列排布的多个过渡喷淋管和多个直接水喷淋管；所述送液单元将所述直接水循环水箱内回收的清洗水供给给所述置换水喷淋管及过渡喷淋管以对基板进行清洗，所述送液单元将纯水作为清洗水供给给所述直接水喷淋管以对基板进行清洗。所述送液单元在将所述直接水循环水箱内的清洗水传送给所述置换水喷淋管及过渡喷淋管的传送通路上设有过滤器。所述送液单元设有将纯水传送至所述直接水循环水箱的传送通路以对从所述直接水洗室回收的清洗水进行稀释。每一喷淋管均设有多个喷嘴，每一喷淋管均通过其上的多个喷嘴向基板表面喷淋清洗水。所述直接水洗室在过渡水洗区域内已使用过的清洗水通过三通切换阀在直接水循环水箱和置换水循环水箱之间被选择性传送。所述的基板清洗设备用于显示面板制作过程中的显影制程。本专利技术的有益效果：本专利技术的基板清洗设备，直接水洗室内底部设有框形的分隔构件，所述分隔构件在所述直接水洗室内划分出对应于分隔构件内的位于中部的直接水洗区域及对应于分隔构件外的位于直接水洗区域外围的过渡水洗区域，且所述直接水洗室内在直接水洗区域底部和过渡水洗区域底部分别设有第一回收孔和第二回收孔，所述直接水洗室在直接水洗区域内已使用过的清洗水通过第一回收孔被分配至直接水循环水箱，所述直接水洗室在过渡水洗区域内已使用过的清洗水通过第二回收孔被选择性分配至直接水循环水箱或置换水循环水箱，本专利技术通过设置框形的分隔构件在直接水洗室内划分直接水洗区域和过渡水洗区域，并在直接水洗室的直接水洗区域底部和过渡水洗区域底部分别设置第一回收孔和第二回收孔来对已使用过的清洗水进行回收，可将直接水洗室内已使用过的清洗水分成光阻及异物浓度高和低的两部分，并可选择性地分开回收使用，纯度高的清洗水会从第一回收孔直接进入直接水循环水箱，而光阻及杂质浓度高的清洗水则可通过第二本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括水洗处理室(1)、传送机构(2)及清洗水供给机构(3)；其中，所述水洗处理室(1)包括在基板(5)传送方向上依次并列排布的置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；所述传送机构(2)用于传送基板(5)并贯穿所述置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；所述清洗水供给机构(3)用于向被传送的所述基板(5)供给清洗水，所述清洗水供给机构(3)包括用于向基板(5)表面喷淋清洗水的多个喷淋管(31)及用于向所述多个喷淋管(31)输送清洗液的送液单元(32)；所述直接水洗室(12)内底部设有分隔构件(15)，所述分隔构件(15)为框形，所述分隔构件(15)在所述直接水洗室(12)内划分出对应于所述分隔构件(15)内的位于中部的直接水洗区域(121)及对应于所述分隔构件(15)外的位于所述直接水洗区域(121)外围的过渡水洗区域(122)；所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)底部和过渡水洗区域(122)底部分别设有第一回收孔(123)和第二回收孔(124)，所述置换水洗室(11)底部设有第三回收孔(113)；所述送液单元(32)具有用于回收清洗水的直接水循环水箱(321)和置换水循环水箱(322)；所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)内已使用过的清洗水通过第一回收孔(123)被分配至直接水循环水箱(321)；所述直接水洗室(12)在过渡水洗区域(122)内已使用过的清洗水通过第二回收孔(124)被选择性分配至直接水循环水箱(321)或置换水循环水箱(322)；所述置换水洗室(11)内已使用过的清洗水通过第三回收孔(113)被分配至置换水循环水箱(322)；所述送液单元(32)将所述直接水循环水箱(321)内回收的清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的一部分以对基板(5)进行清洗，所述送液单元(32)将纯水作为清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的另一部分以对基板(5)进行清洗。...

【技术特征摘要】
1.一种基板清洗设备，其特征在于，包括水洗处理室(1)、传送机构(2)及清洗水供给机构(3)；其中，所述水洗处理室(1)包括在基板(5)传送方向上依次并列排布的置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；所述传送机构(2)用于传送基板(5)并贯穿所述置换水洗室(11)和直接水洗室(12)；所述清洗水供给机构(3)用于向被传送的所述基板(5)供给清洗水，所述清洗水供给机构(3)包括用于向基板(5)表面喷淋清洗水的多个喷淋管(31)及用于向所述多个喷淋管(31)输送清洗液的送液单元(32)；所述直接水洗室(12)内底部设有分隔构件(15)，所述分隔构件(15)为框形，所述分隔构件(15)在所述直接水洗室(12)内划分出对应于所述分隔构件(15)内的位于中部的直接水洗区域(121)及对应于所述分隔构件(15)外的位于所述直接水洗区域(121)外围的过渡水洗区域(122)；所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)底部和过渡水洗区域(122)底部分别设有第一回收孔(123)和第二回收孔(124)，所述置换水洗室(11)底部设有第三回收孔(113)；所述送液单元(32)具有用于回收清洗水的直接水循环水箱(321)和置换水循环水箱(322)；所述直接水洗室(12)在直接水洗区域(121)内已使用过的清洗水通过第一回收孔(123)被分配至直接水循环水箱(321)；所述直接水洗室(12)在过渡水洗区域(122)内已使用过的清洗水通过第二回收孔(124)被选择性分配至直接水循环水箱(321)或置换水循环水箱(322)；所述置换水洗室(11)内已使用过的清洗水通过第三回收孔(113)被分配至置换水循环水箱(322)；所述送液单元(32)将所述直接水循环水箱(321)内回收的清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的一部分以对基板(5)进行清洗，所述送液单元(32)将纯水作为清洗水供给给所述多条喷淋管(31)中的另一部分以对基板(5)进行清洗。2.如权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述传送机构(2)具有用于承载基板(5)的承载面，设所述传送机构(2)对基板(5)传送的方向为第一方向(X...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈学法，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42