A design method of ray filter plate of the invention uses Monte Carlo software to simulate ray filter quickly, shortens the design period, and does not need to process a series of multiple filter plates, thus reducing the design cost; moreover, the Monte Carlo software can directly analyze the filtering effect, which is easier to operate and improves the filtering effect. Accuracy of assessment.
【技术实现步骤摘要】
一种射线滤波片设计方法
本专利技术涉及射线滤波片,具体涉及一种射线滤波片设计方法。
技术介绍
应用于工业和医疗领域的X射线源产生的X射线具有一定量的能量分布,即具有多色性。在医疗领域,低能射线对成像的贡献小,并且会增大病人的吸收计量;而在工业领域,射线的多色性会产生硬化效应,降低成像质量。而射线滤波片,可在不影响成像的前提下,减少X射线中低能射线的含量,达到滤波效果。目前,现有滤波片在设计时采用实验方法,包括以下步骤:a)选定滤波材料,并加工成一系列具有不同厚度的滤波片;b)测量该系列滤波片中不同滤波片的滤波效果,即测量射线通过这些滤波片后剂量和能谱的情况;c)对滤波效果进行评估,选择合适的滤波片。这种滤波片设计方法在测量射线能谱时需用专用的仪器,这种仪器成本较高,且不易于操作;同时,需要加工一系列的多个滤波片,加工、测量过程复杂,加工周期长,导致设计周期长;另外,这种设计方法对滤波效果的评估不够准确。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术的目的在于优化射线滤波片的设计方法,提供一种射线滤波片设计方法,以缩短设计周期、降低设计成本、降低操作难度、提高滤波效果评估的准确性。为达到上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一种射线滤波片设计方法,包括以下步骤:1)利用蒙特卡罗软件计算射线源在测量位置的射线剂量D1和能谱分布Ψ1(E),其中E为射线能量;2)利用蒙特卡罗软件设定滤波条件;3)利用蒙特卡罗软件设定滤波材料和厚度参数;4)建立模型,并利用蒙特卡罗软件计算滤波后的射线剂量D2和能谱分布Ψ2(E),其中E为射线能量;5)利用蒙特卡罗软件分析步骤4)中得到的射线剂量 ...
【技术保护点】
1.一种射线滤波片设计方法,其特征在于包括以下步骤:1)利用蒙特卡罗软件计算射线源在测量位置的射线剂量D1和能谱分布Ψ1(E),其中E为射线能量;2)利用蒙特卡罗软件设定滤波条件;3)利用蒙特卡罗软件设定滤波材料和厚度参数;4)建立模型,并利用蒙特卡罗软件计算滤波后的射线剂量D2和能谱分布Ψ2(E),其中E为射线能量;5)利用蒙特卡罗软件分析步骤4)中得到的射线剂量D2和能谱分布Ψ2(E)是否满足步骤2)中设定的滤波条件,若满足,滤波片设计完成,若不满足,调整滤波片材料和厚度参数,重复步骤3)、4)、5),直至满足滤波条件。
【技术特征摘要】
1.一种射线滤波片设计方法,其特征在于包括以下步骤:1)利用蒙特卡罗软件计算射线源在测量位置的射线剂量D1和能谱分布Ψ1(E),其中E为射线能量;2)利用蒙特卡罗软件设定滤波条件;3)利用蒙特卡罗软件设定滤波材料和厚度参数;4)建立模型,并利用蒙特卡罗软件计算滤波后的射线剂量D2和能谱分布Ψ2(E),其中E为射线能量;5)利用蒙特卡罗软件分析步骤4)中得到的射线剂量D2和能谱分布Ψ2(E)是否满足步骤2)中设定的滤波条件,若满足,滤波片设计完成,若不满足,调整滤波片材料和厚度参数,重复步骤3)、4)、5),直至满足滤波条件。2.根据权利要求1所述的一种射线滤波片设计方法,其特征在于:步骤5)完成后,根据步骤5)模拟计算的结果加工滤波片,并进行实际测量,若实际测量结果满足滤波要求则不需对滤波片结构进行修改;若不满足滤波要求则调整滤波片厚度,直至实际测量满足滤波要求。3.根据权利要求1所述的一种射线滤波片的设计方法,其特征在于:所述滤波条件为完全滤波,即滤波后射线能量低于a1keV的分量为0,滤波后射线剂量与滤波前剂量之比满足D2/D1>η,其中,a1keV为设定的滤...
【专利技术属性】
技术研发人员:代志力,陈研,申济菘,运明华,
申请(专利权)人:重庆真测科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:重庆,50
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