针对具有挠曲的各种基板，将基板稳定地吸附保持于工作台。该基板吸附装置(30)相对于形成在工作台(10)上的多个孔(15b)能够装卸。基板吸附装置(30)具备凸缘部件(31)、缸体(32)和螺旋弹簧(33)。凸缘部件(31)的内部具有上方开口的容纳部(31a)，并且在容纳部(31a)的底部具有与吸附源连通的连通孔(31c)，凸缘部件(31)相对于工作台(10)上的孔(15b)能够装卸。缸体(32)以在规定的范围上下移动自如的方式被配置在凸缘部件(31)的容纳部(31a)中，在缸体(32)的内部具有上下贯通的抽吸孔(32a)。螺旋弹簧(33)对缸体(32)向缸体(32)上方施力，使得缸体(32)的上端面从工作台(10)的载置面突出规定的量。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板吸附装置
本专利技术涉及基板吸附装置，特别是涉及相对于形成在工作台上的多个孔中的各个孔能够装卸的基板吸附装置。此外，本专利技术涉及工作台。
技术介绍
在基板的制造工序中，需要将被加工的基板固定于工作台。通常，在基板表面形成有各种元件。因此，无法将按压部件抵接于基板表面而向工作台侧按压并将基板固定于工作台。因此，例如，如专利文献1所示，采用了一种基板吸附装置，其用于将基板背面吸附于工作台。在该专利文献1所述的基板吸附装置中，在工作台的一部分形成有与内部连通的连通孔，沿着该连通孔而在上下方向上滑动自如地配置有支承部。此外，在支承部的上部设置有具有抽吸孔的吸盘。并且，在该专利文献1所述的装置中，一边利用吸盘吸附被载置在工作台上的基板一边将该基板向工作台侧拉近，从而将基板固定在工作台的载置面上。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2012-146783号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题在专利文献1的装置中，即使是由于翘曲等而具有挠曲的基板，也能够将基板吸附着固定在工作台上。但是，由于被载置在工作台上的基板根据在先前工序中的处理内容或基板的形状等而翘曲或起伏的程度不同，因此，挠曲量不同。因此，优选的是，能够根据挠曲的程度而变更吸盘的结构及吸附力等吸附条件。此外，在利用专利文献1所述的基板吸附装置吸附基板的多处的情况下，在基板中，被吸附装置吸附的部分紧贴地被保持在工作台上，但其它部分有时由于翘曲或起伏而被保持成从工作台上抬起的状态。若在这样的状态下对基板进行加工，则招致加工品质降低。本专利技术的课题在于，针对于具有挠曲的各种基板，能够将基板稳定地吸附保持在工作台上。本专利技术的另一课题在于，针对于具有挠曲的基板，能够将整个基板吸附固定在工作台上，抑制加工品质降低。用于解决课题的手段(1)本专利技术的基板吸附装置是如下装置：相对于形成在工作台上的多个孔中的各个孔能够装卸，用于吸附被载置在工作台上的基板。该基板吸附装置具备凸缘部件、缸体和施力单元。凸缘部件的内部具有上方开口的容纳部，并且在容纳部的底部具有与吸附源连通的连通孔，所述凸缘部件相对于工作台上的孔能够装卸。缸体以在规定的范围上下移动自如的方式被配置在凸缘部件的容纳部中，在内部具有上下贯通的抽吸孔。施力单元对缸体向上方施力，使得缸体的上端面从工作台的载置面突出规定的量。根据该装置，当基板被载置在工作台上时，缸体的末端与基板的背面抵接。缸体上下移动自如、并且被施力单元向上方施力，因此，即使由于翘曲或起伏等而基板存在挠曲，缸体的末端也与基板紧贴。在该状态下缸体和凸缘部件的内部被减压，由此，基板借助于大气压而被按压于缸体的末端。当基板被向下方按压时(即被抽吸时)，缸体克服螺旋弹簧的作用力而向下方移动，基板被缸体吸附着向下方拉近而与工作台的载置面抵接。这里，基板的挠曲根据先前工序的内容而不同，此外，基板的包括厚度在内的形状也各种各样。因此，在恒定的固定的吸附条件(用于吸附的规范)下，有时无法实现稳定的吸附保持。因此，根据本专利技术，相对于形成在工作台上的孔而能够装卸凸缘部件，能够作为单元而容易地更换包括该凸缘部件在内的整个吸附装置。因此，能够根据基板的挠曲程度或基板的形状等而在最适当的吸附条件下将基板吸附于工作台。因此，能够稳定地将基板保持在工作台上进行加工。(2)优选的是，缸体具有金属制的缸体主体和树脂制的抵接部件。抵接部件被安装在缸体主体的上部并与被载置在工作台上的工件抵接。这里，由于树脂制的抵接部件与基板抵接，因此，通过利用例如与基板的摩擦系数小的树脂形成抵接部件，能够使基板不易在横向上被约束。此外，通过利用例如耐磨损性良好的树脂形成抵接部件，因此，能够延长缸体的寿命。(3)优选的是，凸缘部件是金属制的。并且，凸缘部件的容纳部的内周面与缸体主体的外周面之间的间隙是50μm以下。在吸附时，容纳有缸体的凸缘部件的内部被减压。这里，由于缸体相对于凸缘部件移动自如，因此，当两者之间的间隙过宽时，外部空气经由该间隙被吸入，无法充分地吸附基板。因此，根据本专利技术，使凸缘部件的容纳部与缸体主体之间的间隙为50μm以下。因此，能够得到充分的吸附力。(4)优选的是，还具备限制机构，所述限制机构限制缸体的上端面从工作台的载置面突出的量。(5)优选的是，限制机构具有孔和销。孔在上下方向上按规定的长度形成于缸体。销被设置于凸缘部件，当缸体在上下方向上移动时所述销与孔的上下的端面抵接。(6)本专利技术的工作台被设置于基板加工装置，所述基板加工装置载置被加工的基板，并且吸附保持被载置的基板。该工作台具备工作台主体和可动吸附装置。在工作台主体的表面形成有与吸附源连通的槽，能够借助于槽而将基板吸附保持在载置面上。可动吸附装置具有能够吸附基板的缸体，所述缸体以上端面从工作台主体的载置面突出的方式上下移动自如，所述可动吸附装置被配置在工作台主体的多处。根据该工作台，当具有挠曲的基板被运过来时，利用被设置在工作台的多处的可动吸附装置吸附基板。进而，通过可动吸附装置的缸体向下方移动，从而基板被载置在工作台的载置面上。然后，借助于形成在工作台主体上的槽吸附整个基板，从而能够将整个基板紧贴地保持在工作台上。因此，即使在具有挠曲的基板被运入的情况下，也能够均匀地加工整个基板，能够抑制加工品质的降低。(7)优选的是，工作台主体的槽形成为围绕可动吸附装置的周围。(8)优选的是，在工作台主体形成有孔。并且，可动吸附装置具有凸缘部件、缸体和施力单元。凸缘部件的内部具有上方开口的容纳部，并且在容纳部的底部具有与吸附源连通的连通孔，所述凸缘部件相对于工作台主体的孔能够装卸。缸体以在规定的范围上下移动自如的方式被配置在凸缘部件的容纳部中，在内部具有上下贯通的抽吸孔。施力单元对缸体向上方施力，使得缸体的上端面从工作台主体的载置面突出规定的量。专利技术效果根据如上的本专利技术的基板吸附装置，针对具有挠曲的各种基板，能够将基板稳定地吸附保持在工作台上。此外，根据本专利技术的工作台，针对具有挠曲的基板，能够将整个基板吸附固定在工作台上，能够抑制加工品质降低。附图说明图1是本专利技术的一个实施方式的工作台的平面图。图2是本专利技术的一个实施方式的基板吸附装置的截面构成图。具体实施方式[结构]图1是本专利技术的一个实施方式的工作台10的平面图。工作台10具备一块底板20和被固定在底板20的上部的第一至第五载置台11～15。第一和第二载置台11、12被配置在两端，宽度最窄。在第一和第二载置台11、12的表面形成有多个长槽11a、12a。第三和第四载置台13、14被配置在第一和第二载置台11、12的内侧，宽度形成得比第一和第二载置台11、12宽。在第三和第四载置台13、14的表面形成有矩形槽和由将矩形的内部分隔成四个的“+”形状的槽构成的多个“田”形状的槽13a、14a。矩形槽及其内部的槽彼此连通。第五载置台15被配置在中央部。第五载置台15宽度形成得最宽。此外，在第五载置台15的表面形成有与第三和第四载置台13、14同样的“田”形状的槽15a。另外，各载置台11～15的槽11a～15a经由共用的一个系统的吸附系统而与未图示的吸附源(例如真空泵)连接。在形成于第五载置台15的6个槽15a中的两个部分，在被槽围绕的四处分别配置有可动吸附装置30。在图2中示出了可动吸附装本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板吸附装置，其相对于形成在工作台上的多个孔中的各个孔能够装卸，用于吸附被载置在所述工作台上的基板，其中，所述基板吸附装置具备：凸缘部件，其内部具有上方开口的容纳部，并且在所述容纳部的底部具有与吸附源连通的连通孔，所述凸缘部件相对于所述工作台上的孔能够装卸；缸体，其以在规定的范围上下移动自如的方式被配置在所述凸缘部件的容纳部中，在内部具有上下贯通的抽吸孔；和施力单元，其对所述缸体向上方施力，使得所述缸体的上端面从所述工作台的载置面突出规定的量。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.25 JP 2015-2532971.一种基板吸附装置，其相对于形成在工作台上的多个孔中的各个孔能够装卸，用于吸附被载置在所述工作台上的基板，其中，所述基板吸附装置具备：凸缘部件，其内部具有上方开口的容纳部，并且在所述容纳部的底部具有与吸附源连通的连通孔，所述凸缘部件相对于所述工作台上的孔能够装卸；缸体，其以在规定的范围上下移动自如的方式被配置在所述凸缘部件的容纳部中，在内部具有上下贯通的抽吸孔；和施力单元，其对所述缸体向上方施力，使得所述缸体的上端面从所述工作台的载置面突出规定的量。2.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其中，所述缸体具有：金属制的缸体主体；和树脂制的抵接部件，其被安装于所述缸体主体的上部，并与被载置在所述工作台上的工件抵接。3.根据权利要求2所述的基板吸附装置，其中，所述凸缘部件是金属制的，所述凸缘部件的容纳部的内周面与所述缸体主体的外周面之间的间隙是50μm以下。4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板吸附装置，其中，所述基板吸附装置还具备限制机构，所述限制机构限制所述缸体的上端面从所述工作台的载置面突出的量。5.根据权利要求4所述的基...
【专利技术属性】
技术研发人员：堀井良吾，野崎正和，
申请(专利权)人：三星钻石工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本,JP
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