曝光系统和曝光机载台技术方案

本发明专利技术提供了一种曝光系统和曝光机载台，涉及显示技术领域，主要目的是减轻Chuck Mura的产生。该曝光系统包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。该曝光系统主要用于制作显示面板的曝光工艺。

Exposure system and exposure airborne platform

The invention provides an exposure system and an exposure airborne platform, relating to the display technology field, and the main purpose is to reduce the production of Chuck Mura. The exposure system comprises an exposure airborne platform comprising a carrier substrate and a protrusion mounted on the carrier substrate; a substrate substrate on which the substrate substrate is mounted and in contact with the protrusion; the protrusion is made of a transparent material; or the substrate substrate with the protrusion. An opaque layer is arranged on one side of the contact. The exposure system is mainly used for making the exposure process of the display panel.

【技术实现步骤摘要】
曝光系统和曝光机载台
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种曝光系统和曝光机载台。
技术介绍
在制作显示面板时，需要将衬底基板置于曝光机载台上进行曝光，其中，为了防止静电吸附，载台表面上设置有凸起，衬底基板的背面与该凸起接触，以便在曝光完成后衬底基板与载台更好的分离。目前，载台表面上的凸起与载台是一体成型结构，均为不透光材料制成，在曝光过程中，光照射到衬底基板时，光的一部分会穿过衬底基板照射到载台上，此时凸起会将光反射至衬底基板，这样就会在需要曝光的光刻胶区域发生二次曝光，使得接触凸起的衬底基板部分与未接触凸起的衬底基板部分对应的光刻胶图案不一致，导致ChuckMura的产生。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种曝光系统和曝光机载台，主要目的是减轻ChuckMura的产生。为达到上述目的，本专利技术主要提供如下技术方案：一方面，本专利技术实施例提供一种曝光系统，包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。具体地，所述凸起的表面设置有增透膜。具体地，所述增透膜的厚度为照射光线的波长的四分之一的奇数倍；所述增透膜的折射率为所述衬底基板的材料的折射率与所述凸起的材料的折射率的乘积的开平方。具体地，所述载台基体由透明材质制成。具体地，所述载台基体中设置有凸起的表面设置有增透膜。具体地，所述载台基体中设置有凸起的表面为凹凸不平面。另一方面，本专利技术实施例提供一种曝光机载台，包括：载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起，所述凸起由透明材质制成。具体地，所述凸起的表面设置有增透膜。具体地，所述增透膜的厚度为照射光线的波长的四分之一的奇数倍；所述增透膜的折射率为所述衬底基板的材料的折射率与所述凸起的材料的折射率的乘积的开平方。具体地，所述载台基体由透明材质制成；所述载台基体中设置有凸起的表面设置有增透膜。具体地，所述载台基体中设置有凸起的表面为凹凸不平面。本专利技术实施例提供的一种曝光系统和曝光机载台，曝光系统包括曝光机载台和衬底基板，曝光机载台包括载台基体以及设置于载台基体上的凸起，衬底基板设置于凸起上，且与凸起接触，为了解决现有技术中出现的在需要曝光的光刻胶区域发生二次曝光的问题，本专利技术实施例提供了两种实施方式：一种为凸起由透明材质制成；另一种为衬底基板中与凸起接触的一侧设置有不透光层。其中，当凸起由透明材质制成时，从衬底基板穿过的一部分光会继续穿过凸起，减弱了凸起对光的反射，从而减轻ChuckMura的产生；当衬底基板中与凸起接触的一侧设置有不透光层时，使得照射到衬底基板上的光无法穿过衬底基板到达凸起，从而避免发生凸起对光造成反射，进而减轻ChuckMura的产生。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种曝光系统的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的另一种曝光系统的结构示意图；图3为图1的曝光系统在曝光工作状态下光的传播示意图；图4为本专利技术实施例提供的一种凸起上设置增透膜的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的另一种曝光系统的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的一种曝光机载台的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。如图1和图2所示，本专利技术实施例提供一种曝光系统，包括：曝光机载台1，曝光机载台1包括载台基体11以及设置于载台基体11上的凸起12；衬底基板2，衬底基板2设置于凸起12上，且与凸起12接触；参见图1，凸起12由透明材质制成；或者，参见图2，衬底基板2中与凸起12接触的一侧设置有不透光层21。其中，曝光机载台1是用于承载衬底基板2的载体，衬底基板2通常为玻璃材质，将衬底基板2置于曝光机载台1上时，衬底基板2与载台基体11上的凸起12接触，进行曝光时，光线照射到衬底基板2上，在现有技术中，光的一部分会穿过衬底基板照射到曝光机载台上，此时凸起会将光反射至衬底基板，这样就会在需要曝光的光刻胶区域发生二次曝光，使得接触凸起的衬底基板部分与未接触凸起的衬底基板部分对应的光刻胶图案不一致，导致ChuckMura的产生；本专利技术实施例采用两种方式在解决上述问题：一种实施方式为：参见图1和图3，凸起12由透明材质制成，当光照射到衬底基板2上时，穿过衬底基板2的一部分光会继续穿过凸起12，从而减弱凸起12对光的反射，进而减轻ChuckMura的产生。其中，透光材料可采用玻璃材料、树脂材料、聚碳酸酯材料等透光性较强材料。另一种实施方式为：参见图2，衬底基板2中与凸起12接触的一侧设置有不透光层21，其中，不透光层21可为金属膜或者其他不透光膜层，可以通过贴附方式设置在衬底基板2中与凸起12接触的表面上，使得光无法穿过衬底基板2到达凸起12，从而避免发生凸起12对光造成反射，进而减轻ChuckMura的产生。本专利技术实施例提供的一种曝光系统，包括曝光机载台和衬底基板，曝光机载台包括载台基体以及设置于载台基体上的凸起，衬底基板设置于凸起上，且与凸起接触，为了解决现有技术中出现的在需要曝光的光刻胶区域发生二次曝光的问题，本专利技术实施例提供了两种实施方式：一种为凸起由透明材质制成；另一种为衬底基板中与凸起接触的一侧设置有不透光层。其中，当凸起由透明材质制成时，从衬底基板穿过的一部分光会继续穿过凸起，减弱了凸起对光的反射，从而减轻ChuckMura的产生；当衬底基板中与凸起接触的一侧设置有不透光层时，使得照射到衬底基板上的光无法穿过衬底基板到达凸起，从而避免发生凸起对光造成反射，进而减轻ChuckMura的产生。具体地，参见图4，凸起12的表面设置有增透膜13。其中，增透膜13的作用是减少反射光的强度，从而增加透射光的强度；凸起12的表面设置增透膜13，当凸起12由透明材质制成时，从衬底基板2穿过的一部分光能够更多地穿过凸起12，减少光的反射，从而减轻ChuckMura的产生。增透膜13可通过表面贴附、镀膜或者涂覆的方式设置在凸起12的表面，只要能够将增透膜13设置在凸起12的表面，以起到光的增透效果即可。具体地，增透膜13的厚度为照射光线的波长的四分之一的奇数倍。根据增透膜原理采用该计算方式计算增透膜13的厚度，其中，照射光线的波长可采用曝光机产生光源的平均波长。具体地，增透膜13的折射率为衬底基板2的材料的折射率与凸起12的材料的折射率的乘积的开平方。根据折射率计算公式来计算增透膜13的折射率，其折射率计算公式为n1为衬底基板的材料的折射率，n2为凸起的材料的折射率。具体地，如图5所示，载台基体11由透明材质制成。为了进一步减少光的反射，载台基体11的材料可采用透明材质，例如玻璃材料、树脂材料、聚碳酸酯材料等透光性较强的材料。当光依次穿过衬底基板2和凸起12照射到载台基体11时，可穿过载台基体11，进一步减少光的反射，从而进一步减轻ChuckMura的产生。具体地，载台基体11中设置有凸起12的表面设置有增透膜。当光依次穿过衬底本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光系统，其特征在于，包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。

【技术特征摘要】
1.一种曝光系统，其特征在于，包括：曝光机载台，所述曝光机载台包括载台基体以及设置于所述载台基体上的凸起；衬底基板，所述衬底基板设置于所述凸起上，且与所述凸起接触；所述凸起由透明材质制成；或者，所述衬底基板中与所述凸起接触的一侧设置有不透光层。2.根据权利要求1所述的曝光系统，其特征在于，所述凸起的表面设置有增透膜。3.根据权利要求2所述的曝光系统，其特征在于，所述增透膜的厚度为照射光线的波长的四分之一的奇数倍；所述增透膜的折射率为所述衬底基板的材料的折射率与所述凸起的材料的折射率的乘积的开平方。4.根据权利要求1至3中任一项所述的曝光系统，其特征在于，所述载台基体由透明材质制成。5.根据权利要求4所述的曝光系统，其特征在于，所述载台基体中设置有凸起的表面设置有增透膜。6.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：王文涛，史大为，王培，杨璐，徐海峰，王子峰，李峰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11