无硅离型膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种无硅离型膜，包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。结构简单，易于实现，在基材层底部涂了防静电层，可以很好的防静电；基材层采用PET光学级聚酯薄膜使离型膜具有低雾度和高透光率等性能；无硅涂布的设置，解决了对硅敏感的电子材料加工需要使用离型膜的需求，同时也杜绝了硅油残留污染环境的问题；最后，离型层的凹槽设置可以减轻重量并且起到很好的抗压效果。

Silicon free film

The utility model discloses a silicon-free separating film, which comprises an anti-static coating, a substrate layer, a separating layer and a silicon-free coating layer arranged in sequence. The upper edge of the separating layer is provided with a rectangular groove, and the lower edge of the separating layer is provided with a semicircular groove. The rectangular groove is arranged staggered with the semicircular groove. Simple structure, easy to achieve, in the substrate layer at the bottom of the anti-static coating, can be very good anti-static; substrate layer using PET optical grade polyester film so that the separation film has low fog and high transmittance and other properties; silicon-free coating settings, to solve the silicon-sensitive electronic materials processing needs to use the separation film, but also at the same time The problem of residual silicone oil contamination to the environment is eliminated. Finally, the groove setting of the separation layer can reduce weight and play a good compressive effect.

【技术实现步骤摘要】
无硅离型膜
本技术涉及离型膜，尤其涉及一种无硅离型膜。
技术介绍
离型膜是指表面具有分离性的薄膜，离型膜与特定的材料在有限的条件下接触后不具有粘性，或轻微的粘性。目前离型膜广泛应用于电子胶粘剂、印刷线路板、手机等领域，但是部分对硅敏感的电子材料加工过程中如果使用了含硅离型膜，那将影响该电子产品的性能，甚至会影响该产品的使用寿命，另外含硅材料的使用也将对我们赖以生存的环境产生污染。另外现有的离型膜再大量运输过程时还存在较重，运输不方便，抗压性不好等缺点。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供了一种不含硅、质量轻、抗压性能好的无硅离型膜。为了解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种无硅离型膜，包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。作为优选，所述基材层为PET光学级聚酯薄膜。作为优选，所述半圆形凹槽的直径与长方形凹槽的长度相等。作为优选，所述防静电涂层的厚度为2-4um作为优选，所述基材层的厚度为8-12um。作为优选，所述离型层的厚度为15-22um。本技术具有以下的特点和有益效果：结构简单，易于实现，在基材层底部涂了防静电层，可以很好的防静电；基材层采用PET光学级聚酯薄膜使离型膜具有低雾度和高透光率等性能；无硅涂布的设置，解决了对硅敏感的电子材料加工需要使用离型膜的需求，同时也杜绝了硅油残留污染环境的问题；最后，离型层的凹槽设置可以减轻重量并且起到很好的抗压效果。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术的结构示意图。图中，1-防静电涂层；2-基材层；3-离型层；31-长方形凹槽；32-半圆形凹槽；4-无硅涂布层。具体实施方式下面结合附图对本技术的具体实施方式作进一步说明。在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本技术，但并不构成对本技术的限定。此外，下面所描述的本技术各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。如图所示，一种无硅离型膜，包括依次叠设的防静电涂层1、基材层2、离型层3和无硅涂布层4，离型层3的上部边缘开设有长方形凹槽31，离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽32，长方形凹槽31与半圆形凹槽32错开排列，长方形凹槽31与半圆形凹槽32可以承受不同方向的力，增强了抗压性。于本技术的进一步改进，基材层为PET光学级聚酯薄膜。于本技术的更进一步改进，半圆形凹槽的直径与长方形凹槽的长度相等。于本技术的更进一步改进，防静电涂层的厚度为2-4um于本技术的更进一步改进，基材层的厚度为8-12um。于本技术的更进一步改进，离型层的厚度为15-22um。工作原理：在基材层底部涂了防静电层，可以很好的防静电；基材层采用PET光学级聚酯薄膜使离型膜具有低雾度和高透光率；无硅涂布的设置，解决了对硅敏感的电子材料加工需要使用离型膜的需求，同时也杜绝了硅油残留污染环境的问题；最后，离型层的长方形凹槽与半圆形凹槽设置可以减轻重量，方便运输并且起到很好的抗压效果，使用寿命更长久，使用效果更好。以上结合附图对本技术的实施方式作了详细说明，但本技术不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本技术原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种无硅离型膜，其特征在于：包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。

【技术特征摘要】
1.一种无硅离型膜，其特征在于：包括依次叠设的防静电涂层、基材层、离型层和无硅涂布层，所述离型层的上部边缘开设有长方形凹槽，所述离型层的下部边缘开设有半圆形凹槽，所述长方形凹槽与半圆形凹槽错开排列。2.根据权利要求1所述的无硅离型膜，其特征在于：所述基材层为PET光学级聚酯薄膜。3.根据权利要求1所述的无硅...

【专利技术属性】
技术研发人员：李刚，
申请(专利权)人：扬州万润光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32