偏振片保护膜、其制造方法及偏振片技术

本发明专利技术的课题在于，提供一种含有降冰片烯类树脂、不增加雾度而改良了滑动性的偏振片保护膜。另外，提供一种该偏振片保护膜的制造方法及具备该偏振片保护膜的偏振片。该偏振片包覆膜含有氢化降冰片烯类树脂和微粒，上述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05～0.20μm的范围内，上述二次粒子的粒径的相对标准偏差为5～20％的范围内，并且，上述偏振片保护膜的表面的峰密度为1000～5000(个/mm2)的范围内。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】偏振片保护膜、其制造方法及偏振片
本专利技术涉及偏振片保护膜及其制造方法。另外，本专利技术涉及具有偏振片保护膜的偏振片。更详细而言，本专利技术涉及改良了滑动性的偏振片保护膜及其制造方法。
技术介绍
近年来，液晶显示装置、有机电致发光(以下简称为“有机EL”。)显示装置、触摸面板等的用途正在扩大。在这样的设备中，对支撑体、保护膜等使用各种树脂膜。其中，由加氢(以下称为“氢化”。)降冰片烯类树脂形成的膜的耐热性高、吸水率低。因此，由氢化降冰片烯类树脂形成的膜由于尺寸稳定性、湿度变化耐性优异而优选使用。另外，氢化降冰片烯类树脂由于光弹性模量小而能将固有双折射抑制为较低水平。因此，作为在光学上需要各向同性的用途的偏振片保护膜，是光学特性也优异的原料。另一方面，对显示装置、触摸面板的薄膜化、轻质要求也日益提高。因此，树脂膜的薄膜化、轻质化也成为了重要的研究课题。因此，对于上述具有优异的光学特性的氢化降冰片烯类树脂，对薄膜化的要求提高。氢化降冰片烯类树脂具有如上述那样的优点，但另一方面，存在滑动性差的问题。由于膜彼此间的滑动性差，因此在制造膜时容易发生问题。特别是卷绕膜时，如果膜彼此的滑动性差，则存在卷绕时膜断裂、受损的问题。特别是薄膜化时，上述滑动性进一步劣化。如此地，氢化降冰片烯类树脂膜的滑动性不充分，因此难以处理，应用受到了限制。作为氢化降冰片烯类树脂膜的滑动性的改良方法，提出了在表面形成凹凸的方法、在表面涂布抗静电层等薄膜的方法、粘贴保护膜并在该膜形成凹凸的方法等。例如，在专利文献1中公开了涂布有包覆层表面的氮原子量为0.5～10mol％的抗静电剂的膜。其是通过降低表面的带电性，从而兼顾平滑性和滑动性的膜。在专利文献2中提出了通过涂布含有具有亲水性的导电性化合物的抗静电层，从而赋予耐药性的效果的技术。在专利文献3中公开了通过以喷墨方式在膜表面形成微细凸结构，从而提高滑动性。在专利文献4中公开了通过在表面粘贴具有一定的Ra(算术平均粗糙度)、Sm(凹凸的平均间隔)的保护膜从而进行改良。然而，在涂布专利文献1及2中记载的抗静电层的情况下，由于涂布前的膜的滑动性差，因此涂布加工的收率差，需要进行改善。在通过专利文献3中记载的喷墨方式在膜表面形成凹凸的情况下，由微粒分散液的液滴产生的微妙的着地位置的偏差导致污染，需要进行改善。专利文献4中提出的、以保护目的贴合其它膜的技术是常规方法，但膜厚变大，而且产生作为废弃物而剥离的作为保护目的的膜，在环境方面存在问题，因此，需要进行改善。另外，在专利文献5中公开了在环状烯烃类树脂膜中添加消光剂微粒的技术。本专利技术人对该专利文献5中提出的方法反复进行研究的结果为：在氢化降冰片烯类树脂中含有消光剂的情况下，滑动性改良的效果不充分。另外，为了改良滑动性而大量添加消光剂的情况下，偏振片保护膜的雾度(浊度)变大。因此，在氢化降冰片烯类树脂中，不增加雾度而改良滑动性实际上是困难的。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2003-39619号公报专利文献2：日本专利第5377283号公报专利文献3：日本专利第5182092号公报专利文献4：日本特开2012-61712号公报专利文献5：日本特开2007-98643号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术鉴于上述问题而完成，其解决问题在于，提供一种含有氢化降冰片烯类树脂、不增加雾度而改良滑动性的偏振片保护膜。另外，其解决问题在于，提供一种该偏振片保护膜的制造方法及具备该偏振片保护膜的偏振片。解决问题的方法本专利技术人等为了解决上述问题而对上述问题的原因等进行了研究，其结果，发现了一种含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的偏振片保护膜，通过使上述偏振片保护膜表面的峰密度为特定范围内，从而改良了滑动性，而且发现通过将含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的膜与氢化降冰片烯类树脂混合，能促进浆料中微粒的生长，改良了偏振片保护膜的滑动性，从而完成了本专利技术。即、本专利技术的上述问题可通过以下的方法解决。1.一种偏振片保护膜，其含有降冰片烯类树脂和微粒，上述降冰片烯类树脂是氢化降冰片烯类树脂，上述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05～0.20μm的范围内，上述二次粒子的粒径的相对标准偏差为5～20％的范围内，并且，上述偏振片保护膜表面的峰密度为1000～5000(个/mm2)的范围内。2.根据第1项所述的偏振片保护膜，其中，上述偏振片保护膜的雾度值为2.0％以下。3.根据第1项或第2项所述的偏振片保护膜，其通过将至少含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的膜、以及氢化降冰片烯类树脂混合而成，由下式定义的混合率为20～80(％)的范围内，混合率(％)＝{a/(a+b)}×100此处，a表示含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的膜的质量(g)，b表示氢化降冰片烯类树脂的质量(g)。4.根据第1项～第3项中任一项所述的偏振片保护膜，其中，在温度40℃、相对湿度90％的环境下按照JISZ0208进行测定时，上述偏振片保护膜的透湿度为100～400g/m2·24h的范围内。5.根据第1项～第4项中任一项所述的偏振片保护膜，其中，上述偏振片保护膜的膜厚为5～40μm的范围内。6.根据第1项～第5项中任一项所述的偏振片保护膜，其中，上述偏振片保护膜的由下式(I)定义的面内方向的相位差值Ro(nm)及由下式(II)定义的厚度方向的相位差值Rt(nm)满足下式(III)及下式(IV)，式(I)Ro＝(nx-ny)×d式(II)Rt＝{(nx+ny)/2-nz}×d式(III)|Ro|≤10nm式(IV)|Rt|≤10nm式(I)～(IV)中，Ro及Rt在温度23℃、相对湿度55％的环境下通过波长590nm的光测定的相位差值，nx是上述偏振片保护膜在膜面内的慢轴方向的折射率，ny是上述偏振片保护膜在膜面内的快轴方向的折射率，nz是上述光学膜在膜厚方向的折射率，d是上述偏振片保护膜的膜厚(nm)。7.第1项～第6项中任一项所述的偏振片保护膜的制造方法，该制造方法具有使含有上述氢化降冰片烯类树脂及溶剂的高分子溶液流延至支撑体上并进行制膜的工序。8.一种偏振片，其具有第1项～第6项中任一项所述的偏振片保护膜。专利技术的效果通过本专利技术的上述方法，能够提供一种含有氢化降冰片烯类树脂、不增加雾度而改良了滑动性的偏振片保护膜。本专利技术的偏振片保护膜由于具有如上述那样的特性，因此，能够作为显示装置、触摸面板用的膜优选使用。另外，能够提供制造工序中的处理性良好、生产适应性高的偏振片保护膜的制造方法及偏振片。对于本专利技术的效果的显现机理和作用机理，尚未明确，但如下所示地进行推测。由于氢化降冰片烯类树脂是极性低的树脂，因此，与极性高的树脂、例如纤维素酯树脂相比，与微粒的相互作用弱。于是，不易使微粒凝聚而作为二次粒子(凝聚体)生长。从而，为了使微粒成长为有效的粒径，需要增加微粒的添加量。因此，为了确保滑动性而大量添加微粒时，产生了雾度劣化的问题。本专利技术人为了解决上述的问题而进行了深入研究，其结果，通过将一次性制膜后的膜(含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的偏振片保护膜)再溶解于有机溶剂中而制备浆料，从而将微粒的凝聚体投入浆料中，能够使微粒成长。此外，推测通过组合一次粒径的大小、氧化硅微粒表面的羟基包覆率的选择，能够制备期望大小的二次粒子(凝聚体)，由本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种偏振片保护膜，其含有降冰片烯类树脂和微粒，所述降冰片烯类树脂是氢化降冰片烯类树脂，所述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05～0.20μm的范围内，所述二次粒子的平均粒径的相对标准偏差为5～20％的范围内，并且，所述偏振片保护膜表面的峰密度为1000～5000(个/mm2)的范围内。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.12.25 JP 2015-2530771.一种偏振片保护膜，其含有降冰片烯类树脂和微粒，所述降冰片烯类树脂是氢化降冰片烯类树脂，所述微粒的二次粒子的平均粒径为0.05～0.20μm的范围内，所述二次粒子的平均粒径的相对标准偏差为5～20％的范围内，并且，所述偏振片保护膜表面的峰密度为1000～5000(个/mm2)的范围内。2.根据权利要求1所述的偏振片保护膜，其中，所述偏振片保护膜的雾度值为2.0％以下。3.根据权利要求1或2所述的偏振片保护膜，其中，所述偏振片保护膜是将至少含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的膜、以及氢化降冰片烯类树脂混合而成的，由下式定义的混合率为20～80(％)的范围内，混合率(％)＝{a/(a+b)}×100此处，a表示含有氢化降冰片烯类树脂和微粒的膜的质量(g)，b表示氢化降冰片烯类树脂的质量(g)。4.根据权利要求1～3中任一项所述的偏振片保护膜，其中，在温度40℃、相对湿度90％的环境下按照JISZ0208进行测定时，所述偏振片保护膜的透湿度为100～400g/...

【专利技术属性】
技术研发人员：高木隆裕，
申请(专利权)人：柯尼卡美能达株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP