A normal pressure plasma coating device. The atmospheric pressure plasma plating device includes an atmospheric pressure plasma generator and at least one precursor feed fixture. The atmospheric pressure plasma generator includes a tubular electrode and a nozzle. The nozzle is arranged under the tubular electrode and is configured to spray plasma. The nozzle has a nozzle and a smooth profile, and the outer diameter of the smooth contour shrinks from the tubular electrode to the nozzle. At least one precursor feeding tool is adjacent to the tubular electrode and nozzle, and is configured to spray the precursor of the nozzle to the smooth outline of the nozzle, so that the coating precursor is sprayed along the smooth contour to the nozzle and mixed with the atmospheric plasma before the nozzle. Using the smooth outline design of the nozzle and the suction produced by the plasma airflow near the nozzle, it can effectively improve the mixing uniformity of the coating precursor and plasma, improve the quality of the coating, and improve the waste of the coating precursor in the atmosphere.
【技术实现步骤摘要】
常压等离子镀膜装置
本专利技术是有关于一种等离子装置,且特别是有关于一种常压等离子镀膜装置。
技术介绍
常压等离子火炬装置通常由具有高电位差的管状电极所组成,将工作气体电离后产生等离子,管状电极下方连接喷嘴将等离子火炬稳定喷出。而常压等离子镀膜装置是在一大气压下,于其二电极之间施加高压电场,先将工作气体游离化来产生等离子,并将镀膜前驱物与等离子混合后沉积于基板上成膜。常压等离子镀膜技术可取代极为昂贵且维护手续繁杂的真空等离子镀膜技术。此外,常压等离子镀膜技术的量产流程具有连续性,因此可降低真空等离子镀膜批次制造的人力成本。然而,目前常压等离子镀膜技术最大的瓶颈在于大气环境下各种气体粒子碰撞剧烈,如何精准控制镀膜前驱物与等离子的混合将是关键技术。一种已知技术是直接将镀膜前驱物直接喷向等离子火炬。然而,这样的方式不仅容易造成镀膜前驱物逸散于大气中,而造成镀膜前驱物浪费,也会有镀膜前驱物与等离子混合时间过短,而造成镀膜前驱物与等离子混合不均的问题,进而导致薄膜品质不佳。另一种已知技术是在常压等离子镀膜装置的邻近于喷嘴处或喷嘴中设置封闭渠道,再透过封闭渠道将镀膜前驱物注入等离子腔体内使其与等离子混合。但是,这样的方式,由于等离子是高反应性电离气体,前驱物于封闭渠道由于滞留时间过长容易反应过度,造成前驱物容易沉积于封闭渠道内或等离子腔体内部,而造成污染或堵塞。此外,这些污染物不仅难以清理,且对于沉积薄膜的品质有负面影响。而且,前驱物气流注入等离子腔体时也会等离子气流造成干扰,进而导致喷涂不均的现象。
技术实现思路
因此,本专利技术的一目的就是在提供一种常压等离子镀膜装置 ...
【技术保护点】
1.一种常压等离子镀膜装置,其特征在于,包含:一常压等离子产生器,包含:一管状电极;以及一喷嘴,设于该管状电极下,且配置以喷射一等离子,其中该喷嘴具有一喷口以及一平滑轮廓,且该平滑轮廓的一外径由该管状电极往该喷口渐缩;以及至少一前驱物进料治具,邻设于该管状电极与该喷嘴,且配置以朝该喷嘴的该平滑轮廓喷射一镀膜前驱物,以使该镀膜前驱物沿着该平滑轮廓流至该喷口前。
【技术特征摘要】
2017.01.25 TW 1061030331.一种常压等离子镀膜装置,其特征在于,包含:一常压等离子产生器,包含:一管状电极;以及一喷嘴,设于该管状电极下,且配置以喷射一等离子,其中该喷嘴具有一喷口以及一平滑轮廓,且该平滑轮廓的一外径由该管状电极往该喷口渐缩;以及至少一前驱物进料治具,邻设于该管状电极与该喷嘴,且配置以朝该喷嘴的该平滑轮廓喷射一镀膜前驱物,以使该镀膜前驱物沿着该平滑轮廓流至该喷口前。2.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置,其特征在于,该常压等离子产生器还包含一棒状电极设于该管状电极内。3.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置,其特征在于,该平滑轮廓为一流线形轮廓。4.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置,其特征在于,该至少一前驱物进料治具包含多个前驱物进...
【专利技术属性】
技术研发人员:王齐中,徐逸明,洪昭南,
申请(专利权)人:馗鼎奈米科技股份有限公司,
类型:发明
国别省市:中国台湾,71
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