显示屏的衬底结构及其制备方法、显示屏、柔性显示装置及其制备方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种显示屏的衬底结构，其包括：刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；阻挡圈，用于阻挡激光剥离所产生的纳米颗粒溢出；所述阻挡圈形成在所述切割区上；柔性衬底，覆盖所述刚性衬底以及所述阻挡圈。上述显示屏的衬底结构，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使设备的PM周期延长。本发明专利技术还提供了一种显示屏的衬底结构的制备方法、带刚性衬底的显示屏、柔性显示装置及其制备方法。

【技术实现步骤摘要】
显示屏的衬底结构及其制备方法、显示屏、柔性显示装置及其制备方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种显示屏的衬底结构及其制备方法、显示屏、柔性显示装置及其制备方法。
技术介绍
有机发光显示以其柔性特性成为研发的焦点。目前，柔性显示屏一般采用LLO(laserlift-off，激光剥离)工艺，将刚性衬底与柔性衬底分离，从而得到柔性显示屏。但是，目前LLO过程中，激光能量将柔性衬底表面瞬间烧成纳米颗粒，纳米颗粒从屏体的侧面扩散出来，污染剥离腔室，影响剥离和激光晶化效果。故设备PM(PreventiveMaintenance，定期检修)周期需小于1周，严重影响设备使用效果及效率。
技术实现思路
基于此，提供一种新的显示屏的衬底结构。一种显示屏的衬底结构，包括：刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；阻挡圈，用于阻挡激光剥离所产生的纳米颗粒溢出；所述阻挡圈形成在所述切割区上；柔性衬底，覆盖所述刚性衬底以及所述阻挡圈。上述显示屏的衬底结构，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使剥离腔室的PM周期延长。在其中一个实施例中，所述阻挡圈的宽度为40μm～250μm。在其中一个实施例中，所述阻挡圈的厚度为0.5μm～10μm。在其中一个实施例中，所述阻挡圈由SOG形成。在其中一个实施例中，所述柔性衬底的厚度与所述阻挡圈的厚度的比值为6:10～20:0.5。本专利技术还提供了一种显示屏的衬底结构的制备方法。一种带刚性衬底的显示屏的制备方法，包括如下步骤：提供刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；在所述刚性衬底的切割区上形成阻挡圈；在形成有阻挡圈的刚性衬底上形成柔性衬底，以使所述阻挡圈被所述柔性衬底覆盖。上述显示屏的衬底结构的制备方法，得到的显示屏的衬底结构，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使剥离腔室的PM周期延长。在其中一个实施例中，所述阻挡圈通过喷墨打印形成。本专利技术还提供了一种带刚性衬底的显示屏。一种带刚性衬底的显示屏，包括本专利技术所提供的显示屏的衬底结构、形成于屏体区的柔性衬底上的OLED器件、以及形成于OLED器件上的封装结构。上述带刚性衬底的显示屏，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使设备的PM周期延长。本专利技术还提供了一种柔性显示装置的制备方法。一种柔性显示装置的制备方法，包括如下步骤：提供本专利技术所提供的带刚性衬底的显示屏；对所述带刚性衬底的显示屏的屏体区进行激光剥离照射，使屏体区处的柔性衬底与刚性衬底之间分离；对激光剥离后的带刚性衬底的显示屏，沿所述阻挡圈进行切割，以得到柔性显示装置。上述柔性显示装置的制备方法，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使剥离腔室的PM周期延长。在其中一个实施例中，所述切割为绿光激光切割。本专利技术还提供了一种柔性显示装置。一种柔性显示装置，所述柔性显示装置通过本专利技术所提供的柔性显示装置的制备方法获得。上述柔性显示装置，由于通过本专利技术所提供的柔性显示装置的制备方法获得，在激光剥离时，由于阻挡圈的存在，屏体区的柔性衬底所产生的纳米颗粒被圈在阻挡圈内，无法从屏体的侧面扩散出来；从而避免了纳米颗粒污染剥离腔室，从而使剥离腔室的PM周期延长。附图说明图1为本专利技术一实施方式的带刚性衬底的显示屏的剖面结构示意图。图2为本专利技术一实施方式形成阻挡圈后的剖面结构示意图。图3为本专利技术一实施方式形成阻挡圈后的俯视结构示意图。图4为本专利技术一实施方式形成柔性衬底后的结构示意图。图5为本专利技术一实施方式激光剥离过程的结构示意图。图6为本专利技术一实施方式切割过程的结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合具体实施方式，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。结合图2-6参见图1，本专利技术一实施方式的带刚性衬底的显示屏100，包括刚性衬底110、阻挡圈120、柔性衬底130、OLED器件140、以及封装结构150。其中，刚性衬底110的主要作用是，承载其上各层，为其它各层提供支撑。具体地，刚性衬底110优选为玻璃基板。当然，可以理解的是，刚性衬底110还可以是其它具有刚性且透明的衬底。将刚性衬底110的表面依据后续其上形成的部件不同，被划分成若干屏体区101以及切割区102；切割区102位于屏体区101的外围。切割区102用于切割，而每个屏体区101则在切割之后形成一个单独的柔性显示装置。其中，阻挡圈120形成于刚性衬底110的切割区102上。阻挡圈120的主要作用是，在屏体区101进行激光剥离过程中，由于阻挡圈的材质不碳化、不产生纳米颗粒，并且将屏体区101的柔性衬底130碳化所产生的纳米颗粒圈在屏体区101内，从而防止纳米颗粒从屏体的侧面扩散出来。具体地，阻挡圈120的纵截面呈方形，这样可以更加有利于阻挡纳米颗粒。当然，可以理解的是，阻挡圈120并不局限于此，还可以是其它形状，例如三角形、梯形。优选地，阻挡圈120的宽度为40μm～250μm。可理解的是，阻挡圈120的宽度是自阻挡圈120的外侧到内侧的距离。这样阻挡圈120的宽度与激光剥离时激光的焦点相匹配，有助于提高效率。优选地，阻挡圈120的厚度为0.5μm～10μm。这样阻挡圈120与纳米颗粒的尺寸相匹配，可以有效阻止纳米颗粒的溢出。优选地，阻挡圈由SOG形成。SOG(英文spinonglass)是一种含有介电材料的溶液；在经过热处理之后，SOG可固化形成后近似二氧化硅(SiO2)的介电材料。其中，柔性衬底130的主要作用是，作为OLED器件140的形成衬底。柔性衬底130覆盖于刚性衬底110以及阻挡圈120上。也就是说，柔性衬底130是整面覆盖在刚性衬底110上，无论是屏体区101还是切割区均存在柔性衬底130。优选地，柔性衬底130的材质选自PI。当然，可以理解的是，本专利技术的柔性衬底130并不局限于PI，还可以是其它柔性衬底材料。优选地，柔性衬底130的厚度与阻挡圈120的厚度的比值为6:10～20:0.5。其中，OLED器件140形成于柔性衬底130的屏体区101上。OLED器件140是柔性显示装置的核心部件。OLED器件140的具体结构，本领域技术人员可以根据实际情况选择合适的OLED器件结构，在此不再赘述。其中，封装结构150覆盖在OLED器件140上，其主要作用是，用于封装OLED器件，从而阻隔水氧进入OLED器件140本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示屏的衬底结构，其特征在于，包括：刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；阻挡圈，用于阻挡激光剥离所产生的纳米颗粒溢出；所述阻挡圈形成在所述切割区上；柔性衬底，覆盖所述刚性衬底以及所述阻挡圈。

【技术特征摘要】
1.一种显示屏的衬底结构，其特征在于，包括：刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；阻挡圈，用于阻挡激光剥离所产生的纳米颗粒溢出；所述阻挡圈形成在所述切割区上；柔性衬底，覆盖所述刚性衬底以及所述阻挡圈。2.根据权利要求1所述的显示屏的衬底结构，其特征在于，所述阻挡圈的宽度为40μm～250μm。3.根据权利要求1所述的显示屏的衬底结构，其特征在于，所述阻挡圈的厚度为0.5μm～10μm。4.根据权利要求1所述的显示屏的衬底结构，其特征在于，所述阻挡圈由SOG形成。5.根据权利要求1所述的显示屏的衬底结构，其特征在于，所述柔性衬底的厚度与所述阻挡圈的厚度的比值为6:10～20:0.5。6.一种显示屏的衬底结构的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供刚性衬底；所述刚性衬底具有屏体区、围绕在所述屏体区外的切割区；在所述刚性衬底的切割区上形成阻挡圈；在形成有...

【专利技术属性】
技术研发人员：卜凡中，刘如胜，郭瑞，都秉龙，李加伟，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13