图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。所述图标结构的图标层的棱镜尺寸在1000纳米以内，不仅在视觉上难于察觉其纹理从而到达高质感的视觉效果，而且通过棱镜的反射也可以可呈现高光泽、高立体的视觉效果，提高用户体验性。

【技术实现步骤摘要】
图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备
本技术涉及电子设备
，尤其涉及一种图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。
技术介绍
随着信息技术和电子技术的发展，各种电子设备(例如：手机、平板、电脑等终端)已经与人们的日常生活息息相关，由于各种电子设备可以实现各种各样的功能，例如打电话、拍照、存储各类文件、即时通信等，人们对终端的依赖性越来越高。然而，这些电子设备的壳体上一般设置有具有图形或特定文字的图标(如logo、icon等)结构，用于显示商标、品牌、或名称、功能等。然而，现有图标结构的压花纹理一般视觉可见，且大多视觉上仅呈现单一的金属质感和光泽立体效果或者一般的拉丝、CD纹效果及触感，难于消费者获得高质感、高光泽、及/或高立体的视觉效果，有必要改善。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种具有良好视觉效果的图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备。一种图标结构，其包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧。在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。一种壳体，所述壳体具有图标结构，所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧；所述镀膜层的材料包括一氧化硅、二氧化铪、二硼化铪、氯氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、二氧化硅、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、氧化钪、三氧化二铟、二钛酸镨、二氧化錇、氧化镁、三氧化钨、氧化钐、三氧化二钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜中的一种或几种。在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。在一种实施方式中，所述壳体还包括基板及粘接层，所述基材层远离所述图标层的表面通过所述粘接层粘接于所述基板上。一种电子设备，其包括壳体，所述壳体包括图标结构，所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。在一种实施方式中，每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。在一种实施方式中，所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的凸起结构。在一种实施方式中，所述微结构为棱锥或圆锥。在一种实施方式中，所述图标结构还包括镀膜层，所述镀膜层位于所述图标层远离所述基材层的一侧；所述镀膜层的材料包括一氧化硅、二氧化铪、二硼化铪、氯氧化铪、二氧化锆、二氧化钛、一氧化钛、二氧化硅、三氧化二钛、五氧化三钛、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二铝、氧化钪、三氧化二铟、二钛酸镨、二氧化錇、氧化镁、三氧化钨、氧化钐、三氧化二钕、氧化铋、氧化镨、氧化锑、氧化钒、氧化镍、氧化锌、氧化铁、氧化铬、氧化铜中的一种或几种。在一种实施方式中，所述镀膜层的厚度在20纳米至500纳米的范围内。在一种实施方式中，所述图标结构还包括附着层，所述附着层设置于所述图标层远离所述基材层的一侧。在一种实施方式中，所述壳体还包括基板及粘接层，所述基材层远离所述图标层的表面通过所述粘接层粘接于所述基板上。相较于现有技术，本技术的图标结构、具有图标结构的壳体及电子设备中，所述图标结构的图标层的棱镜尺寸在1000纳米以内，不仅在视觉上难于察觉其纹理从而到达高质感的视觉效果，而且通过棱镜的反射也可呈现高光泽、高立体的视觉效果，提高用户体验性。进一步地，在一种实施方式中，所述棱镜结构表面进一步设置微结构，所述微结构可以进一步对光线进行折射、反射从而使得光线散射、叠加，使得所述图标结构可以呈现高质感、高光泽、及/或高立体的视觉效果，特别是，在任一角度时观看均可以呈现一种非常炫酷流动感，并且在不同角度看可呈现变换流动的视觉效果。附图说明为了更清楚地说明本技术实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本技术一较佳实施方式的具有图标结构的壳体的立体结构示意图。图2是图1沿线II-II的剖面示意图。图3是图2所示的图标结构的图标层的立体反面结构示意图。图4是图2所示的图标层的微结构的立体结构示意图。图5是本技术一较佳实施方式的电子设备的背面结构示意图。主要元件符号说明图标结构10基材层12图标层13镀膜层14附着层15棱镜结构16微结构17壳体20基板21粘接层22电子设备30前壳31中框32后壳33如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本技术。具体实施方式下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式仅仅是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。需要说明的是，在本技术实施方式中使用的术语是仅仅出于描述特定实施方式的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施方式和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图标结构，其特征在于：所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。

【技术特征摘要】
1.一种图标结构，其特征在于：所述图标结构包括基材层及设置于所述基材层表面的图标层，所述图标层远离所述基材层的表面包括多条沿预定方向排列的棱镜结构，每个棱镜结构的宽度及/或高度小于等于1000纳米。2.如权利要求1所述的图标结构，其特征在于：每个棱镜结构的宽度及/或高度在500纳米至1000纳米的范围内。3.如权利要求1所述的图标结构，其特征在于：每个棱镜结构的表面还包括多个微结构，每个微结构的宽度、长度及/或高度小于等于1000纳米。4.如权利要求3所述的图标结构，其特征在于：每个微结构的宽度、长度及/或高度在100纳米至1000纳米的范围内。5.如权利要求3所述的图标结构，其特征在于：所述微结构为设置于所述棱镜结构表面的...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄晓新，
申请(专利权)人：深圳市蓝禾技术有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44