流体输送装置制造方法及图纸

技术编号:18416367 阅读:76 留言:0更新日期:2018-07-11 08:34
本发明专利技术的一实施例提供了一种流体输送装置,其包括有一空腔及至少部分设于该空腔内的输送管道。该输送管道设有第一开口和第二开口以连通输送管道与空腔。当气液两相流体进入空腔后便会分离为气相部分和液相部分,其中,液相部分主要由第一开口流入输送管道,气相部分主要由第二开口流入输送管道,而且液相部分由第一开口流入输送管道的速度取决于空腔里积累的液相部分的量。其可使气液两相流流体以较稳定的流态进行输送,从而使其中的至少一相流体,如液相流体能以较稳定的流量传输。

Fluid conveying device

An embodiment of the invention provides a fluid conveying device, which comprises a cavity and a conveying pipe at least partially located in the cavity. The conveying pipe is provided with a first opening and a second opening to connect the conveying pipeline and the cavity. When the gas-liquid two phase fluid enters the cavity, it separates into the gas phase and the liquid phase, in which the liquid part mainly flows from the first opening into the conveying pipe, and the gas phase is mainly from second openings to the conveying pipe, and the velocity of the liquid phase part from the first opening to the conveying pipe depends on the liquid part accumulated in the cavity. The quantity. The gas - liquid two - phase flow can be transported in a more stable flow, so that at least one of the phase fluids, such as liquid phase fluid, can be transported with a more stable flow.

【技术实现步骤摘要】
流体输送装置
本专利技术涉及一种流体输送装置,尤其是指一种气液两相流体或含有气液相流体的多相流体的输送装置。
技术介绍
在流体的输送过程中,气液两相流普遍存在于各个行业之中,如动力工程、核能工程、石油工程、化学工程、航天工程等。气液两相流是指在同一流动体系中,同时存在气相和液相两种流动介质的一种流动形态,它是多相流动中最为常见的类型之一。气液两相流根据组分、流动环境、流动状态等可分成多种类型,比如泡状流、塞状流、混状流、环状流、液丝环状流或雾状流等。在气液两相流的一些流动形态中,气液两相会产生压力波动,两相界面不断变化,从而两相介质的分布状态也不断改变。此外,管道及管截面的形状、管道加热状态、所处的重力场、介质的表面张力、壁面及相界面间的剪切应力等因素也可能会影响到管道内气液在两相间的分配。由于气液两相流在管道内流动时,多种因素可能影响着其在两相间的分配,这样,就可能造成气液在传输过程中单相流体的流量不稳定,进而对后续的操作产生不利的影响。比如,在一些化学反应中,为了保证反应的正常进行,气液流体需要稳定的输入到反应器中。然而,在一些流动形态中,由于气液传输中两相介质分布状态的不断变化就会造成输入到反应器中的流体的流量不稳定,这必然会对反应器中进行的反应产生不利的影响。所以,需要一种稳定地输送气液两相流体或多相流体的装置或方法。
技术实现思路
本专利技术的一方面在于提供一种输送装置,其可使气液两相流流体以较稳定的流态进行输送,从而使其中的至少一相流体,如液相流体能以较稳定的流量传输。本专利技术的一实施例提供了一种输送气液两相流体的装置,其包括有一空腔及至少部分设于该空腔内的输送管道。该输送管道设有第一开口和第二开口以连通输送管道与空腔。该装置的结构可使气液两相流体进入空腔后分离为气相部分和液相部分,其中,液相部分主要由第一开口流入输送管道,气相部分主要由第二开口流入输送管道,而且液相部分由第一开口流入输送管道的速度取决于空腔里积累的液相部分的量。这样,气液两相流体经过该流体输送装置后,就能够以较稳定的流量或稳定的流态进行输送,这对于气液流体的后续操作是很有益的。本专利技术的另一方面在于提供一种多相流体输送装置,其可使多相流体以较好的均匀度进行传输,从而使其中的至少一相流体,如液相流体能以稳定的流量或稳定的流态被传输。在本专利技术一实施例中,该多相流体输送装置包括有入口,空腔,输送管道及出口。多相流体经该入口进入空腔后分离成第一部分和第二部分,其中第一部分的比重大于第二部分的比重。该输送管道设有沿其轴向排列或延伸的开口使得第一部分在空腔底部累积至一定高度后便以大致均匀的流速经输送管道流出,从而使由该出口流出的多相流体中所述第一部分流体的流量波动较由该入口流入的多相流体中所述第一部分流体的流量波动小。【附图说明】图1为本专利技术输送装置的一个实施例的立体组合图;图2为图1所示的输送装置沿A-A线剖开后的剖视图;图3A为输送装置的输送管道的一个实施例的立体图;图3B为输送装置的输送管道的另一个实施例的立体图;图3C为输送装置的输送管道的再一个实施例的立体图;图4为图1所示的输送装置工作时的示意图;图5为输送装置的入口的一个实施例示意图;图6为本专利技术输送装置的另一个实施例的示意图;图7为本专利技术输送装置的再一个实施例的示意图;图8为本专利技术输送装置串联使用时的一实施例的示意图。【较佳实施例】图1和图2所示分别为本专利技术一实施例提供的输送装置1的立体组合图及沿A-A线剖开后的一个剖视图。参看图1所示,输送装置1包括盖体10、支撑件121及设置于支撑件121上的输送管道122。盖体10于其侧壁100上开设有入口102。参看图2所示,盖体10具有下表面103,且于下表面103大致中央部位向上延伸开设有一端封闭的空腔101。入口102与空腔101连通,从而外部的流体可通过入口102输入到空腔101中。支撑件121具有上表面125。输送管道122设置于支撑件121大致中央部位且上下延伸贯穿该支撑件121。输送管道122包括有位于上表面125上的上部及于上表面125向下延伸的下部。在一实施例中,输送管道122与支撑件121一体成型。可选择地,盖体10与支撑件121为相互独立的部件,通过连接元件连接在一起。例如,在图2所示的实施例中,在安装盖体10与支撑件121时,盖体10的下表面103与支撑件121的上表面125对接,借助于螺栓11使盖体10与支撑件121安装在一起,从而对空腔101进行封闭。此时,输送管道122的上部便收容于空腔101内。在一实施例中,盖体10大致为具有台阶部的圆柱体结构,空腔101为圆柱体结构。支撑件121及输送管道122也可均构造成圆柱体结构。当然,在其他实施例中,根据需要,盖体10、空腔101、支撑件121及输送管道122也可为其它形状,如长方体形等。图3A、3B、3C所示为输送管道122在不同实施例中所采用的不同构型。参看图3A、3B、3C所示,输送管道122的最上部可被称为顶端130,其最下部可被称为底部140,在顶端130和底部140之间包围形成管道的部分称为侧壁150。参看图3A、3B所示,输送管道122于其底部140上设有出口123,于其侧壁150上开设有第一开口124,及于其顶端130上设有第二开口126。在本专利技术一实施例中,如图3A所示,第一开口124可设置成沿输送管道122轴向延伸的狭缝结构。输送管道122可根据需要开设一个或更多个狭缝。狭缝结构可以为方形,弧形,甚至一定的曲线形状。在另一实施例中,如图3B所示,第一开口124可设置成在侧壁150上的孔洞结构,其包括多个小孔,如圆形小孔、方形小孔等,有规律或杂乱地排列在侧壁150上。该多个小孔中至少有两个在不同的轴向位置上,即,该多个小孔中至少有两个小孔离底部140的距离是不同的。在又一实施例中,第一开口124和第二开口126均可设置于输送管道122的侧壁150上,但第二开口126的位置高于第一开口124的位置。可选择地,第一开口124和第二开口126可为相互独立的结构,如不同的开口或孔洞结构等。或者,如图3C所示,第一开口124和第二开口126还可为同一开口的不同部分,如第二开口126为该开口的上部而第一开口124为其下部。可选择地,可使第二开口126,如该同一开口靠近输送管道122的顶端130的那一部分,具有较宽的尺寸以使气相流体较顺畅地通过,并可减少气相流体的压力波动;而第一开口124,如该同一开口靠近输送管道122的底部140的那一部分,较第二开口126狭窄以使得液相流体输入到输送管道122内时受到一定的抑制,能在空腔101内形成一定的累积,进而能比较均匀地流入输送管道122。当气液两相流体或者包含气液两相流体的多相流体于入口102输入到空腔101内后,由于比重的不同该两相或多相流体便会大致分离为几部分,如主要为液相流体的第一部分和主要为气相流体的第二部分。由于气相流体一般较液相流体的比重小,因此第二部分流体(也称为气相流体)主要聚集在空腔101的上部,而第一部分流体(也称为液相流体)大多下沉在空腔101的下部内进行累积。在某些实施例中,在多相流体中也可能包含有一定含量的固体颗粒,固体颗粒将根据其粒径的大小而分布在第一或第二部分流体中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种输送气液两相流体的装置,其包括有一空腔及至少部分设于所述空腔内的输送管道;其特征在于:该输送管道设有第一开口和第二开口以连通所述输送管道与所述空腔;所述装置的结构可使所述气液两相流体进入所述空腔后分离为气相部分和液相部分,所述液相部分主要由所述第一开口流入到所述输送管道,所述气相部分主要由所述第二开口流入到所述输送管道,以及所述液相部分由所述第一开口流入到所述输送管道的速度取决于所述空腔里积累的所述液相部分的量。

【技术特征摘要】
1.一种输送气液两相流体的装置,其包括有一空腔及至少部分设于所述空腔内的输送管道;其特征在于:该输送管道设有第一开口和第二开口以连通所述输送管道与所述空腔;所述装置的结构可使所述气液两相流体进入所述空腔后分离为气相部分和液相部分,所述液相部分主要由所述第一开口流入到所述输送管道,所述气相部分主要由所述第二开口流入到所述输送管道,以及所述液相部分由所述第一开口流入到所述输送管道的速度取决于所述空腔里积累的所述液相部分的量。2.如权利要求1所述的输送气液两相流体的装置,其特征在于:所述输送管道包括有侧壁,所述第一开口设置于所述侧壁上,可为沿所述输送管道轴向延伸的狭缝结构。3.如权利要求1所述的输送气液两相流体的装置,其特征在于:所述输送管道包括有顶端,所述第二开口设置于所述顶端上。所述第二开口的位置高于所述第一开口的位置。4.如权利要求1所述的输送气液两相流体的装置,其特征在于:所述装置还包括有支撑件,支撑件具有上表面,还包括有一盖体包围所述空腔且具有下表面,上表面和所述盖体的下表面配合使所述盖体和支撑件安装在一起。所述盖体包括有侧壁,所述盖体的侧壁上设置有一入口可使所述流体流入所述空腔,入口的轴线与所述空腔的轴线大致垂直但不相交。所述气液两相流体进入空腔,空腔内设置有挡板,所述气液两相流体经所述入口进入空腔后经挡板分离。所述液相流体在空腔内的量达到较稳定后以大致均匀的流速通过所述第一开口流入所述输送管道。5.如权...

【专利技术属性】
技术研发人员:花云徐勇华
申请(专利权)人:亚申科技研发中心上海有限公司
类型:发明
国别省市:上海,31

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