一种瓷砖抛光磨头干抛装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种瓷砖抛光磨头干抛装置。本发明专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置，包括支架及设置在支架上的干抛机构；所述干抛机构包括磨头驱动器、磨头推动件、磨头及磨头罩；所述磨头驱动器的输出端与所述磨头传动连接并带动所述磨头转动，所述磨头推动件用于带动所述磨头上下移动，所述磨头罩罩设在所述磨头上；所述磨头罩上设置有进风口和除尘口，所述磨头上设置有用于引导气流的导流叶片。本发明专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置具有生产效率高、能耗少、产品质量高、生产成本低的优点。

A dry polishing device for ceramic tile polishing head

The invention relates to a polishing device for polishing tiles. A dry throwing device for a tile polishing head of the invention, including a bracket and a dry throwing mechanism arranged on a bracket; the dry throwing mechanism comprises a grinding head driver, a grinding head push piece, a grinding head and a grinding head cover; the output end of the grinding head driver is connected to the grinding head drive and drives the grinding head to be rotated, and the grinding head push part is used for the belt. The grinding head is moved up and down, the grinding head cover is located on the grinding head, and the grinding head cover is provided with an inlet air inlet and a dedusting mouth, and the grinding head is provided with a guide vane for guiding the air flow. The polishing polishing device of ceramic tile polishing head has the advantages of high production efficiency, less energy consumption, high product quality and low production cost.

【技术实现步骤摘要】
一种瓷砖抛光磨头干抛装置
本专利技术涉及瓷砖生产
，特别是涉及一种瓷砖抛光磨头干抛装置。
技术介绍
请参阅图1，图1是传统的瓷砖抛光磨头加工方法示意图。a是磨头，b是瓷砖。加工采用水喷射，水在瓷砖b上漫流的加工形式。瓷砖b上表面结构比较紧密，下表面比较疏松。因此上表面吸水率低，下表面吸水率高。磨头a加工瓷砖砖表面时，需要大量水冲洗瓷砖b砖面。由于抛磨的时候会产生砖屑，如果不冲洗干净，就可能把已经加工好的瓷砖砖面磨花，造成二次伤害。磨头a中心的水射流可以清除磨头a中心位置的磨屑，最后以漫流的方式，冲洗瓷砖b表面其余地方的磨屑。冲洗产生的污水以及污泥，瓷砖厂需要配套污水处理设施进行处置。另外，这样水抛的过程中，瓷砖b反面会大量吸水，后期需要配套设施对瓷砖b进行烘干。更令人头疼的是，瓷砖b反复的物理变化，可能造成釉面龟裂等问题，而且传统水磨抛光、烘干之后依然含有一定的水分。这就导致了瓷砖b在装箱的时候需要贴上隔水的薄膜，防止水分析出破坏外包装，同时影响瓷砖b的质量，这样就会增加瓷砖b的成本。采用传统的抛光生产工艺，不仅耗水量大，而且由于瓷砖b的吸水率较高，后续需增加干燥工序，如果干燥不彻底，产品进仓后可能开裂或因包装箱吸水腐烂。为避免该情况产生，产品经抛光后，后续需增设很长的干燥线，长度往往达到50-100m以上，不仅占地面积大，且需增加窑炉设备的投入，还需增加相当燃料消耗，生产成本高。
技术实现思路
基于此，本专利技术的目的在于，提供一种瓷砖抛光磨头干抛装置，其具有生产效率高、能耗少、产品质量高、生产成本低的优点。一种瓷砖抛光磨头干抛装置，包括支架及设置在支架上的干抛机构；所述干抛机构包括磨头驱动器、磨头推动件、磨头及磨头罩；所述磨头驱动器的输出端与所述磨头传动连接并带动所述磨头转动，所述磨头推动件用于带动所述磨头上下移动，所述磨头罩罩设在所述磨头上；所述磨头罩上设置有进风口和除尘口，所述磨头上设置有用于引导气流的导流叶片。本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置通过设置干抛机构，利用磨头罩的进风口和除尘口分别进出高压冷却空气，磨头在对瓷砖进行抛光的同时，高压冷却空气对磨头和瓷砖同时进行冷却降温，粉尘、磨屑可随着高压冷却空气从除尘口中被排出，防止粉尘、磨屑对瓷砖造成二次伤害。本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置有效地解决了现有技术中生产设备占地面积大、使用设备多、水资源消耗大、水污染严重、生产成本高等技术缺陷和难题，既提高了生产效率和产品质量，又有效降低了能耗。进一步地，所述干抛机构固定在一横梁上，所述横梁滑动设置在所述支架上。进一步地，所述干抛机构还包括磨头主轴，所述磨头主轴的一端枢接在所述横梁上，所述磨头主轴的另一端与所述磨头连接，所述磨头驱动器为磨头驱动电机，所述磨头驱动电机的输出端经一磨头驱动带与所述磨头主轴传动连接。进一步地，所述磨头推动件为磨头推动气缸，所述磨头推动气缸的活塞杆与磨头主轴套接。进一步地，所述磨头包括上磨头、下磨头和磨块，所述上磨头与所述磨头主轴连接，所述下磨头连接于所述上磨头和磨块之间；所述导流叶片包括上导流叶片和下导流叶片，所述上导流叶片和下导流叶片分别设置在所述上磨头和下磨头上；所述上导流叶片和下导流叶片的尾端还分别设置有上导流板和下导流板。进一步地，所述磨头罩包括沿其中间线方向分开的两个分磨头罩，所述两个分磨头罩的两端分别通过合页和连接锁连接；所述磨头罩的顶部设置有多个所述进风口，所述除尘口设置在所述磨头罩的侧边上，所述磨头罩的底端向内倾斜设置。进一步地，还包括设置在支架上的摆动机构，所述摆动机构包括摆动驱动器，所述摆动驱动器与所述横梁传动连接，所述摆动驱动器用于带动所述横梁及干抛机构在支架上往复摆动。进一步地，所述摆动机构还包括链条和链轮，所述摆动驱动器为摆动电机，所述摆动驱动器的输出端与所述链轮传动连接，所述链条啮合设置在所述链轮上，所述链条与所述横梁连接并用于带动横梁往复摆动；所述摆动机构还包括摆动变速箱，所述摆动驱动器的输出端经所述摆动变速箱与所述链轮传动连接。进一步地，还包括用于传送瓷砖的瓷砖进给机构，所述瓷砖进给机构设置在所述干抛机构下方；所述瓷砖进给机构包括瓷砖进给电机、滚筒和传送带，所述传送带设置在所述滚筒上，所述瓷砖进给电机的输出端与所述滚筒传动连接；所述瓷砖进给电机的输出端经一瓷砖进给变速箱与所述滚筒传动连接。进一步地，还包括二次除尘机构，所述二次除尘机构包括除尘器、除尘管和除尘风机；所述除尘器与所述磨头罩的除尘口连接，所述除尘管连接于所述除尘器与除尘风机之间。相对于现有技术，本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置通过设置干抛机构，利用磨头罩的进风口和除尘口分别进出高压冷却空气，磨头在对瓷砖进行抛光的同时，高压冷却空气对磨头和瓷砖同时进行冷却降温，粉尘、磨屑可随着高压冷却空气从除尘口中被排出，防止粉尘、磨屑对瓷砖造成二次伤害。本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置有效地解决了现有技术中生产设备占地面积大、使用设备多、水资源消耗大、水污染严重、生产成本高等技术缺陷和难题，既提高了生产效率和产品质量，又有效降低了能耗。增设的二次除尘机构可以有效地对粉尘、磨屑进行回收，节约了资源，保护了环境。本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置具有生产效率高、能耗少、产品质量高、生产成本低等特点。本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置具有生产效率高、能耗少、产品质量高、生产成本低等特点。为了更好地理解和实施，下面结合附图详细说明本专利技术。附图说明图1是传统的瓷砖抛光磨头加工方法示意图。图2本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置的侧视图。图3是本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置的主视图。图4是二次除尘机构的结构示意图。图5是干抛机构的结构示意图。图6是上磨头及上导流叶片的结构示意图。图7是上导流叶片及上导流板的结构示意图。图8是上导流叶片的端面结构示意图。图9是下磨头及下导流叶片的结构示意图。图10是下导流叶片及下导流板的结构示意图。图11是磨头罩的结构示意图。图12是打开后的磨头罩的结构示意图。图13是磨头转动时的气流流向示意图。具体实施方式请参阅图2-图4，本专利技术的瓷砖抛光磨头干抛装置，包括支架10、干抛机构20、摆动机构30、瓷砖进给机构40和二次除尘机构50。所述干抛机构20和摆动机构30均设置在所述支架10上，所述干抛机构20用于对瓷砖进行干抛，所述摆动机构30用于带动干抛机构20在支架10上往复摆动；所述瓷砖进给机构40设置在所述干抛机构20下方，其用于为干抛机构20传送瓷砖；所述二次除尘机构50与所述干抛机构20连接，所述二次除尘机构50用于对干抛产生的粉尘和磨屑进行二次除尘。具体地，请参阅图5-图10，本实施例的所述干抛机构20固定在一横梁60上，所述横梁60滑动设置在所述支架10上。所述干抛机构20包括磨头驱动器21、磨头推动件22、磨头主轴23、磨头24及磨头罩25。所述磨头驱动器21的输出端与所述磨头24传动连接并带动所述磨头24转动，所述磨头推动件22用于带动所述磨头24上下移动，所述磨头罩25罩设在所述磨头24上；所述磨头罩25上设置有进风口251和除尘口252，所述磨头24上设置有用于引导气流的导流叶片26。所述磨头主轴23的一端枢接在所述横梁60上，所述磨头主轴23的另一端与所述磨头24连接，所述磨头驱动器21为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：包括支架及设置在支架上的干抛机构；所述干抛机构包括磨头驱动器、磨头推动件、磨头及磨头罩；所述磨头驱动器的输出端与所述磨头传动连接并带动所述磨头转动，所述磨头推动件用于带动所述磨头上下移动，所述磨头罩罩设在所述磨头上；所述磨头罩上设置有进风口和除尘口，所述磨头上设置有用于引导气流的导流叶片。

【技术特征摘要】
1.一种瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：包括支架及设置在支架上的干抛机构；所述干抛机构包括磨头驱动器、磨头推动件、磨头及磨头罩；所述磨头驱动器的输出端与所述磨头传动连接并带动所述磨头转动，所述磨头推动件用于带动所述磨头上下移动，所述磨头罩罩设在所述磨头上；所述磨头罩上设置有进风口和除尘口，所述磨头上设置有用于引导气流的导流叶片。2.根据权利要求1所述的瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：所述干抛机构固定在一横梁上，所述横梁滑动设置在所述支架上。3.根据权利要求2所述的瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：所述干抛机构还包括磨头主轴，所述磨头主轴的一端枢接在所述横梁上，所述磨头主轴的另一端与所述磨头连接，所述磨头驱动器为磨头驱动电机，所述磨头驱动电机的输出端经一磨头驱动带与所述磨头主轴传动连接。4.根据权利要求3所述的瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：所述磨头推动件为磨头推动气缸，所述磨头推动气缸的活塞杆与磨头主轴套接。5.根据权利要求1所述的瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：所述磨头包括上磨头、下磨头和磨块，所述上磨头与所述磨头主轴连接，所述下磨头连接于所述上磨头和磨块之间；所述导流叶片包括上导流叶片和下导流叶片，所述上导流叶片和下导流叶片分别设置在所述上磨头和下磨头上；所述上导流叶片和下导流叶片的尾端还分别设置有上导流板和下导流板。6.根据权利要求1所述的瓷砖抛光磨头干抛装置，其特征在于：所述磨头罩包括沿其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐斌，周祖兵，
申请(专利权)人：广东科达洁能股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44