【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种半导体基板的清洗方法,包含下列操作:a)产生沿实质上垂直于半导体基板表面的方向前进的声能;及b)产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进的声能。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:JM柏依,M瑞夫肯,FC瑞德克,RE瑞尔,W尤,
申请(专利权)人:兰姆研究有限公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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