半导体基板清洗设备和系统技术方案

技术编号:1827055 阅读:195 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供一种清洁半导体基板的方法。此方法是以产生声能的方式起始,而此声能是以实质上垂直于半导体基板表面的方向前进。而后,产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进之声能。每一个方向的声能都能被同时产生或交替产生。本发明专利技术也提供清洁半导体基板的系统与设备。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种半导体基板的清洗方法,包含下列操作:a)产生沿实质上垂直于半导体基板表面的方向前进的声能;及b)产生沿实质上平行于半导体基板表面的方向前进的声能。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:JM柏依M瑞夫肯FC瑞德克RE瑞尔W尤
申请(专利权)人:兰姆研究有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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