清洁物品的制造方法技术

一种清洁物品的制造方法，其特征在于，包括使附着有污染物质的物品接触除氟化烃以外的有机溶剂的洗涤工艺和 使经上述洗涤工艺处理过的物品接触由通式ＣｎＦｍＨ２ｎ＋２－ｍ表示的脂族氟化烃的冲洗工艺， 通工中，ｎ和ｍ为正整数，且４≤ｎ≤６、２ｎ－３≤ｍ＜２ｎ＋２。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
〔
〕本专利技术涉及，更具体地说，涉及包括对物品的表面进行清洁处理的。这些方法适宜于印刷电路板中使用的焊接用的松香类焊药的洗涤以及污染物质如油类、蜡类、润滑脂类、油脂性研磨剂的清除。〔
技术介绍
〕在印刷电路板上安装IC零件和其他零件是通过焊接进行的，为改善焊接性，一般使用焊药。这些焊药可大致分为松香类焊药和非松香类焊药或水溶性焊药。其中，松香类焊药在电子工业领域中被广泛地应用于IC零件及其他零件在印刷电路板上的安装。但是，当焊接后有松香类焊药残留时，会产生印刷电路板的电阻下降，成为电路障碍的原因而造成不良后果，因此，有必要洗涤、除去松香焊药。迄今，在洗涤时，使用1，1，1-三氯乙烷、三氯乙烯等氯化烃、三氯三氟乙烷(CFCll3)、二氯四氟乙烷(CFCll2)等氟氯化烃、它们的混合物或它们与其他有机溶剂的共沸混合物等。尤其是CFCll3，由于其具有不燃性，且低毒性、化学稳定性优异、不侵蚀金属、塑料等的印刷电路板、可选择性地仅除去污染物质等优异特性，因而广泛地得到了应用。但是近年，已有专家指出，释放入大气中的某些氟氯化烃、氯化烃等破坏平流层中的臭氧层，其结果，给包括人类的地球的生态系带来重大的不良影响，为此，含破坏臭氧层的可能性大的氯的氟氯化烃、氯化烃等的使用和生产受到了限制。由此，为洗涤、除去松香类焊药、油酯类，也有使用在水中添加碱、表面活性剂的洗涤剂的方法。但是，由于洗涤性不够。为进行干燥，需要相当的能量和设备，而且，洗涤后会残留残渣，为使用的水的纯化和使用后的废水处理等，需要昂贵的设备等，因此，用水进行的洗涤清除并未被广泛地应用。此外，作为松香类焊药、油脂类的溶剂，脂族或芳族烃、高级醇类、醚类、有机硅类等有机溶剂类是公知的。但是，由于它们的沸点较高、粘度也大，作为洗涤剂使用时，洗涤清除后会残留在物品的表面，其清除极为困难，因此，无法使用。而且，使用水作为上述溶剂的冲洗剂时，上述溶剂或不溶于水，无法冲洗，或虽溶于水，但使用水时会有前述问题，因而，未曾被广泛地使用。本专利技术在发现特定的脂族氟化烃化合物可作为有效的用于上述冲洗的冲洗剂的基础上，使迄今使用困难的有机溶剂的使用成为可能，且不需要使用纯化水，可降低干燥工艺及废水设备等的成本，且不会对环境产生破坏。〔专利技术的公开〕即，本专利技术涉及，所述制造方法包括使附着有污染物质的物品接触除氟化烃以外的有机溶剂的洗涤工艺和使经上述洗涤工艺处理过的物品接触由通式CnFmH2n＋2－m表示的脂族氟化烃的冲洗工艺，通式中，n和m为正整数，且4≤n≤6、2m－3≤m＜2n＋2。用于本专利技术的上述脂族氟化烃宜为选自C4F6H4、C4F7H3、C4F8H2、C4F9H、C5F8H4、C5F9H3、C5F10H2、C5F11H、C6F9H5、C6F10H4、C6F11H3、C6F12H2及C6F13H的至少一种。这些脂族氟化烃的优选化合物的例子如下所示(括号内为简称)1，1，1，2，3，3，4-七氟丁烷(CF3CFHCF2CFH2)(347mec)1，1，1，2，4，4，4-七氟丁烷(CF3CFHCH2CF3) (347mef)1，1，2，2，3，4，4-七氟丁烷(HCF2CF2CFHCF2H) (347pce)1，1，2，3，4，4-六氟丁烷(HCF2CFHCFHCF2H) (356pee)1，1，1，2，3，4，4-七氟丁烷(CF3CFHCFHCF2H)(347mee)1，1，1，2，2，4，4-七氟丁烷(CF3CF2CH2CF2H) (347mcf)2-三氟甲基-1，1，1，3-四氟丙烷((CF3)2CHCFH2) (347mmq)1，1，1，2，2，4，4，4-八氟丁烷(CF3CF2CH2CF3) (338mcf)1，1，1，2，2，3，3，4-八氟丁烷(CF3CF2CF2CFH2)(338mcc)1，1，2，2，3，3，4，4-八氟丁烷(HCF2CF2CF2CF2H) (338pcc)1，1，1，2，3，3，4，4-八氟丁烷(CF3CFHCF2CF2H)(338mec)2-三氟甲基-1，1，2，3，3-五氟丙烷((CF2H)2CFCF3)(338mpp)2-三氟甲基-1，1，1，3，3-五氟丙烷((CF3)2CHCF2H) (338mmp)1，1，1，2，2，3，3，4，4-九氟丁烷(CF3CF2CF2CF2H)(329mcc)1，1，1，2，2，5，5，5-八氟戊烷(CF3CF2CH2CH2CF3) (459mff)1，1，1，2，3，3，5，5，5-九氟戊烷(CF3CFHCF2CH2CF3) (449mec)1，1，2，2，3，3，4，4，5-九氟戊烷(HCF2CF2CF2CF2CFH2)(449qcc)1，1，1，2，2，3，5，5，5-九氟戊烷(CF3CF2CFHCH2CF3)(449mfe)1，1，1，2，2，4，5，5，5-九氟戊烷(CF3CF2CH2CFHCF3)(449mef)1，1，1，2，2，4，4，5，5，-九氟戊烷(CF3CF2CH2CF2CF2H)(449pcf)2-三氟甲基-1，1，1，2，4，4-六氟丁烷((CF3)2CFCH2CF2H)(449mmyf)1，1，1，2，2，3，4，5，5，5-十氟戊烷(CF3CF2CFHCFHCF3)(4310mee)1，1，1，2，2，4，4，5，5，5-十氟戊烷(CF3CF2CH2CF2CF3) (4310mcf)1，1，1，2，2，3，3，4，5，5-十氟戊烷(CF3CF2CF2CFHCF2H)(4310pec)2-三氟甲基-1，1，1，3，4，4，4-七氟丁烷((CF3)2CHCFHCF3)(4310mmze)2-三氟甲基-1，1，1，2，3，3，4，4-八氟丁烷((CF3)2CFCF2CF2H)(4211mmyc)2-三氟甲基-1，1，1，3，3，4，4，4-八氟丁烷((CF3)2CHCF2CF3)(4211mmzc)1，1，2，2，3，3，4，4，5，6，6-十一氟己烷(HCF2CF2CF2CF2CFHCF2H) (5411pcc)1，1，2，2，3，3，4，4，5，5，6，6-十二氟己烷(HCF2(CF2)4CF2H) (5312pcc)2-三氟甲基-1，1，1，2，3，4，5，5，5-九氟戊烷((CF3)2CFCFHCFHCF3)(5312mmye)2-三氟甲基-1，1，1，3，4，4，5，5，5-九氟戊烷((CF3)2CHCFHCF2CF3) (5312mmze)2-三氟甲基-1，1，1，2，4，4，5，5，5-九氟戊烷((CF3)2CFCH2CF2CF3)(5312mmyf)1，1，1，2，2，3，3，4，4，5，5，6，6-十三氟己烷(CF3(CF2)4CF2H)(5213pcc)此外，用于本专利技术的上述有机溶剂宜为选自脂族烃类、芳族烃类、高级醇类、醚类及有机硅类的至少一种。由于本专利技术的清洁化方法通常在加热下(30℃—100℃)进行，有机溶剂的沸点宜高于洗涤温度。通常，以沸点在100℃以上的有机溶剂为宜。当然，也可以使用沸点在100℃以下的正己烷、异辛烷和苯。这些有机溶剂的优选化合物的例子如下所示。脂族烃类正己烷、异庚烷、异辛烷、汽油、石脑油、矿本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：井手哲，稻叶刚志，松田高广，青山博一，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：