清除蚀刻残留物的组合物及其应用制造技术

包含水、有机二羧酸、缓冲剂和氟源物质或可还包含可与水混溶的有机溶剂的组合物，它们能清除蚀刻残留物。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种适合清除蚀刻残留物的组合物，它包含：Ａ．多达约８０重量％可水混溶的有机溶剂；Ｂ．约５－５０重量％的水；Ｃ．约１－２０重量％的有机二羧酸；Ｄ．约０．５－２０重量％的碱，它与上述二酸一起形成缓冲剂；Ｅ．约０．１－１０重量％的氟离子源物质。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：RJ罗维托，DB雷尼，DL杜汉，
申请(专利权)人：空气产品及化学制品股份有限公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]