真空离子镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空离子镀膜机，包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴，上转架下方设有固定在真空镀膜室内的承接架，所述承接架上面设有支撑上转架的滚珠机构；由于转架取消了轴承固定，而采用滚珠机构支撑，起到了很好的固定效果，在不能使用润滑脂的环境下，滚珠能保证滑动较易，并且平均分布的滚珠能保证支撑上转架转动平稳，此外，滚珠与承接架的配合有一定膨胀裕度，可适应热胀冷缩环境，不容易损坏，本实用新型专利技术使得上转架的固定结构更为简单合理。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空离子镀膜机。
技术介绍
目前使用的真空离子镀膜机中，使挂件公转的上转架2通过连接 在真空镀膜室1内的周向轴与轴承组7来固定其周向位置，再由其下 方的支撑轴与轴承组8来支撑，其中固定、支撑用的轴通过螺栓连接 在真空镀膜室内，其结构如图4所示。这样的结构会带来以下缺点1、 由于真空镀膜室的环境限制，轴承不能使用润滑脂，会使得 旋转摩擦过大，特别在连续旋转发热时，轴承容易卡死，影响上转架 的旋转；2、 真空镀膜室内温差较大，原件的热胀冷縮较明显，而轴与轴 承配合的精度要求较高，对温度敏感，热胀冷縮会影响轴承寿命，甚 至卡死轴承；3、 轴通过螺栓连接在真空镀膜室内，长期旋转会使得螺栓松动， 不利于上转架的固定。
技术实现思路
针对上述问题，本技术的目的在于提供一种使得上转架的连 接、旋转更稳定，结构更合理的真空离子镀膜机。 本技术解决其问题所采用的技术方案是真空离子镀膜机，包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴，其特征在于所述真空镀膜室内设有 滚珠机构支撑上转架。其中的滚珠机构包括固定在上转架下方的承接架，所述承接架上 面分布有滚珠支撑上转架。进一步，承接架上开设有若干圆槽，滚珠放置于圆槽内支撑上转架。作为优选方式，滚珠分布于承接架上端一定距离的圆周上。 此外，所述滚珠机构还包括通过螺栓固定在真空镀膜室内限制上转架周向位置的固定轴组，所述固定轴组的外侧面与上转架内侧面相抵。其中的固定轴组包括用螺栓固定在真空镀膜室内的固定轴，固定 轴下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套，所述轴套外侧面与上转架 内侧面相抵，进一步，轴套内设有滚珠围绕固定轴；其中，轴套内滚珠的上、 下端设有承接滚珠的上、下导套，而且所述上、下导套与滚珠相接触 面设有凹槽。本技术的有益效果是真空镀膜室内的上转架取消了轴承固 定，而采用下方的滚珠支撑，起到了很好的固定效果，在不能使用润 滑脂的环境下，滚珠能保证滑动较易，并且平均分布的滚珠能保证支 撑上转架转动平稳，此外，这样的结构有一定膨胀裕度，且滚珠耐热 性好，可适应热胀冷縮环境，不容易损坏；本技术使得上转架的 固定结构更为简单合理。以下结合附图和实施例对本技术作进一步说明附图说明图1是本技术真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图2是承接架与滚珠的结构示意图3是固定轴组的结构示意图4是现有的真空离子镀膜机内上转架的固定方式示意图。具体实施方式参照图1，真空离子镀膜机，包括真空镀膜室1、安装在真空镀 膜室1内的上转架2和连接在上转架2上的自转轴3，所述真空镀膜 室1内设有滚珠机构4支撑上转架2。参照图2，所述滚珠机构4包括固定在上转架2下方的承接架41 ， 所述承接架41上面分布有滚珠5支撑上转架2，承接架41在真空镀 膜室l内的固定方法有很多，如焊接、螺栓固定等，此处不再赘述。滚珠5在承接架41上的固定方法有很多，本技术考虑到连 接的方便有效，在所述承接架41上开设有若干圆槽，并将滚珠5放 置于圆槽内支撑上转架2，这样的结构不但设置简易，并且有利于上 转架2旋转时支撑的滚珠5的有效滚动。而且，优选将滚珠5分布于承接架41上端一定距离的圆周上， 这样均匀分布的滚珠可对上转架2起到很好的支撑、固定作用。除此之外，参照图3，所述滚珠机构4还包括通过螺栓固定在真 空镀膜室1内限制上转架2周向位置的固定轴组42，所述固定轴组 42的外侧面与上转架2内侧面相抵。作为更具体的实施方式，本技术的优选方案是，固定轴组42包括有用螺栓固定在真空镀膜室l内的固定轴421，固定轴421 下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套422，所述轴套422外侧面与 上转架2内侧面相抵。进一步，所述轴套422内设有滚珠6围绕固定轴421，此外，所 述轴套422内滚珠6的上、下端设有承接滚珠6的上导套61、下导 套62，为方便配合，所述上导套61、下导套62与滚珠6相接触面均 设有凹槽。这样的结构使得整个固定轴组42完全取代了传统的轴与 轴承，起到限位固定与旋转作用，并且，由于滚珠6组合的方式不需 要润滑脂就能较好转动，而且还具有一定的膨胀裕度，相比轴承更适 合于真空镀膜室的使用环境。当然，上述的实施方式只是本技术的一种实施例，并不视为 对本技术的保护范围限制，只要是通过滚珠机构4来支撑上转架 2的真空离子镀膜机，均属于本技术的保护范围。权利要求1、真空离子镀膜机，包括真空镀膜室(1)、安装在真空镀膜室(1)内的上转架(2)和连接在上转架(2)上的自转轴(3)，其特征在于所述真空镀膜室(1)内设有支撑上转架(2)的滚珠机构(4)。2、 根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠机构(4)包括固定在上转架(2)下方的承接架(41)，所述承接架(41)上面分布有滚珠(5)支撑上转架(2)。3、 根据权利要求2所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述承接架(41)上开设有若干圆槽，滚珠(5)放置于圆槽内支撑上转架(2)。4、 根据权利要求3所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠(5)分布于承接架(41)上端一定距离的圆周上。5、 根据权利要求1所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述滚珠机构(4)包括通过螺栓固定在真空镀膜室(1)内限制上转架(2)周向位置的固定轴组(42)，所述固定轴组(42)的外侧面与上转架(2)内侧面相抵。6、 根据权利要求5所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述固定轴组(42)包括用螺栓固定在真空镀膜室(1)内的固定轴(421)，固定轴(421)下端设有凸起台阶，台阶上套置有轴套(422)，所述轴套(422)外侧面与上转架(2)内侧面相抵。7、 根据权利要求6所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述轴套(422)内设有滚珠(6)围绕固定轴(421)。8、 根据权利要求7所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述轴套(422)内滚珠(6)的上、下端设有承接滚珠(6)的上、下导套(61、62)。9、根据权利要求8所述的真空离子镀膜机，其特征在于所述上、下导套(61、 62)与滚珠(6)相接触面设有凹槽。专利摘要本技术公开了一种真空离子镀膜机，包括真空镀膜室、安装在真空镀膜室内的上转架和连接在上转架上的自转轴，上转架下方设有固定在真空镀膜室内的承接架，所述承接架上面设有支撑上转架的滚珠机构；由于转架取消了轴承固定，而采用滚珠机构支撑，起到了很好的固定效果，在不能使用润滑脂的环境下，滚珠能保证滑动较易，并且平均分布的滚珠能保证支撑上转架转动平稳，此外，滚珠与承接架的配合有一定膨胀裕度，可适应热胀冷缩环境，不容易损坏，本技术使得上转架的固定结构更为简单合理。文档编号C23C14/24GK201265040SQ200820200629公开日2009年7月1日 申请日期2008年9月13日 优先权日2008年9月13日专利技术者苏东艺 申请人:苏东艺本文档来自技高网...

【技术保护点】
真空离子镀膜机，包括真空镀膜室（１）、安装在真空镀膜室（１）内的上转架（２）和连接在上转架（２）上的自转轴（３），其特征在于：所述真空镀膜室（１）内设有支撑上转架（２）的滚珠机构（４）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：苏东艺，
申请(专利权)人：苏东艺，
类型：实用新型
国别省市：81[中国|广州]