蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机制造技术

技术编号:1812347 阅读:241 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机,镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体,另一部分是可以开合移动的前门,两个前门的中央分别装入旋转磁控柱状弧源,利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发,离化进行离子镀膜。两个前门一开一合,轮换与固定体扣合进行镀膜,整机结构简单、操作简便、镀膜均匀区大、成本低廉。适用于表面镀膜和离子渗金属技术,尤其适于镀氮化钛涂层。(*该技术在2007年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于等离子体气相沉积领域,应用于表面镀膜、离子渗金属
,尤其适用于反应沉积氮化钛等化合物涂层。多弧离子镀技术利用冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发、离化,反应沉积氮化钛等化合物涂层,广泛应用于沉积工模具超硬涂层和仿金精饰层。所采用的多弧源有小平面弧源、矩形大平面弧源、柱状弧源。安装这些弧源的多弧离子镀膜机多为单室结构或双室结构。如ZL94243337.8、ZL91225278.2。其双室结构多是与真空机组并联的两个独立的镀膜室,虽然其结构已经简化、已经省去了一套真空机组,但仍是由两个独立的镀膜室组成。蚌式双室镀膜机目前只是采用电阻蒸发源的普通蒸发型镀膜机,台湾的三合真空机械有限公司、大永真空工业股份有限公司均生产这种形状的镀膜机。本技术的目的是提供一种蚌式双室柱状弧源多弧离子镀膜机。其特点是两个镀膜室中央均安装一个旋转磁控柱状弧源,利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀材料蒸发、离化,进行离子镀膜。镀膜室的结构是如附图说明图1所示的蚌式双室结构,两个可开合移动的前门轮换与固定体扣合进行镀膜,它的结构更简单、成本更低廉。本技术是这样实现的,镀膜机的两个镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体(1),它与真空机组(2)相联。另一部分是可以开合移动的主体,也叫前门(3)、(4),从两个前门的顶部分别装入一个旋转磁控柱状弧源(5)、(6),工件转架(7)、(8)分别在柱弧源周围转动,靠近真空室壁安装烘烤加热源(9)、(10),进气系统(11)、(12),每个柱弧源配一个引弧针(13)、(14)。利用蚌式双室柱状弧源多弧离子镀膜机进行镀膜时,先将可开合移动的前门(3)同旋转磁控柱状弧源、工件转架、烘烤加热源、进气系统、引弧针一起与固定体(2)扣合好后进行镀膜。另一个可开合移动的前门(4)可以进行工件的拆卸和安装,待第一炉镀膜完成后,打开可开合移动的前门(3),关上可开合移动的前门(4)进行新的镀膜过程。本技术是一种安装旋转磁控柱状弧源的新型多弧离子镀膜机,一个镀膜室中只需安装一个柱弧源,当驱动引弧材将柱状弧源引燃之后,弧斑呈直线状或螺线状沿柱弧源的全长分布并沿柱弧源的靶面旋转,可以实现沿整个工件转架高度的均匀镀膜,而且镀膜机为蚌式双室结构,省去了一个固定体。因此,与现在广泛使用的安装小弧源的多弧离子镀膜机相比,尤其是与具有两个独立真空室的镀膜机相比,本技术具有镀膜机结构简单、操作简便、成本低廉、镀膜均匀区大等优点。图1是本技术的实施例简图,图1-a为正视图、图1-b为顶视图。下面结合实施例对本技术做进一步说明。以镀氮化钛为例,当可开合移动的前门(3)安装好工件后与固定体(2)扣合好,首先抽真空,然后开启工件转动机构,对工件烘烤加热,充入氩气,施加工件偏压后开启引弧针引燃柱状弧源,柱弧源上的弧斑呈线状沿柱弧源全长分布,并沿柱弧源的表面扫描,由于采用的是钛靶,此时柱弧源从上到下向周围360方向发射钛等离子体子。首先利用钛、氩离子对工件进行离子轰击净化、离子轰击加热。改通氮气后进行镀氮化钛膜。达到预定膜厚之后关毕弧源电源、气源、偏压电源和工件转动机构。然后充气、打开可开合移动的前门(3)。马上将已安装好工件的可开合移动的前门(4)与固定体(2)扣合好开始新的镀膜过程。取出前门(3)中已镀好的工件,再装好待镀的工件等待新的镀膜过程。本技术采用旋转磁控柱状弧源的镀膜均匀区大、镀膜室的空间利用率操作简便,而且蚌式双室使镀膜机的结构简单,节省材料,成本低廉。权利要求1.一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机,镀膜机的镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体(1),它与真空机组(2)相联,另一部分是可以开合移动的主体,也叫前门(3)、(4),两个前门的顶部分别装入旋转磁控柱状弧源(5)、(6),而且分别安装工件转架(7)、(8),烘烤加热源(9)、(10),进气系统(11)、(12),引弧针(13)、(14),其特点是利用两个镀膜室中央安装的旋转磁控柱状弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发、离化,进行离子镀膜,蚌式双室的两个可开合移动的前门轮换与固定体扣合进行镀膜。2.如权利要求1所述的蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机,其特征是两个镀膜室中安装的旋转磁控柱状弧源被引燃后,弧斑呈直线状或螺线状沿柱弧源的全长分布并沿柱弧源的靶面旋转,可以实现整个工件转架的均匀镀膜。3.如权利要求1所述的蚌形双室柱状弧源离子镀膜机,其特征是蚌式双室镀膜机的镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体,一部分是可以开合移动的主体,也叫前门,其中一个前门与固定体扣合后进行镀膜,另一个前门拆装工件等待新的镀膜过程。专利摘要本技术公开了一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机,镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体,另一部分是可以开合移动的前门,两个前门的中央分别装入旋转磁控柱状弧源,利用柱弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发,离化进行离子镀膜。两个前门一开一合,轮换与固定体扣合进行镀膜,整机结构简单、操作简便、镀膜均匀区大、成本低廉。适用于表面镀膜和离子渗金属技术,尤其适于镀氮化钛涂层。文档编号C23C14/24GK2374553SQ9722089公开日2000年4月19日 申请日期1997年7月29日 优先权日1997年7月29日专利技术者王福贞, 朱刚毅 申请人:肇庆市腾胜真空技术工程有限公司, 王福贞本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种蚌形双室柱状弧源多弧离子镀膜机,镀膜机的镀膜室由两部分组成,一部分是固定不动的共用体(1),它与真空机组(2)相联,另一部分是可以开合移动的主体,也叫前门(3)、(4),两个前门的顶部分别装入旋转磁控柱状弧源(5)、(6),而且分别安装工件转架(7)、(8),烘烤加热源(9)、(10),进气系统(11)、(12),引弧针(13)、(14),其特点是利用两个镀膜室中央安装的旋转磁控柱状弧源产生的冷场致弧光放电过程使被镀靶材蒸发、离化,进行离子镀膜,蚌式双室的两个可开合移动的前门轮换与固定体扣合进行镀膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:王福贞朱刚毅
申请(专利权)人:肇庆市腾胜真空技术工程有限公司王福贞
类型:实用新型
国别省市:44[中国|广东]

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