内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机制造技术

本实用新型专利技术是有关于一种内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，包含有一清洁区，内有一升降结构。一进料减压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与清洁区连接。一真空镀膜区，两端各设有一闸门，其中一闸门与进料减压区连接。一出料增压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与真空镀膜区连接。一取料反转区，与出料增压区连接，内设有一升降机构。一回流区，通反转区及清洁区，内设有一传送机构。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术是与镀膜设备有关，特别是一种内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机。
技术介绍
就目前的真空镀膜技术而言，对于基材表面及镀膜腔室内部洁净度和真空度的要求极高，些微的悬浮物或污染物都会导致镀材成品表面具有异常的透光或异质颗粒，而影响成品的品质及合格率。因此，通常在将基材放入镀膜设备进行镀膜之前，都会先将基材放置于一托盘上，然后在一除尘及除静电的清洁机器内，先对基材进行除尘与除静电的处理。之后，再将托盘取出移转至镀膜设备中来进行镀膜的动作。然而这样的生产方式，在整个镀膜的流程中会产生至少二个较为重大的问题。首先，是当基材在一清洁机内完成清洁的动作后必须要取出，离开清洁机曝露于一般的工作环境中，然后再置入镀膜设备中，这一个取出再置入的动作便会让己经完成清洁动作的基材再次的受到污染，再加上托盘必须取出、置入、拿上拿下，大大的增加了与操作人员或现场环境的接触污染机会，而使得之前除尘与除静电的动作变作做白工。其次，是在清洁机内对于托盘上的基材进行除尘与除静电的动作时，一般都仅只会针对托盘顶面上所放置的基材来处理，所以理所当然的，托盘的盘面便会连带的被顺便除尘与除静电，可是对于托盘的侧边及底部却未加以处理，因此当基材连同托盘置入镀膜设备时，托盘侧边及底部的尘屑或静电也就被一并的置入了镀膜设备中。如此，不仅会影响产品的品质及合格率。长此以往，这些附着于托盘表面的悬浮物质或尘屑不断的重覆累积，更会造成镀膜设备中的腔室被污染，而影响到腔室内部的洁净度与真空度。因此，这样的镀膜设备有其改良的必要。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种可以大幅提升洁净度的内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机。为达成上述目的，本技术的内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机包含有一清洁区，内有一升降结构以及一清理器。一进料减压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与清洁区连接。一真空镀膜区，两端各设有一闸门，其中一闸门与进料减压区连接。一出料增压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与真空镀膜区连接。一取料反转区，与出料增压区连接，取料反转区内设有一升降机构。一回流区，连通反转区及清洁区，回流区内设有一传送机构。本技术能够克服现有技术的不足，从而大幅提升基材表面及镀膜腔室内部洁净度和真空度。附图说明图1本技术第一实施例的示意图；图2本技术第二实施例的示意图。具体实施方式本技术的内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机10自一端往另一端依序设有一清洁区20，为一壳室，设于镀膜设备的一端，壳室内有一抽气设备21、一升降结构22以及一清理器(图中未示)。一进料减压区30，具有一减压腔室，减压腔室的两端各设有闸门，其中一闸门与清洁区的壳室连接。一真空镀膜区40，具有一真空腔室，真空腔室的两端各设有闸门，其中一闸门与进料减压区的减压腔室连接。一出料增压区50，具有一增压腔室，增压腔室的两端各设有闸门，其中一闸门与真空镀膜区的真空腔室连接。一取料反转区60，具有一腔室，与出料增压区的增压腔室连接。腔室内设有一升降机构61。此外，本技术的内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机另设有一回流区70，回流区为一管状通道，连通反转区的内部空间及清洁区，并且于通道的两端各设有一闸门，回流区内设有一传送机构71。以上述的组合，本技术在操作时，操作员由清洁区将要镀膜的基材置于清洁区内的托盘上，进行基材除尘及除静电的动作，然后，基材便随着托盘进入进料减压区，之后在真空镀膜区进行镀膜，随后经由出料增压区至取料反转区。此时，操作员可以在此将已经镀好的成品取出，或是让这些成品随着托盘再由经由回流区，回到清洁区再将成品取出，完成镀膜的动作。至于托盘如何移动、速度多快、间距多久则是属于自动控制的设定问题，并不在本技术所要探讨的范围，在此容不赘述。如此一来，基材在做完清洁动作后便直接进入进料减压区，并不需要再有取出及置入的动作，也就直接的排除了曝露于外在工作环境中，而让清洁后的基材再次被污染的机会。再者，操作员每次在放置基材或取出成品时便不再需要取出，甚至是移动托盘，因此，托盘只需在第一次置入镀膜设备前做好完整的除尘与除静电的动作，此后便可以一直保持在镀膜设备的净室内循环，不易再受到其他的污染，所以可以有效的减少镀膜设备中的腔室被污染的可能，提升腔室内部的洁净度与真空度。此外，需再加以说明的是，本技术中的清洁区并不仅限于单一人工操作的清洁区，亦可如图2所示，将清洁区分成二段，皆设有抽气设备，前段为人工手动操作的清洁区M，后段为机械式的自动清洁区A，同样的可以达成本技术的目的。权利要求1.一种内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，包含有一清洁区，设于镀膜设备的一端，内有一升降结构以及一清理器；一进料减压区，具有一减压腔室，减压腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与清洁区连接；一真空镀膜区，具有一真空腔室，真空腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与进料减压区的减压腔室连接；一出料增压区，具有一增压腔室，增压腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与真空镀膜区的真空腔室连接；一取料反转区，具有一腔室，与出料增压区的增压腔室连接，腔室内设有一升降机构；一回流区，回流区是通反转区的内部空间及清洁区，回流区内设有一传送机构。2.依据权利要求1所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中清洁区内设有一抽气设备。3.依据权利要求1所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中清洁区可为一人工手动操作的清洁区。4.依据权利要求1所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中清洁区可为一机械式的自动清洁区。5.依据权利要求1所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中清洁区可分成二段，前段为人工手动操作的清洁区，后段为机械式的自动清洁区。6.依据权利要求1所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中回流区为一管状通道，连通反转区的内部空间及清洁区。7.依据权利要求6所述内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，其中回流区的两端各设有一闸门。专利摘要本技术是有关于一种内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，包含有一清洁区，内有一升降结构。一进料减压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与清洁区连接。一真空镀膜区，两端各设有一闸门，其中一闸门与进料减压区连接。一出料增压区，两端各设有一闸门，其中一闸门与真空镀膜区连接。一取料反转区，与出料增压区连接，内设有一升降机构。一回流区，通反转区及清洁区，内设有一传送机构。文档编号C23C14/02GK2797387SQ200520004109公开日2006年7月19日 申请日期2005年2月16日 优先权日2005年2月16日专利技术者黄泰源, 廖学炯, 余端仁, 刘忠炯, 李原吉, 许耿祯 申请人:友威科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种内藏静电除尘机构连续式真空镀膜机，其特征在于，包含有：　　　　一清洁区，设于镀膜设备的一端，内有一升降结构以及一清理器；　　　　一进料减压区，具有一减压腔室，减压腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与清洁区连接；　　　　一真空镀膜区，具有一真空腔室，真空腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与进料减压区的减压腔室连接；　　　　一出料增压区，具有一增压腔室，增压腔室的两端各设有一闸门，其中一闸门与真空镀膜区的真空腔室连接；　　　　一取料反转区，具有一腔室，与出料增压区的增压腔室连接，腔室内设有一升降机构；　　　　一回流区，回流区是通反转区的内部空间及清洁区，回流区内设有一传送机构。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄泰源，廖学炯，余端仁，刘忠炯，李原吉，许耿祯，
申请(专利权)人：友威科技股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：71[中国|台湾]