环型镀膜室制造技术

一种环型镀膜室，包括真空室和平移架，在平行结构的真空室前端侧面之间设置平移架，在平行结构的真空室后端口分别设置具９０度旋转装置的真空室，９０度旋转装置是由放置基片架的导轨、导轨传动机构、圆弧形导轨和旋转机构组成，旋转机构的旋转底座位于圆弧形导轨的中心支撑放置基片架的导轨。本实用新型专利技术结构构合理、使用方便、实现高效率双面生产。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空镀膜专用设备，尤其是一种镀制高档玻璃镀膜材料的立式真空镀膜室。制备高档玻璃镀膜材料的镀膜室通常是立式镀膜室，镀膜材料的基体采用基片玻璃，基片玻璃装载在玻璃基架上在多个连续立式处于真空状态中真空室体中连续运行并在运行过程中生成镀膜材料。基片玻璃在基架进入真空室前装上基架，在基架运行出真空室时卸下。由于真空室内粉尘和湿度对所生产的产品质量影响很大，因而，在产品成本中，其制造费用和运行费用都占有很大的比例。目前，国内外镀膜室大致有两种一种是基架由在真空室外回架机构将基架运回，然后基架从真空室连续运行进行工艺镀膜，其优点是设备投入少，安装维护方便，但其存在的缺点是1、由于产品的生产环境的洁净度要求高，因真空室外的回架机构造成运行费用高，对提高产品的质量和生产高档产品不利；2、增加回架机构相应增加设备费用。另一种是基架在真空室内连续运行，在两端设置180度旋转真空室，该技术虽然能够减小净化空间，省去回架机构，但仍然存在如下缺点1、只能单面生产，生产效率低；2、180度的旋转真空室制造难度大、费用高；3、旋转机构复杂。本技术的目的意在克服上述现有技术的不足，提出一种结构合理、使用方便、实现高效率双面生产的环型镀膜室。实现上述目的的技术方案一种环型镀膜室，包括真空室和平移架，在平行结构的真空室前端侧面之间设置平移架，在平行结构的真空室后端口分别设置具90度旋转装置的真空室，90度旋转装置是由放置基片架的导轨、导轨传动机构、园弧形导轨和旋转机构组成，放置基片架的导轨跨置在两个对称分布的园弧形导轨上，导轨传动机构包括电机、电磁离合器、基架传动轴和伞齿轮，电机经电磁离合器、传动轴、伞齿轮驱动放置基片架的导轨传动轴，旋转机构包括旋转气缸、气缸轴、主动轮、被动轮和旋转底座，旋转气缸的气缸轴接主动轮、经被动轮传动旋转底座，旋转底座位于园弧形导轨的中心支撑放置基片架的导轨。在两个90度旋转装置之间置有真空室。采用上述结构的技术方案，其明显的优点在于1、由于采用平行分体结构，在真空室的两侧均可安装镀膜靶装置，实现双面镀膜架只需旋转90度，旋转结构简单，制造费用低，使用维护方便。综上所述，上述结构完全能实现本技术的目的。以下结合附图对本技术作进一步详细的说明附图说明图1是本技术的一种结构示意图。图2是图1中90度旋转装置的A-A剖视图。图3是图2中B部分的结构放大视图实施例参照图1～图3，一种环型镀膜室，包括真空室(3、4、7、8、9)、平移架1和分别置于真空室(4、8)内的两个相同结构的90度旋转装置，真空室(3、9)可为一个或多个连接而成的平行结构，在真空室(3、9)的前端侧面之间设置平移架1，平移架1可在导轨2上在两个真空室(3、9)的前端侧面之间作平移运动，在真空室(3、9)的后端口分别设置具90度旋转装置的真空室(4、8)，90度旋转装置是由放置基片架的导轨6、导轨传动机构、圆弧形导轨5和旋转机构组成，放置基片架的导轨6跨置在两个对称分布的圆弧形导轨5上，在圆弧形导轨5的中心设置有支撑导轨6的旋转底座18，导轨传动机构包括电机16、电磁离合器15、基架传动轴14和伞齿轮12，旋转机构包括旋转气缸11、气缸轴10、主动轮17、被动轮13和支撑导轨6的旋转底座18。工作过程当基片架离开真空室3进入真空室4时，电磁离合器15动作，电机16开始转动，经电磁离合器15、传动轴14驱动伞齿轮12转动，经伞齿轮12的90度转向后，驱动放置基片架的导轨6的传动轮使进入导轨6上的基片架作直线运动，当基片架完全进入导轨6后，离合器15断开，基片架停止直线运动，此时，启动旋转机构，旋转气缸11开始旋转，经气缸轴10、主动轮17和被动轮13驱动位于圆弧形导轨5的中心支撑导轨6的旋转底座旋转，当装有基片架的导轨6作90度的旋转后，旋转气缸11停止转动。再启动电磁离合器15动作，电机16开始转动，经电磁离合器15、传动轴14驱动伞齿轮12转动，经伞齿轮12的90度转向后，使导轨6上的基片架作直线运动，将导轨6上放置的基片架送入真空室7，当基片架完全离开导轨6后，离合器15断开，基片架停止直线运动，完成基片架的90度旋转任务。在真空室8中的90度旋转装置与在真空室4中的90度旋转装置结构相同，工作过程相同(略)。在本实施例中，根据需要，也可取消真空室7，直接将两个90度旋转装置相接，完成所需的旋转任务。权利要求一种环型镀膜室，包括真空室和平移架，其特征在于在平行结构的真空室前端侧面之间设置平移架，在平行结构的真空室后端口分别设置具90度旋转装置的真空室，90度旋转装置是由放置基片架的导轨、导轨传动机构、园弧形导轨和旋转机构组成，放置基片架的导轨跨置在两个对称分布的园弧形导轨上，导轨传动机构包括电机、电磁离合器、基架传动轴和伞齿轮，电机经电磁离合器、传动轴、伞齿轮驱动放置基片架的导轨传动轴，旋转机构包括旋转气缸、气缸轴、主动轮、被动轮和旋转底座，旋转气缸的气缸轴接主动轮、经被动轮传动旋转底座，旋转底座位于园弧形导轨的中心支撑放置基片架的导轨。2.根据权利要求1所述环型镀膜室，其特征在于在两个90度旋转装置之间置有真空室。专利摘要一种环型镀膜室,包括真空室和平移架,在平行结构的真空室前端侧面之间设置平移架,在平行结构的真空室后端口分别设置具90度旋转装置的真空室,90度旋转装置是由放置基片架的导轨、导轨传动机构、圆弧形导轨和旋转机构组成,旋转机构的旋转底座位于圆弧形导轨的中心支撑放置基片架的导轨。本技术结构构合理、使用方便、实现高效率双面生产。文档编号C23C14/56GK2443973SQ00247120公开日2001年8月22日 申请日期2000年8月22日 优先权日2000年8月22日专利技术者许生, 王建峰, 李自鹏, 颜远全 申请人:深圳威士达真空系统工程有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种环型镀膜室，包括真空室和平移架，其特征在于：在平行结构的真空室前端侧面之间设置平移架，在平行结构的真空室后端口分别设置具９０度旋转装置的真空室，９０度旋转装置是由放置基片架的导轨、导轨传动机构、园弧形导轨和旋转机构组成，放置基片架的导轨跨置在两个对称分布的园弧形导轨上，导轨传动机构包括电机、电磁离合器、基架传动轴和伞齿轮，电机经电磁离合器、传动轴、伞齿轮驱动放置基片架的导轨传动轴，旋转机构包括旋转气缸、气缸轴、主动轮、被动轮和旋转底座，旋转气缸的气缸轴接主动轮、经被动轮传动旋转底座，旋转底座位于园弧形导轨的中心支撑放置基片架的导轨。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：许生，王建峰，李自鹏，颜远全，
申请(专利权)人：深圳威士达真空系统工程有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]