本实用新型专利技术涉及一种真空镀膜装置。由用步进电机驱动的样品架、靶、离子源、加热源、基片架和安装在真空室外面的机械泵、分子泵组成，其基片架通过行星齿轮组与样品架安装，圆周均布于样品架上方，样品架下设机械定位校准机构，于步进电机之上，步进电机、交流调速电机通过传动轴分别安装在样品架和基片架的绝缘轴套上；基片架和靶之间设有挡板；机械泵和分子泵构成真空室抽气机组。具有镀膜质量好，应用范围广等特点。（*该技术在2010年保护过期，可自由使用*）
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜技术，具体地说是一种真空镀膜装置。在现有技术中，真空镀膜技术为科学研究与生产提供了膜层涂覆的新工艺，为光学研究、半导体电子学、表面科学、装饰工业等广泛的应用领域提供了新的技术手段，随着真空镀膜技术的飞速发展，以及其应用领域的不断延伸和扩展，带动国内真空镀膜设备的制造水平得到了很大的提高，在许多方面缩短了与发达国家之间的差距。然而，目前国内大多数镀膜设备采用的基片架为平面式，只能镀平面膜材，样品架固定安装，不转动，或转动安装也只有公转，没有基片架的自转功能，常常是膜层质量不理想，均匀性差。为了克服上述不足，本技术的目的是提供一种镀膜质量好，应用范围广的真空镀膜装置。为了实现上述目的，本技术的技术方案是由安装在真空室里用步进电机驱动的样品架、靶、离子源、加热源、用交流调速电机驱动的基片架和安装在真空室外面的机械泵、分子泵组成，其中，基片架通过行星齿轮组与样品架垂直安装，圆周均布于样品架上方，样品架下设机械定位校准机构，于步进电机之上，所述步进电机、交流调速电机通过传动轴分别安装在样品架和基片架的绝缘轴套上；所述基片架和靶之间设有挡板；分子泵通过电动闸板阀与真空室相连，机械泵通过预抽阀与真空室相连，在分子泵与机械泵之间设有前级阀；所述光耦机械定位校准机构由固定在支架上的光电开关、起始定位盘和靶位定位盘组成，其中光电开关A位于带起始缝的起始定位盘上，光电开关B安装在带有靶位定位缝的靶位定位盘上，起始定位盘位于靶位定位盘上方，光电开关A、B与计算机电连接，靶位定位盘与起始定位盘同轴安装固定，与靶位对应；所述基片架由伞形齿轮、托和轴组成，其中托通过轴A与伞形齿轮A相连，伞形齿轮B与伞形齿轮A啮合，伞形齿轮B通过轴B与样品架连接；所述基片架数量范围为1～10；所述样品架上点对称式设有抽气孔；所述靶采用射频磁控靶或直流磁控靶。本技术具有如下优点1．膜层质量好。样品架和基片架分别由步进电机和交流调速电机通过“行星齿轮传动机构”驱动，实现样品架的公转和基片架的自转，且转动平稳，样品架的公转带动基片架对正固定的靶位，实现靶位的调整，完成换位功能；基片架的自转带动基片旋转，消除了镀膜径向上的不均匀，使得膜层质量得到改善。2．应用范围广。由于本技术所述基片架采用与交流调速电机的轴垂直固连或通过伞形齿轮连接两种方式，使之可镀平面基材，轴套内、外环，也可给滚珠镀膜。另外，本技术所述与真空室绝缘安装，能加偏压，可镀介质膜即绝缘膜，且膜层质量好。 附图说明图1为本技术结构示意图。图2为图1中机械定位校准机构结构示意图。图3为图1中样品架、基片架安装图。图4为基片架另一个安装实施例。图5为图4实施例情况下样品架俯视图。以下结合附图对本技术作进一步详细说明。实施例1如图1、3所示，由安装在真空室1里用步进电机51驱动的样品架5、靶2、离子源3、加热源10、用交流调速电机41驱动的基片架4和安装在真空室1外面的机械泵7、分子泵8组成，其中，基片架4通过行星齿轮组11与样品架5垂直安装，圆周均布于样品架5上方，样品架5下设机械定位校准机构6，于步进电机51之上，分子泵8通过电动闸板阀与真空室1相连，机械泵7通过预抽阀与真空室1相连，在分子泵8与机械泵7之间设有前级阀；所述基片架4和靶2之间设有挡板9；所述步进电机51、交流调速电机41通过传动轴12分别安装在样品架5和基片架4的绝缘轴套13上；所述基片架4数量8；所述靶2采用射频磁控靶(RF靶)；基片为平面基材。如图2所示，所述光耦机械定位校准机构6由光电开关、起始定位盘63和靶位定位盘64组成，其中光电开关A61位于带起始缝65的起始定位盘63上，光电开关B62安装在带有靶位定位缝66的靶位定位盘64上，起始定位盘63位于靶位定位盘64上方，光电开关A61、B62与计算机的多功能数据采集器电连接，靶位定位盘64与起始定位盘63同轴安装在一起，与靶位对应。其工作原理如下样品架5和基片架4分别由步进电机51和交流调速电机41通过行星齿轮组11传动机构驱动，实现样品架5的公转和基片架4的自转，样品架5的公转带动基片架4对正固定的靶位，实现靶位的调整，完成换位功能；在样品架5的公转轴上，固定两个同步转动的定位盘，上面为起始定位盘63，盘上开有一个0.5mm宽的窄缝，窄缝的宽度和起始定位盘63的直径决定最大允许误差。起始定位盘63旋转时通过固定在支架上的光电开关A61的检测缝，靶位定位盘64旋转时通过光电开关B62的检测缝；计算机通过多功能数据采集板“读取”光电开关A61、B62的状态，以此来判断起始位和定位误差，光电开关A61、B62对正“缝”否，决定光电开关的状态。实施例2如图4、5所示，所述装有滚珠基材的基片架4由伞形齿轮、托和轴组成，其中托42通过轴A43与伞形齿轮A45相连，伞形齿轮B46与伞形齿轮A45啮合，伞形齿轮B46通过轴B44与样品架5连接；所述样品架5上点对称式设有轴气孔52四个。本技术所述靶2也可采用直流磁控靶(DC靶)，还可以使用其它溅射源；基材亦可为轴套内、外环；所述计算机的多功能数据采集器为现有技术。权利要求1．一种真空镀膜装置，其特征在于由安装在真空室(1)里用步进电机(51)驱动的样品架(5)、靶(2)、离子源(3)、加热源(10)、用交流调速电机(41)驱动的基片架(4)和安装在真空室(1)外面的机械泵(7)、分子泵(8)组成，其中，基片架(4)通过行星齿轮组(11)与样品架(5)垂直安装，圆周均布于样品架(5)上方，样品架(5)下设机械定位校准机构(6)，于步进电机(51)之上，所述步进电机(51)、交流调速电机(41)通过传动轴(12)分别安装在样品架(5)和基片架(4)的绝缘轴套(13)上；所述基片架(4)和靶(2)之间设有挡板(9)；分子泵(8)通过电动闸板阀与真空室(1)相连，机械泵(7)通过预抽阀与真空室(1)相连，在分子泵(8)与机械泵(7)之间设有前级阀。2．按照权利要求1所述真空镀膜装置，其特征在于所述光耦机械定位校准机构(6)由固定在支架上的光电开关、起始定位盘(63)和靶位定位盘(64)组成，其中光电开关A(61)位于带起始缝(65)的起始定位盘(63)上，光电开关B(62)安装在带有靶位定位缝(66)的靶位定位盘(64)上，起始定位盘(63)位于靶位定位盘(64)上方，光电开关A、B(61、62)与计算机电连接，靶位定位盘(64)与起始定位盘(63)同轴安装固定，与靶位对应。3．按照权利要求1所述真空镀膜装置，其特征在于所述基片架(4)由伞形齿轮、托和轴组成，其中托(42)通过轴A(43)与伞形齿轮A(45)相连，伞形齿轮B(46)与伞形齿轮A(45)啮合，伞形齿轮B(46)通过轴B(44)与样品架(5)连接。4．按照权利要求1、3所述真空镀膜装置，其特征在于所述基片架(4)数量范围为1～10。5．按照权利要求1所述真空镀膜装置，其特征在于所述样品架(5)上点对称式设有抽气孔(52)。6．按照权利要求1所述真空镀膜装置，其特征在于所述靶(2)采用射频磁控靶或直流磁控靶。专利摘要本技术涉及一种真空镀膜装置。由用步进电机驱动的样品架、靶、离子源、加热源、基片架和安装本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空镀膜装置，其特征在于：由安装在真空室（１）里用步进电机（５１）驱动的样品架（５）、靶（２）、离子源（３）、加热源（１０）、用交流调速电机（４１）驱动的基片架（４）和安装在真空室（１）外面的机械泵（７）、分子泵（８）组成，其中，基片架（４）通过行星齿轮组（１１）与样品架（５）垂直安装，圆周均布于样品架（５）上方，样品架（５）下设机械定位校准机构（６），于步进电机（５１）之上，所述步进电机（５１）、交流调速电机（４１）通过传动轴（１２）分别安装在样品架（５）和基片架（４）的绝缘轴套（１３）上；所述基片架（４）和靶（２）之间设有挡板（９）；分子泵（８）通过电动闸板阀与真空室（１）相连，机械泵（７）通过预抽阀与真空室（１）相连，在分子泵（８）与机械泵（７）之间设有前级阀。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄文符，张国栋，
申请(专利权)人：中国科学院沈阳科学仪器研制中心，
类型：实用新型
国别省市：89[中国|沈阳]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。