镀膜宝石制造技术

技术编号:1811428 阅读:306 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术是一种镀膜宝石,涉及宝石制品的着色技术。其特征在于在无色的宝石或玻璃制品外表面,镀有包括高折射率高温氧化物膜层H和低折射率高温氧化物膜层L的反射薄膜,反射薄膜的膜系设计结构为:(HL)+[n]H或(HL)+[n]或(LH)+[n]L或(LH)+[n],其中n为1/4波长膜对数。具有膜系结构简单,制造工艺方便,不怕擦洗,经久耐用等优点。本实用新型专利技术表面色彩变幻莫测,色泽效果可与天然有色宝石比美,并且成本低,易于批量生产,有较大的商品市场和经济效益。(*该技术在2002年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术是一种镀膜宝石,涉及宝石制品的加工着色技术。现有的装饰用宝石制品,一般是由天然有色宝石或天然无色宝石以及玻璃材料加工制成。有色宝石色彩美丽,令人赏心悦目,但价格昂贵,普通消费者难以问津,无色宝石和玻璃虽然价格低廉,但缺乏色彩效果,又难以让消费者满意。本技术的目的在于避免上述现有技术的不足而提供一种既具有天然有色宝石的色彩效果,又价格低廉,装饰效果好的镀膜宝石。本技术的目的可以通过以下措施来达到采用真空沉积技术,在无色宝石或玻璃制品的外表面上,镀有包含高折射率高温氧化物膜层和低折射率高温氧化物膜层构成的反射薄膜,反射薄膜的膜系设计机构为(HL)nH或(LH)nL或(HL)n或(LH)n,其中H为高折射率高温氧化物膜层,L为低折射率高温氧化物膜层,它们的光学厚度都是反射光波长的1/4,反射光波长范围为0.4μm--0.7μm,高温氧化物材料为TiO2或Al2O3或ZrO2或CeO2或HfO2或Y2O3或SiO2。n为1/4波长膜对数,其数值范围是整数。 附图说明图1为镀膜宝石外表面图,图中1、2、3为不同形状的外表面。图2为反射膜系结构图。图3为镀膜宝石反射光谱图。本技术下面将结合附图作进一步说明在通用的电子束蒸发真空镀膜机上,用真空沉积技术,在无色的宝石(锆石制品)或玻璃制品的外表面1上(如图1所示),交替镀制由高折射率高温氧化物膜层H(材料为TiO2)和低折射率高温氧化物L(材料为SiO2)构成的反射薄膜4(如图2所示),然后从镀膜机中取出置于干燥箱中,加热烘烤1~2小时。其膜系设计结构为(HL)6H,反射光波长为0.48μm,高、低折射率高温氧化物膜层的光学厚度是反射光波长的1/4。利用光的干涉原理通过由高低折射率高温氧化物膜层构成的反射薄膜反射某一色彩的光,实现对无色宝石(锆石制品)或玻璃制品的着色。本技术相比已有技术具有如下优点1.采用高、低折射率高温氧化物膜层构成的薄膜对无色宝石或玻璃制品着色,使其更加美观,在不同角度观看,色彩变幻莫测,更增添了宝石制品的神秘和高雅,可与天然宝石比美。2.反射薄膜由高温氧化物材料制成,牢固结实,不怕擦洗,对宝石有保护作用,经久耐用。3.膜系结构简单,制造工艺方便,成本低,成品率高,宜于批量生产,可为广大消费者提供大量的价格低廉的装饰用宝石制品。权利要求1.一种带有色泽的镀膜宝石,其特征在于采用真空沉积技术,在无色宝石或玻璃制品的外表面上,镀有包括高折射率高温氧化物膜层H和低折射率高温氧化物膜层L的反射薄膜,反射薄膜的膜系设计结构为(HL)nH或(HL)n或(LH)nL或(LH)n,其中n为1/4波长膜对数(数值范围为整数)。2.如权利要求1所述的镀膜宝石,其特征在于高折射率高温氧化物膜层和低折射率高温氧化物膜层的光学厚度为反射光波长的1/4,反射光波长范围为0.4μm-0.7μm。3.如权利要求1、2所述的镀膜宝石,其特征在于高温氧化物膜层的材料是TiO2或Al2O3或ZrO2或CeO2或HfO2或Y2O3或SiO2。专利摘要本技术是一种镀膜宝石,涉及宝石制品的着色技术。其特征在于在无色的宝石或玻璃制品外表面,镀有包括高折射率高温氧化物膜层H和低折射率高温氧化物膜层L的反射薄膜,反射薄膜的膜系设计结构为(HL)文档编号C03C17/245GK2128635SQ9222004公开日1993年3月24日 申请日期1992年7月30日 优先权日1992年7月30日专利技术者郭永洪, 张云洞, 熊胜明 申请人:中国科学院光电技术研究所本文档来自技高网...

【技术保护点】
本实用新型是一种镀膜宝石,涉及宝石制品的着色技术。其特征在于在无色的宝石或玻璃制品外表面,镀有包括高折射率高温氧化物膜层H和低折射率高温氧化物膜层L的反射薄膜,反射薄膜的膜系设计结构为:(HL)↑[n]H或(HL)↑[n]或(LH)↑[n]L或(LH)↑[n],其中n为1/4波长膜对瘦。具有膜系结构简单,制造工艺方便,不怕擦洗,经久耐用等优点。本实用新型表面色彩变幻莫测,色泽效果可与天然有色宝石比美,并且成本低,易于批量生产,有较大的商品市场和经济效益。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郭永洪张云洞熊胜明
申请(专利权)人:中国科学院光电技术研究所
类型:实用新型
国别省市:51[中国|四川]

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