【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及到辉光放电渗金属工艺。现有的辉光放电渗金属的方法，大都是在真空室内放入待渗工件和渗金属的靶材。靶和工件都接有相对于阳报为负的电压，且工件的电位通常要高于靶的电压。同时工件和靶之间的距离还得靠得足够近才是。如中国专利公报90年12月26日公开的申请另为89104015.3号申请就是采用上述方法实现离子渗金属的。该方法的主要缺点是必须采用专用的电源设备，即使如此，电源设备也常出现工作不稳定或损坏的问题。本专利技术的目的是提供一种无需采用专用电源设备或者专用渗金属设备即可实现离子渗金属的方法。本专利技术的目的是这样实现的一种离子渗金属的方法，其特征在于将金属靶放在辉光放电离子轰出热处理炉的阴极上，将与电极完全绝缘的待渗工件置于金属靶附近，将炉内气压抽至可产生辉光放电的范围，将热处理炉的工作电压调至800伏以上，额定工作电压以下并通入少量氨气，而将靶和工件的温度调至900℃以上，靶材和工件的熔点温度以下，保温即可。所说的热处理炉即可以是离子氮化炉，也可以是离子碳化炉，或者其它种类的离子轰出热处理炉。所说的与电极完全绝缘的工件是指不与任何电源相接，也就是说，工件是在无偏压的条件下实现渗金属的，这是本专利技术与现有技术区别的本质所在。所说的金属靶可以是镍材料也可以是钼材料。所说的金属靶可以是单块金属板，或者两块或两块以上的平板金属材料相间放置而成。所说的相间，其距离约10mm。所说的抽至可产生辉光放电的炉内气压为100Pa。所说的保温，时间约2小时。本专利技术的优点1.由于本专利技术是在普通的离子轰出热处理炉内实现渗金属的，从而使得实现渗金属的设备...
【技术保护点】
一种离子溅射渗金属的方法，其特征在于：ａ）将金属靶放在辉光放电离子轰出热处理炉的阴极上；ｂ）将与电极完全绝缘的工件置于金属靶附近；ｃ）将炉内气压抽至可产生辉光放电的范围；ｄ）将热处理炉的工作电压调至８００伏以上，额定工作电压 以下，同时通入少量氨气；ｅ）将靶和工件温度调至９００℃以上，靶材和工件熔点温度以下，保温。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：金华，刘世永，楚树成，史雅琴，
申请(专利权)人：大连海事大学，
类型：发明
国别省市：91[中国|大连]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。