一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机制造技术

本发明专利技术提供一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，它以所述大型罐体作为真空镀室外壁形成临时镀室，将电弧源组件安装在竖立于镀室内的支承物上，然后以一密闭箱体作为弧靶安装座，将电弧源组件的电弧靶固定其上，并将电弧靶引线端密封在所述密封箱体内，然后再通过与该密闭箱体连通的一波纹管在真空镀室内形成一条与外界连通的非真空引线通道，将电弧源组件的水、电、气线路由该通道引出到炉外与相应部分连接。本发明专利技术镀膜机能方便的解决其真空镀室内的电弧靶的水、电、气线路引出时的连接与密封问题的。

【技术实现步骤摘要】
一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机
本专利技术涉及一种用于大型罐体内壁镀膜的真空阴极电弧镀膜机，所述大型罐体指一端开口另一端具有外凸的弧形封顶盖，直径1.5米—3.3米x高2.5米—3.8米的罐体。技术背景常用真空阴极电弧镀膜机用于镀硬质耐磨的工模具保护膜、或镀硬质耐划花耐腐蚀的日用品装饰膜，最典型的镀层是氮化钛，它呈金黄色，有较高硬度，有较好的耐磨耐蚀性能，常被用于工模具保护膜和各种用品的装饰膜。大型的镀膜机要数镀不锈钢饰板(如长3.2米x宽1.2米)的镀膜机，立式镀室直径2-5米x高2-4米，又如镀不锈钢长管(如直径40毫米x6米)的镀膜机，卧式镀室直径2米x长7米，这类型镀膜机都是30--50只电弧靶位，安置在镀室外壁上，向炉内工件发射靶材镀料等离子体，在工件外表面沉积成膜，或在工件外表面镀料(如Ti)与反应气体(如N)合成化合物膜(TiN)。这些机型技术比较成熟了，但要求在大型罐体的内壁上，用真空阴极电弧镀TiN膜的镀膜设备，国内外尚未有报导。
技术实现思路
综合而言，为了能圆满解决大型罐体内壁真空镀膜难题，新型镀膜机应具有如下特点：(1)镀膜时，被镀的大型罐体的内腔需要抽真空；(2)由于需要在罐体内壁上镀膜，镀膜时，电弧源要安装在大型罐体内的支承物上，连接电弧源的水、电、气都要引入罐体内腔；(3)电弧源的设置方式还要能完成大型罐体弧形封顶盖的仰角镀膜；(4)罐体内径有多种尺寸，电弧源镀膜时要适应这些尺寸变化；(5)罐体高度有多种尺寸，电弧源镀膜时也要适应这种高度的变化。这些要求，现有镀膜机都无法实现。现有镀膜机的电弧源都是固定在真空镀室外壁上，而这种新型镀膜机要求电弧源安装在真空镀室内的支承物上，连接电弧源的水、电、气管线都要引入真空镀室。因电弧源要完成罐体内壁的周向镀膜，不同内径、不同高度罐体的镀膜，以及实现仰角镀膜，所以，其必然为一运动件。本专利技术首要问题，解决这种镀膜机真空镀室内电弧源的水、电、气线路引出时的连接和密封问题。本专利技术的专利技术目的是，提供一种能方便的解决，其真空镀室内的电弧靶的，水、电、气线路引出时的，连接与密封问题的，大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机。本专利技术的专利技术目的通过如下技术方案实现：一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，包括机架、底盘、电弧源组件和支承物；所述底盘由所述机架支撑而水平设置，所述底盘用于与所述大型罐体的开口端密封对接，形成以所述大型罐体作为真空镀室外壁的临时镀室，所述支承物竖立在所述底盘中央，所述电弧源组件安装在所述支承物上，其前端为电弧靶，靶面朝向所述大型罐体内壁，所述电弧源组件包括弧靶组件和弧靶支承组件，所述弧靶组件通过所述弧靶支承组件安装在所述支承物上，所述弧靶组件包括一个以上所述电弧靶，还包括一弧靶安装座，所述弧靶安装座为一密闭箱体，所述电弧靶被密封安装在该密闭箱体的端面上，所述密闭箱体连通有一波纹管，并通过该波纹管穿过所述底盘伸到炉外，以便在真空的镀室内形成一条与外界连通的非真空通道，所述电弧源组件的水、电、气线路均从所述密闭箱体经所述通道引出炉外以与相应部分连接。本专利技术以待镀工件大型罐体为真空镀室外壁，形成临时镀室，电弧源组件安装在镀室内的支承物上，可满足上述对大型罐体镀膜机的要求(1)、(2)。而本专利技术这种在真空镀室内设置一个连通大气的非真空通道，然后利用该通道引线，巧妙又尽量简单的解决了上述要求(2)中真空区内电弧源组件的水、电、气线路的连接和密封问题。所述支承物为旋转架组件，它旋转密封的安装在所述底盘上，所述镀膜机还包括驱动机构和传动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述旋转架组件相连，驱动所述旋转架组件旋转并带动其上的所述电弧源组件作旋转运动，另所述驱动机构通过所述传动机构驱动所述电弧源组件作升降运动，并在所述电弧源组件上升到接近所述大型罐体顶部时，驱使所述电弧源组件前端像高低板一样绕一支点旋转仰起，与所述大型罐体的弧形封顶盖相对。驱动机构通过传动机构带动旋转架组件旋转从而带动电弧源组件作旋转运动，电弧源组件的旋转运动，可实现电弧靶对罐体内壁的圆周镀膜，驱动机构通过传动机构驱动电弧源组件上下升降运动，可实现对罐体内壁不同高度的镀膜，电弧源组件镀膜时的升降和旋转运动，使镀层均匀，而且可降低电弧源排布密度，同时也构成后续功能扩展的基础如使本专利技术能镀不同高度、不同直径的罐体。而电弧源组件前端仰起的高低板运动，可实现对罐体弧形封顶盖的镀膜，从而使本专利技术镀膜机满足要求(3)。所述旋转架组件上附有铜制拖链，所述波纹管等附在所述拖链上，当所述电弧源组件运动时，所述波纹管随所述拖链运动，拖链对所述波纹管的运动起导向作用。所述弧靶支承组件可伸缩以靠近或远离罐体内壁，从而调整所述弧靶组件镀膜时的靶基距，以便适应不同直径罐体的镀膜，从而使本专利技术镀膜机满足要求(4)。所述弧靶支承组件包括弧靶架、靶配重板、两弧靶支撑架抱箍、弧靶支撑架和两支弧靶罩伸缩支承杆，所述弧靶架两侧分别设有一弧靶架套管，两支所述弧靶罩伸缩支承杆并排设置，前端固连所述弧靶安装座，后端先分别穿过一所述弧靶支撑架抱箍后，再分别套入所述弧靶架一侧的所述弧靶架套管内，所述弧靶支撑架抱箍通过所述弧靶支撑架固定在所述弧靶架上，所述弧靶架套管上设有用于定位所述弧靶罩伸缩支承杆的紧定结构，所述靶配重板安装在所述弧靶架的尾端，其位置可调节，以平衡弧靶架另一端靶弧组件的重量，使电弧源组件保持水平；所述弧靶架通过水平的铰轴铰接在所述升降台上。所述弧靶组件只有一个，所述电弧靶在所述弧靶安装座上分两列错位排布。只设置一弧靶组件，电弧靶集中设置，利于安排其管线的引入，而两列电弧靶错位排布，则更有利于镀膜均匀。并且，所述驱动机构驱动所述旋转架组件上的所述电弧源组件作360度的正反转运动，即旋转360度后即反转复位，以保证导入镀室的管线不缠绕。本专利技术通过采用光电传感器组件，监控所述旋转架组件的运动，来实现对所述电弧源组件360度正反转运动的控制。作为优选的实施方式，所述旋转架组件的结构为：所述旋转架组件包括旋转架、升降台、转盘、转动轴和限位器，所述旋转架为一竖立支架，它通过所述转盘固定在所述转动轴上，所述转动轴则旋转密封地安装在所述底盘中央并穿出；所述升降台用于活动安装所述电弧源组件，其安装在所述旋转架上，可沿所述旋转架上升和下降，所述限位器安装在所述旋转架顶部，当所述升降台作上升运动，靠近所述旋转架顶部时，所述限位器与所述升降台上电弧源组件的尾端接触，下压所述电弧源组件的尾端，随所述升降台的继续上升，所述限位器使所述电弧源组件的前端像高低板一样绕一支点旋转仰起，与所述大型罐体的弧形封顶盖相对；所述驱动机构包括第一驱动机构和第二驱动机构，而所述传动机构包括第一传动机构、第二传动机构、升降台传动轴和第三传动机构；所述第一驱动机构通过所述第一传动机构，与穿出所述底盘的所述转动轴的外端相连，第一驱动机构通过驱动所述转动轴转动从而带动所述旋转架旋转，所述旋转架与所述转盘之间形成有一个与其外围真空镀室隔绝的非真空腔室，所述第二驱动机构安装在该腔室中，所述升降台传动轴旋转密封地安装在所述非真空腔室的腔壁上且穿出，所述第二驱动机构通过所述第二传动机构与所述升降台传动轴相连，驱动所述升降台传动轴旋转，所述升降台传本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，其特征在于，包括机架、底盘、电弧源组件和支承物；所述底盘由所述机架支撑而水平设置，所述底盘用于与所述大型罐体的开口端密封对接，形成以所述大型罐体作为真空镀室外壁的临时镀室，所述支承物竖立在所述底盘中央，所述电弧源组件安装在所述支承物上，其前端为电弧靶，靶面朝向所述大型罐体内壁，所述电弧源组件包括弧靶组件和弧靶支承组件，所述弧靶组件通过所述弧靶支承组件安装在所述支承物上，所述弧靶组件包括一个以上所述电弧靶，还包括一弧靶安装座，所述弧靶安装座为一密闭箱体，所述电弧靶被密封安装在该密闭箱体的端面上，所述密闭箱体连通有一波纹管，并通过该波纹管穿过所述底盘伸到炉外，以便在真空的镀室内形成一条与外界连通的非真空通道，所述电弧源组件的水、电、气线路均从所述密闭箱体经所述通道引出炉外以与相应部分连接。

【技术特征摘要】
1.一种大型罐体内壁镀膜用真空阴极电弧镀膜机，其特征在于，包括机架、底盘、电弧源组件和支承物；所述底盘由所述机架支撑而水平设置，所述底盘用于与所述大型罐体的开口端密封对接，形成以所述大型罐体作为真空镀室外壁的临时镀室，所述支承物竖立在所述底盘中央，所述电弧源组件安装在所述支承物上，其前端为电弧靶，靶面朝向所述大型罐体内壁，所述电弧源组件包括弧靶组件和弧靶支承组件，所述弧靶组件通过所述弧靶支承组件安装在所述支承物上，所述弧靶组件包括一个以上所述电弧靶，还包括一弧靶安装座，所述弧靶安装座为一密闭箱体，所述电弧靶被密封安装在该密闭箱体的端面上，所述密闭箱体连通有一波纹管，并通过该波纹管穿过所述底盘伸到炉外，以便在真空的镀室内形成一条与外界连通的非真空通道，所述电弧源组件的水、电、气线路均从所述密闭箱体经所述通道引出炉外以与相应部分连接。2.根据权利要求1所述的镀膜机，其特征在于，所述支承物为旋转架组件，它旋转密封的安装在所述底盘上，所述镀膜机还包括驱动机构和传动机构，所述驱动机构通过所述传动机构与所述旋转架组件相连，驱动所述旋转架组件旋转并带动其上的所述电弧源组件作旋转运动，另所述驱动机构通过所述传动机构驱动所述电弧源组件作升降运动，并在所述电弧源组件上升到接近所述大型罐体顶部时，驱使所述电弧源组件前端像高低板一样绕一支点旋转仰起，与所述大型罐体的弧形封顶盖相对。3.根据权利要求2所述的镀膜机，其特征在于，所述旋转架组件上附有铜制拖链，所述波纹管附在所述拖链上，当所述电弧源组件运动时，所述波纹管随所述拖链运动，拖链对所述波纹管的运动起导向作用。4.根据权利要求3所述的镀膜机，其特征在于，所述弧靶支承组件可伸缩以靠近或远离罐体内壁，从而调整所述弧靶组件镀膜时的靶基距。5.根据权利要求4所述的镀膜机，其特征在于，所述弧靶支承组件包括弧靶架、靶配重板、两弧靶支撑架抱箍、弧靶支撑架和两支弧靶罩伸缩支承杆，所述弧靶架两侧分别设有一弧靶架套管，两支所述弧靶罩伸缩支承杆并排设置，前端固连所述弧靶安装座，后端先分别穿过一所述弧靶支撑架抱箍后，再分别套入所述弧靶架一侧的所述弧靶架套管内，所述弧靶支撑架抱箍通过所述弧靶支撑架固定在所述弧靶架上，所述弧靶架套管上设有用于定位所述弧靶罩伸缩支承杆的紧定结构，所述靶配重板安装在所述弧靶架的尾端，其位置可调节，以平衡弧靶架另...

【专利技术属性】
技术研发人员：李志荣，冯晓庭，潘锐华，陸创程，魏艳玲，
申请(专利权)人：东莞市汇成真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44