【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及含氦金属材料的制备技术，特别提供了一种采用真空镀膜技术，向金属材料中引入氦元素的方法。
技术介绍
常用的向金属材料中引入氦元素的方法有3种，即离子注入方法、核反应方法(n，α)和贮氚老化方法。离子注入方法是，将氦离子以很高的能量注入到一定深度的金属材料表层。这种方法注入的氦不均匀分布，沿深度有浓度峰值。这种方法注入的氦剂量高，每小时可达到几个原子百分比。核反应方法是用高能α粒子入射发生核反应，在材料中产生氦。这种方法在材料中造成比较大的结构损伤，引入氦的剂量小，约为300×10-6/yr。氚时效方法引入氦是指材料贮氚后，氚自然衰变产生的氦。这种方法要求将氚引入材料中。该方法引入的剂量为100×10-6/d。上述在材料中引入氦的方法都需要特殊的实验条件。如核反应方法需要反应堆，注入方法需要加速器，氚老化方法需要使用氚，而且是针对贮氚材料。因此普通的研究单位不具备上述研究条件，而且引入的费用也比较高。对于聚变堆、快堆所用的堆壁结构材料，以及贮氚材料的研究，都需要考核在含氦条件下材料的性能。因此氦引入技术对于上述特殊场合使用的材料研究十分必要。专利技术的
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供，该方法能够将氦原子(离子)引入金属单质或合金中，尤其能够引入高浓度氦元素，而且效率高，节省引入经费。本专利技术提供了，采用溅射镀膜技术，其特征在于在镀膜的同时，向膜材表面注入低能氦离子束，离子束的能量低于1000eV。采用本专利技术方法，通过对氦离子束流量和电压的调控，氦浓度可以调整，并且可以获得各种含氦的材料，如梯度递增或递减的材料，脉动的材料等。本专利技术向金...
【技术保护点】
一种向金属材料中引入氦的方法，采用溅射镀膜技术，其特征在于：在镀膜的同时，向膜材表面注入低能氦离子束，离子束的能量低于１０００ｅＶ。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘实，王隆保，郑华，马爱华，于洪波，王贤艳，
申请(专利权)人：中国科学院金属研究所，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]
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