用于向一种基片涂敷涂料的真空模块和模块系统技术方案

本发明专利技术公开了一种真空模块及其变体，用于在基片上真空沉积多层薄膜涂料。用于向基片例如ＣＲＴ和平面显示器涂敷涂料的模块系统用来在具有不同尺寸的基片上沉积不同的薄膜。用于向基片涂敷涂料的真空模块包括：带有开口的真空腔，该开口用于布置基片；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门安装在安装在平行于所述开口的平面内，以便将处理装置和开口分隔开。一处理装置传送机构平行于基片表面往复运动。一模块系统包括几个模块，这些模块具有一共同的抽真空系统和一共同的抽真空控制系统，一共同的用于自动装卸基片的处理装置控制系统。几个模块具有一个共同的操纵器。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

所述的真空模块及其变体用于将一些材料真空沉积在一些基片上所属的领域，该基片包括三维基片，例如显象管、平面显示器等，其目的是为了在其前表面上形成多层薄膜涂料，并且该真空模块可以用于真空沉积系统中。现有技术所提出的模块系统用于向基片涂敷涂料，该基片例如为显象管、平面显示器等，并且该系统可以用作一个连续运转系统，用于在具有相似或不同标准尺寸的基片上沉积各种薄膜涂料，例如在尺寸为14″、17″、18″、21″的显象管或平面显示器等基片上。向一种组装好之后的显象管(阴极射线管(CRT))的外表面涂敷薄膜涂料的方法和装置是众所周知的。现有的含有差动抽真空系统的现有装置中的沉积室包括一个沉积区域和一个抽真空区域。在该装置的运转过程中，沉积区域中的压力在1×10-1-8×10-1Pa之内且抽真空区域中的压力在5×10-3-7×10-2Pa之内。安装在基片载体上的CRT沿着真空腔输送。该基片载体上设有阻挡板，该阻挡板将真空腔分成两个区域，即沉积区域和抽真空区域。现有装置中的导电涂料例如是采用磁控管溅射法真空沉积在该表面的靠近一CRT屏幕的扎带或其他接地部件的部分，以便于消除表面的静电荷。〔1〕. 不过，该现有装置具有显著的缺陷。首先，由于是一种顺序处理装置，因此该装置的性能较低。其次，在真空腔中传送组装好的CRT阻止不了结构元件表面的各种污物和杂质到达待涂敷的表面上，因此不能确保所要求的涂敷质量。其三，由于串联式的CRT涂敷步骤布置成一种连续而依序方式，因此该系统中任何单个单元的故障都会导致该系统完全停机。这就意味着该装置的可靠性和耐用性较低，从而降低该装置的性能。其四，任何预防性的和调节性的操作都会导致生成过程整体上完全停止运行。其五，不可能与该系统的性能成比例地降低每个涂敷有沉积材料的CRT的能量消耗，因为要使整个系统运转就需要所有单元和子系统都运转。还已知一种真空沉积装置，该装置包括真空腔，该真空腔具有一开口，该开口用于安放一基片；一密封件以及一涂敷执行装置，该涂敷装置用于涂敷涂料。该结构包括一阀门，该阀门安装在平行于真空腔开口所在平面的平面中并用于将腔体空间的布置有沉积源的部分与该腔体空间中具有该开口的部分分隔开。因此，沉积源-传送机构在垂直于其中安放有基片的平面的平面中传送该沉积源，即，该传送机构交替地将该沉积源带到基片上以便将该沉积源置于该工作位置和将其从该工作位置撤回〔2〕。不过，该现有装置具有某些缺陷。首先，沿着垂直于基片平面的方向传送沉积源仅仅不能在其横断面尺寸大于该基片表面到沉积源之间的距离的基片上提供同质而均匀的涂料厚度。其次，所述装置不能对基片表面进行最终的离子净化。其三，该现有装置在采用光学或石英方式控制涂料深度方面具有一定的难度，因此，不可能再现在CRT或平面显示器上进行涂敷多层薄膜结构的步骤。专利技术概述本专利技术的目的就是为了改善基片表面上的薄膜涂料的质量、同质性以及均匀性，以确保待涂敷涂料的纯度，扩展该装置的功能和加工能力，提供一种在基片上进行连续涂敷的工艺以及快速地采用一个未处理过的基片替代一个已经处理过的基片。为了实现该目的，根据本专利技术(变体1)，在一个用于在基片上进行涂敷的真空模块中，包括有一真空腔，该真空腔具有一开口，该开口用于安放该基片；一密封件以及一用于涂敷涂料的处理装置；一阀门，该阀门安装在平行于真空腔开口所在平面的平面内，并且该阀门用于将该腔体的具有处理装置的部分和该开口分隔开；以及一处理装置传送机构，该处理装置传送机构安装成能够平行于基片表面以一种往复运动的方式运动。而且，根据本专利技术(变体2)，该真空腔至少具有两个用于安放基片的开口，该处理装置安装成可以平行于该基片表面往复运动。根据本专利技术的一个以上的变体(变体3)，真空腔还装配有一个罩体，该罩体用于安放基片，同时处理装置-传送机构安装成这样一种形式，即该机构能够平行于该基片表面往复运动。上述目标还可以通过提供一种用于在基片上涂敷涂料的模块系统来实现，该系统作为一项专利技术提出，该系统至少包括两个按照任何前述变体构成的真空模块且这些真空模块具有共同的真空泵送系统，其中，根据本专利技术，这些模块具有一个共同的泵送控制系统、一个共同的操作装置控制系统，该操作装置控制系统具有用于自动装卸基片的处理传感器，其中至少有一组模块被置于共同操纵器的操作范围之内。在作为一项专利技术提出的这些变体中，真空腔开口的周边与待涂敷表面的轮廓相匹配。该模块上还设有基片载体，用于固定该基片，同时该基片载体可以不设置开口、可以设置一个开口、或者设置多个开口。该基片既可以安放在基片载体的表面上也可以安放在基片载体表面形成的开口上，在这种情况下，比较好的是该基片载体做成可以拆卸的形式。为了固定基片，该基片载体可以布置在该模块的外侧，因此将基片安全地从一个位置传送到另一个位置，然后将其安放在模块上。如果基片载体位于模块真空腔的开口区域内或位于真空腔罩体的区域内，那么开口的周边布置有密封件不仅能够固定基片而且能够密封基片。在这种情况下，基片载体平行于处理装置的运动平面布置。因此，该基片载体开口周边不可变化地与待涂敷表面的轮廓相匹配，如果基片载体上设有至少一个用于安放基片的开口，该基片载体开口参数必需不可变化地与待涂敷表面的轮廓相匹配，同时该基片载体开口上必需设置至少一个沿该开口的周边安装的并用于固定该基片的密封件。当真空腔、基片载体和/或罩体上都设有两个或更多的开口时，它们为每个开口都设有一个或几个单个附加的阀门和一些密封件，这些阀门安装在平行于基片安放平面的平面内，并且密封件的数量由真空腔、基片载体或罩体中开口的数量来确定。而且，在一种特定情况下，可以采用一种可以没有用于安放基片的开口的罩体和/或基片载体。在这种情况下，小尺寸的基片被固定在罩体和/或基片载体的内部，面向真空腔的内部。如果需要的话，可以将基片以及基片载体一起固定到真空腔罩体上。因此，该罩体本身可以起到一个基片载体的作用。在所有模块变体中，该处理装置传送机构可以构成一种滑架形式。位于滑架上的处理元件的构成可以从下列一组元件中选择，这组元件包括蒸发器、磁控管阴极、辉光放电目标物、离子清洁系统以及具有对转棱镜的离子溅射系统，该对转棱镜可以平行于真空腔开口所在平面安装，并且该对转棱镜的至少一个工作表面上设有待溅射的材料。在这种情况下，处理元件的结构做成可以替换形式，且在处理装置上的一套处理元件由所需的处理步骤和待溅射的材料来限定。此外，和基片载体一样，真空腔罩体可以有一个开口或至少两个开口，用于固定该基片的密封件沿着其周边安装。根据本专利技术，该罩体可以制成可拆卸和/或可替换形式，并具有不同的开口参数以用于安装具有各种标准尺寸的基片。该罩体可以作用基片载体并平行于处理装置的运动平面布置，该处理装置安装成能够平行于基片表面作往复运动，该基片安放于真空腔罩体中的开口中。该真空模块以及其实施例变体的结构与用于相似用途的传统装置的结构相比具有一些基本的优点。因此，安装成能够平行于基片表面往复运动的处理装置传送机构能够在基片上沉积一层具有任何实际尺寸的薄膜涂料，该尺寸还可以通过真空腔、基片载体和/或罩体上的一个开口(变体1)或多个开口(变体2)的尺寸得到调节，并且还能够通过平缓而有节奏地扫描待涂敷表面而获本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于在一种基片上涂敷涂料的真空模块，该模块包括：真空腔，该真空腔上设有用于安放基片的开口；密封件和用于涂敷涂料的处理装置；阀门，该阀门布置在平行于该真空腔的所述开口所在平面的平面内并用于将该真空腔中的布置有处理装 置的一部分空间和所述开口分隔开；以及处理装置传送机构，其特征在于，所述处理装置传送机构安装成其能够平行于基片表面往复运动。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：乌拉迪齐默尔夏伊里帕乌，米卡拉伊洛伊丘卡，阿里克桑德尔哈赫洛夫，谢尔盖马雷舍夫，
申请(专利权)人：伊佐瓦克有限责任公司，
类型：发明
国别省市：BY[白俄罗斯]