一种具有一真空室（１）的带材涂覆装置，其在一后壁（１８）与至少一个可取下的封闭板（２２）之间具有一个边框（２０），该边框带有一个平面的盖（１０），在真空室（１）中至少具有一个导辊（１２、１３、１４、１５）和一个涂覆辊（９），该涂覆辊带有一根轴（Ａ），还具有至少一个涂覆源（３９ａ、３９ｂ、３９ｃ）。为了减小结构高度和宽度，并使带材运行路径易于观察和调节，并避免在涂覆辊的区域内形成颗粒，按照本发明专利技术，所述至少一个导辊（１２、１３、１４、１５）及其涂覆辊（９）的朝向封闭板（２２）的端部利用带有轴承的支撑件（１６、１７和１９）固定在盖（１０）上，真空室（１）中涂覆辊（９）下面的空间没有支撑件。所述至少一个导辊（１２、１３、１４、１５）和涂覆辊（９）的远离封闭板（２２）的端部支撑在后壁（１８）上，或者，所述至少一个导辊（１２、１３、１４、１５）和涂覆辊（９）的远离封闭板（２２）的端部支撑在后壁（１８）前的支撑件上和盖（１０）上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种带材涂覆装置，其具有一个真空室，该真空室在一个后壁与至少一个可取下的封闭板之间有一个边框，该边框带有一个平面的盖，在真空室中有至少一个导辊和一个带轴涂覆辊，以及至少一个涂覆源。作为带材或基片，在此涉及金属、塑料、纸张和/或连接材料的薄膜。涂覆源例如为蒸发器、带或不带磁场增强器的溅射阴极、气体源等等，通过输送中性的或惰性的和/或活性的气体，可以形成金属层和/或氧化层和由多层构成的叠层物。通常的方法为PVD(物理蒸发沉淀)法、PCVD(物理化学蒸发沉淀)法。带材的预处理和涂层的后处理也可通过公知的反应进行。产品的例子将在说明书中提到，但没有完全描述。US4692233A公开了一种带材涂覆装置，其中一个真空室的一个圆柱状边框的两侧设置带有封闭板的移动架。这样一个移动架插接支撑着一个卷绕系统，该系统带有一个中央涂覆辊、用于被涂覆的带材的卷绕和退绕辊以及若干用于无折痕地引导带材的导辊。在运行时，另一个移动架支撑着一个涂覆系统，该系统带有三个涂覆源。在一个水平的中间平面之下有三个扇形的分室，涂覆辊的旋转轴就在该平面上。这样，在涂覆辊的周边分布四个分室，其中的每一个都接着自己的真空泵。在装配装置时，卷绕系统从一侧插入，涂覆系统从另一侧插入。原则上，这种类型的装置必须有相应的引导部件，例如导轨，才能使两部分既不接触，又能精确地插入预定的位置。其中，分室之间的隔断壁存在着一个问题，一方面，分室之间必须有良好的密封，另一方面，带材不能接触。为此，人们这样来处理US4692233A的技术主题，使隔断壁从里面向外由三部分构成，内部固定在可移动的卷绕架上，外部与真空室的边框焊接，二者之间设置弹性的滑动密封。密封针对涂覆辊的端部进行，但是并不完全到达最外部。由于结构部件需要移动，所以这种装置对真空室的两侧的场地要求很大。而且装置的高度也要很大，因为退绕和卷绕辊都在涂覆辊的上面。通常，这种装置的高度在3.5-4米之间。由于在上室中有若干运动部件，所以颗粒磨损比较大，这对涂层的质量有很大的影响。DE4207525C2公开了一种类似的装置，在该装置中，涂覆系统固定地设置在一个真空室中，而卷绕系统可以抽出，一端悬挂着一个真空室顶轨，另一端支撑着一个轨道车。在一个真空室中的顶轨同样是构成不希望出现的磨损的原因，装置高度的问题也基本上是相同的。Langlois等在1999年的《真空涂覆学会》，ISSN0737-5921，第475至479页)上发表的“Engineering Solutions Enabling a New Family of Expandable Multi-Process，Multi-Chamber Vacuum Roll Coaters”一文中公开了相反的方案，使卷绕系统始终在一个不移动的真空室中，而使涂覆系统可以抽出，以进行维护和清洁。为了避免卷绕系统的辊插接支撑，各支撑点都支撑在一支撑体的一端，该支撑体大致为Y形，并在涂覆辊的区域内带有一个厚厚的圆形隆起。该支撑体的下端通过一个角支撑件与真空室的底部螺旋连接，从而阻塞住一个非常重要的位置，以放置一个中间的涂覆源。这对于支撑体的每一侧都是有效的，然而，只有右螺栓连接脚可以看到。由于总体设计中带有用于桥式吊车的轨道，所以，总高度很容易超过3.5至4米。DE10157186C1公开了一种带材涂覆装置，其带有中间室，该室内具有一个处理辊座，辊座上有两个涂覆辊。该两个涂覆辊支撑在两个内壁的横梁上，然而，这种支撑负荷只能向下传递到底，因为在这些内壁的上端区域带有带材穿过的间隙，该间隙称之为带材活门(band ventile)。这些穿过间隙几乎占据了装置的整个宽度，因此，盖板不作为处理辊座的支撑。关于移动性和整体高度，这份文献没有述及。因此，本专利技术的任务是提供开头所描述的带有多个室的带材涂覆装置，其具有尽可能小的结构高度，在给定的带材宽度的情况下，装置的宽度也尽可能小，在这种装置中，在敞开的状态下，即，在涂覆源抽出的状态下，带材的移动路径能够很好地看到，并且很好地控制，在涂覆辊的上方，只有尽可能少量的移动的易造成颗粒的部分，这些部分很容易输送，并可进入很小的清洗室。最后，各室之间还要彼此尽可能有效地遮蔽，而且尽可能排除经涂覆辊的前侧的流动分支。无颗粒性特别是对于下述应用绝对必要的；a)FPCB(“挠性印刷电路板”)的镀铜面集成厚度(Integrationsdichte)越大，涂覆后腐蚀出的线路的宽度就越窄，因此，一个单个的尘粒就会使线路断开。b)挠性集成电路这时存在着用于在薄膜上制造印刷线路的方法。这用于例如直接将荧光屏激励器设置在薄膜上，挠性薄膜显示器旁。在此，组件例如晶体管在空间上的膨胀很小，制造过程的无颗粒性要求还是强制性的。c)显示器的抗反射层(AR，ARAS)在涂覆时沾上的尘粒会产生不抗反射区域，这将严重地影响反射显示器，例如在一个本应该是暗的荧光屏区域上出现小亮点。对于开头所描述的带材涂覆装置，所提出的问题按照本专利技术是这样解决的，至少一个导辊和涂覆辊的朝向封闭板的端部通过带有轴承的支撑件固定在盖上，真空室中涂覆辊下面的空间没有支撑件。这样，所提出的问题全面解决。特别是在给定带材宽度和长度的情况下，使结构高度尽可能小，并使结构宽度也尽可能小。在敞开状态下，即，涂覆源抽出的状态下可以清楚地看到带材运行路径，并可很容易进行调整。在涂覆辊的上方的运动的产生颗粒部件尽可能少。装置很容易运输，并可在较小的清洁室使用。最后，应该使各室之间达到一种有效的遮蔽，从而尽可能排除涂覆辊前侧的旁路流动。本专利技术的一系列其它的实施形式，无论单独实施还是结合起来，如果具有下述特征则是非常有利的*至少一个导辊的涂覆辊以其远离封闭板的端部支撑在后壁上，*至少一个导辊和涂覆辊以其远离封闭板的端部支承在后壁前的支撑件上，并保持在盖上，*涂覆辊下面和侧面的室由隔断壁划分成至少两个分室，隔断壁在其朝向涂覆辊的端部具有密封件，其曲率与涂覆辊的半径相匹配，使得在密封件与涂覆辊之间形成弧形密封间隙，*密封件通过调节机构与各所属的隔断壁连接，使得径向上的密封间隙可调节到尽可能小的值，*在真空室的内部，沿着涂覆辊的周向形成至少四个分室，*两个最上面的隔断壁相对轴向下构成120至180度之间的夹角，*两个最上面的隔断壁下面的框的局部周边为圆柱状的，*两个最上面的隔断壁上面的分室共带有四个导辊，*隔断壁的远离后壁的端部带有径向延伸的密封板条，封闭板可顶靠到这些密封板条上，*密封板条带有与其径向中线平行的弹性密封边，封闭板在封闭真空室时可顶靠到这些密封边上，*涂覆辊具有一个朝向密封板的前侧，在该前侧的前面设置一个位置固定的扇形块，其与涂覆辊的支撑件的下端在局部周边上周边啮合，*分室内的涂覆辊的端部由条状圆筒的同心弧形遮挡片所包围，这些遮挡片以狭窄的间隙围绕着所述端部，保护着涂覆辊的没有被带材遮盖着的表面部分，使其不被涂上，*靠前的遮挡片具有一个弹性密封边，封闭板在封闭真空室时可与该密封边接触，*扇形块的周边一直到其端部边缘都在前遮挡片内延伸，*装置的最大高度从其放置面算起为2.5米，*在涂覆辊两侧的真空室，各具有一个旁室，在每个旁室中具有一个用于一个退绕辊或者用于一个卷绕辊的芯轴，以及用于本文档来自技高网...
【技术保护点】
带材涂覆装置，具有一真空室（１），该真空室在一个后壁（１８）与至少一个可取下的封闭板（２２）之间有一个边框（２０），该边框带有一个平面的盖（１０），在真空室（１）中设置至少一个导辊（１２、１３、１４、１５）和一个带有一轴（Ａ）的涂覆辊（９）以及至少一个涂覆源（３９ａ、３９ｂ、３９ｃ），其特征在于：所述至少一个导辊（１２、１３、１４、１５）和涂覆辊（９）的朝向封闭板（２２）的端部通过带有轴承的支撑件（１６、１７、１９）固定在盖（１０）上，涂覆辊（９）下面的真空室（１）中的空间中没有支撑件。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S海恩，P斯库克，
申请(专利权)人：应用材料股份有限两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]
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