一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统技术方案

技术编号:1803584 阅读:260 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种具有可控磁场的脉冲激光沉积系统,该系统为在传统PLD设备基础上加一套外加强磁场装置,包括:所述的真空室设置成侧壁有一凸出腔,在该凸出腔内安装所述的靶组件和所述的基片加热器;所述的石英玻璃窗口设置在凸出腔上方;还包括一套电磁铁组件,该组件的电磁铁线圈放置在真空室凸出腔外侧,两铁芯磁极通过密封法兰环接到腔内基片加热器的两侧,电磁铁通过控制电源和计算机相连;基片加热器和靶组件与电磁铁的铁芯非接触。本发明专利技术装置结构简单,易操作。能容易的在薄膜生长或退火过程中外加可控强磁场,实现传统PLD所不能生长的薄膜。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统,包括真空室(14),由机械泵、分子泵和管路组成的真空机组(10);高压气瓶(11)放置在真空室(14)外,通过真空室壁上的针阀与真空室(14)连通组成充气系统;真空室中安装靶组件(13)和基片加热器(7),控制电源(8)与基片加热器(7)连接组成加热控温部分;准分子脉冲激光器(1)放置在真空室(14)外,其产生的脉冲激光经过聚焦透镜(2)聚焦后,经光束扫描镜反射,通过石英玻璃窗口(5)照射到靶材上;其特征在于:所述的真空室(14)设置成侧壁有一凸出腔(15),在该凸出腔(15)内安装所述的靶组件(13)和所述的基片加热器(7);所述的石英玻璃窗口(5)设置在凸出腔(15)上方;还包括一套电磁铁组件,该组件的电磁铁线圈(17)放置在真空室凸出腔(15)外侧,两铁芯(16)的两磁极通过密封法兰环(20),接到真空室内的基片加热器(7)的两侧,电磁铁(4)通过控制电源(18)和计算机相连;基片加热器(7)和靶组件(13)与电磁铁的铁芯(16)非接触。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:宁廷银周岳亮赵嵩卿王淑芳韩鹏程波林金奎娟吕惠宾陈正豪何萌刘知韵杨国桢
申请(专利权)人:中国科学院物理研究所
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]

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