【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统,包括真空室(14),由机械泵、分子泵和管路组成的真空机组(10);高压气瓶(11)放置在真空室(14)外,通过真空室壁上的针阀与真空室(14)连通组成充气系统;真空室中安装靶组件(13)和基片加热器(7),控制电源(8)与基片加热器(7)连接组成加热控温部分;准分子脉冲激光器(1)放置在真空室(14)外,其产生的脉冲激光经过聚焦透镜(2)聚焦后,经光束扫描镜反射,通过石英玻璃窗口(5)照射到靶材上;其特征在于:所述的真空室(14)设置成侧壁有一凸出腔(15),在该凸出腔(15)内安装所述的靶组件(13)和所述的基片加热器(7);所述的石英玻璃窗口(5)设置在凸出腔(15)上方;还包括一套电磁铁组件,该组件的电磁铁线圈(17)放置在真空室凸出腔(15)外侧,两铁芯(16)的两磁极通过密封法兰环(20),接到真空室内的基片加热器(7)的两侧,电磁铁(4)通过控制电源(18)和计算机相连;基片加热器(7)和靶组件(13)与电磁铁的铁芯(16)非接触。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:宁廷银,周岳亮,赵嵩卿,王淑芳,韩鹏,程波林,金奎娟,吕惠宾,陈正豪,何萌,刘知韵,杨国桢,
申请(专利权)人:中国科学院物理研究所,
类型:发明
国别省市:11[中国|北京]
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