一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统技术方案

本发明专利技术涉及一种具有可控磁场的脉冲激光沉积系统，该系统为在传统ＰＬＤ设备基础上加一套外加强磁场装置，包括：所述的真空室设置成侧壁有一凸出腔，在该凸出腔内安装所述的靶组件和所述的基片加热器；所述的石英玻璃窗口设置在凸出腔上方；还包括一套电磁铁组件，该组件的电磁铁线圈放置在真空室凸出腔外侧，两铁芯磁极通过密封法兰环接到腔内基片加热器的两侧，电磁铁通过控制电源和计算机相连；基片加热器和靶组件与电磁铁的铁芯非接触。本发明专利技术装置结构简单，易操作。能容易的在薄膜生长或退火过程中外加可控强磁场，实现传统ＰＬＤ所不能生长的薄膜。为制备研究新型特殊结构的薄膜样品提供了有效的实验装置。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种具有可控磁场的脉冲激光沉积制膜系统，包括真空室（１４），由机械泵、分子泵和管路组成的真空机组（１０）；高压气瓶（１１）放置在真空室（１４）外，通过真空室壁上的针阀与真空室（１４）连通组成充气系统；真空室中安装靶组件（１３）和基片加热器（７），控制电源（８）与基片加热器（７）连接组成加热控温部分；准分子脉冲激光器（１）放置在真空室（１４）外，其产生的脉冲激光经过聚焦透镜（２）聚焦后，经光束扫描镜反射，通过石英玻璃窗口（５）照射到靶材上；其特征在于：所述的真空室（１４）设置成侧壁有一凸出腔（１５），在该凸出腔（１５）内安装所述的靶组件（１３）和所述的基片加热器（７）；所述的石英玻璃窗口（５）设置在凸出腔（１５）上方；还包括一套电磁铁组件，该组件的电磁铁线圈（１７）放置在真空室凸出腔（１５）外侧，两铁芯（１６）的两磁极通过密封法兰环（２０），接到真空室内的基片加热器（７）的两侧，电磁铁（４）通过控制电源（１８）和计算机相连；基片加热器（７）和靶组件（１３）与电磁铁的铁芯（１６）非接触。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：宁廷银，周岳亮，赵嵩卿，王淑芳，韩鹏，程波林，金奎娟，吕惠宾，陈正豪，何萌，刘知韵，杨国桢，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]