一种半导体有机清洗设备的供水系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种半导体有机清洗设备的供水系统，其结构包括供水器、机身、工作台、清洗槽、显示器、指示灯、数据器、开关钮、散热网、过滤器，所述机身为长方体结构，高为200cm，长为190cm，宽为50cm，所述机身与供水器采用过盈配合方式活动连接，且供水器为长方体结构，所述机身与工作台采用过盈配合方式活动连接，且工作台为长方体结构。本实用新型专利技术一种半导体有机清洗设备的供水系统，设有过滤器，在向清洗设备供水时，通过过滤器中的吸附层配合过滤层，吸附过滤供水器中的有害杂质，避免使有害杂质污染到清洗的物品导致物品不能安全使用，从而确保了清洗后的物品能正常使用。

A water supply system for semiconductor organic cleaning equipment

The utility model discloses a water supply system for a semiconductor organic cleaning equipment. The structure comprises a water supply device, a fuselage, a worktable, a cleaning tank, a display, a indicator lamp, a data device, a switch knob, a heat dissipation net and a filter. The body is a rectangular structure with a height of 200cm, a length of 190cm and a wide 50cm. The water device is connected by the interference fit mode, and the water supply is a rectangular structure. The fuselage and the worktable are connected with the interference fit mode, and the worktable is a rectangular structure. The utility model is provided with a water supply system for a semiconductor organic cleaning equipment, which is provided with an adsorbent layer in the filter to filter the harmful impurities in the water supply when supplying water to the cleaning equipment, so as to avoid contaminating the harmful impurities to the cleaned articles and thus ensuring that the articles can not be safely used, thus ensuring that the articles can not be safely used. After cleaning, the articles can be used normally.

【技术实现步骤摘要】
一种半导体有机清洗设备的供水系统
本技术是一种半导体有机清洗设备的供水系统，属于清洗设备领域。
技术介绍
清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为：超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等；其中应用领域最广泛的当属喷淋清洗和超声波清洗；在工业生产及电子产品的生产过程中，随着对产品部件表面清洁度的提高，超声波精密清洗方式正越来越多的人们所关注和认可。现有技术公开了申请号为：CN201120384348.7的一种半导体有机清洗设备的供水系统，该供水系统的组成包括用于回收清洗废水的加热水箱，与加热水箱排放管相连的清洗泵，以及从清洗泵连至工艺腔的出水管路，其中加热水箱中设有与其中贮水直接接触的电磁加热系统，且加热水箱中设有测量范围高于60℃的水温采集装置。通过自动阶梯式的电磁加热保持水质，并且该加热水箱还一个多套系统共用。应用本技术的技术方案，可以在满足半导体清洗所用超纯水要求下，省却传统系统的多个过滤器及电阻率测量装置，从而节省了可观的加工成本，大大增加了设备正常运行的时间。但是其不足之处在于供水器内的水不够纯净，容易污染到清洗的物品导致物品不能安全使用。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术目的是提供一种半导体有机清洗设备的供水系统，以解决上述设备供水器内的水不够纯净，容易污染到清洗的物品导致物品不能安全使用的问题。为了实现上述目的，本技术是通过如下的技术方案来实现：一种半导体有机清洗设备的供水系统，其结构包括供水器、机身、工作台、清洗槽、显示器、指示灯、数据器、开关钮、散热网、过滤器，所述机身为长方体结构，高为200cm，长为190cm，宽为50cm，所述机身与供水器采用过盈配合方式活动连接，且供水器为长方体结构，所述机身与工作台采用过盈配合方式活动连接，且工作台为长方体结构，所述工作台上设有清洗槽，清洗槽为内凹槽长方体结构，共设有两个且等边大小一致，所述机身与显示器采用过盈配合方式活动连接，且显示器为长方体结构，高为5cm，长为10cm，宽为3cm，所述机2上设有指示灯，指示灯为圆形，半径为0.5cm，共设有四个且等边大小一致，所述机身与数据器采用过盈配合方式活动连接，且数据器为长方体结构，所述机身上设有开关钮，且开关钮为圆形，半径为1cm，所述机身与散热网采用过盈配合方式活动连接，且散热网为长方体网状结构，所述供水器与过滤器采用过盈配合方式活动连接，且过滤器为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm；所述过滤器由进水口、过滤层、筒身、电机、顶盖、出水口、吸附层、排污口、支架组成，所述筒身为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm，所述筒身贯穿连接进水口，且进水口为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身内设有过滤层,且过滤层为长方体网状结构，所述筒身顶盖焊接顶盖，且顶盖为圆形，所述顶盖与电机采用过盈配合方式活动连接，且电机为长方体结构，所述筒身右侧面贯穿连接出水口，且出水口为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身内设有吸附层，且吸附层为长方体网状结构，所述筒身底部贯穿连接排污口，且排污口为L型构造，所述筒身底部焊接支架，且支架为长方体结构。进一步地，所述供水器通过机身连接工作台。进一步地，所述机身通过工作台连接清洗槽。进一步地，所述显示器通过机身连接指示灯。进一步地，所述供水器上方设有清洗槽。进一步地，所述开关钮通过机身连接数据器。进一步地，所述过滤器具有过滤功能。有益效果本技术一种半导体有机清洗设备的供水系统，设有过滤器，在向清洗设备供水时，通过过滤器中的吸附层配合过滤层，吸附过滤供水器中的有害杂质，避免使有害杂质污染到清洗的物品导致物品不能安全使用，从而确保了清洗后的物品能正常使用。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本技术一种半导体有机清洗设备的供水系统的结构示意图；图2为本技术的过滤器示意图；图3为本技术一种半导体有机清洗设备的供水系统的清洗槽示意图。图中：供水器-1、机身-2、工作台-3、清洗槽-4、显示器-5、指示灯-6、数据器-7、开关钮-8、散热网-9、过滤器-10、进水口-101、过滤层-102、筒身-103、电机-104、顶盖-105、出水口-106、吸附层-107、排污口-108、支架-109。具体实施方式为使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本技术。请参阅图1-图3，本技术提供一种技术方案：一种半导体有机清洗设备的供水系统，其结构包括供水器1、机身2、工作台3、清洗槽4、显示器5、指示灯6、数据器7、开关钮8、散热网9、过滤器10，所述机身2为长方体结构，高为200cm，长为190cm，宽为50cm，所述机身2与供水器1采用过盈配合方式活动连接，且供水器1为长方体结构，所述机身2与工作台3采用过盈配合方式活动连接，且工作台3为长方体结构，所述工作台3上设有清洗槽4，清洗槽4为内凹槽长方体结构，共设有两个且等边大小一致，所述机身2与显示器5采用过盈配合方式活动连接，且显示器5为长方体结构，高为5cm，长为10cm，宽为3cm，所述机身2上设有指示灯6，指示灯6为圆形，半径为0.5cm，共设有四个且等边大小一致，所述机身2与数据器7采用过盈配合方式活动连接，且数据器7为长方体结构，所述机身2上设有开关钮8，且开关钮8为圆形，半径为1cm，所述机身2与散热网9采用过盈配合方式活动连接，且散热网9为长方体网状结构，所述供水器1与过滤器10采用过盈配合方式活动连接，且过滤器10为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm；所述过滤器10由进水口101、过滤层102、筒身103、电机104、顶盖105、出水口106、吸附层107、排污口108、支架109组成，所述筒身103为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm，所述筒身103贯穿连接进水口101，且进水口101为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身103内设有过滤层102,且过滤层102为长方体网状结构，所述筒身103顶盖焊接顶盖105，且顶盖105为圆形，所述顶盖105与电机104采用过盈配合方式活动连接，且电机104为长方体结构，所述筒身103右侧面贯穿连接出水口106，且出水口106为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身103内设有吸附层107，且吸附层107为长方体网状结构，所述筒身103底部贯穿连接排污口108，且排污口108为L型构造，所述筒身103底部焊接支架109，且支架109为长方体结构。本专利所说的过滤层102具有过滤功能，所述吸附层107具有吸附功能。在进行使用时，首先采用供水器1连接过滤器10，过滤层102具有过滤功能，吸附层107具有吸附功能，在向清洗设备供水时，通过过滤器10中的吸附层107配合过滤层102，吸附过滤供水器中的有害杂质，避免使有害杂质污染到清洗的物品导致物品不能安全使用，从而确保了清洗后的物品能正常使用。本技术的供水器1、机身2、工作台3、清洗槽4、显示器5、指示灯6、数据器7、开关钮8、散热网9、过滤器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体有机清洗设备的供水系统，其结构包括供水器(1)、机身(2)、工作台(3)、清洗槽(4)、显示器(5)、指示灯(6)、数据器(7)、开关钮(8)、散热网(9)、过滤器(10)，所述机身(2)为长方体结构，高为200cm，长为190cm，宽为50cm，所述机身(2)与供水器(1)采用过盈配合方式活动连接，且供水器(1)为长方体结构，所述机身(2)与工作台(3)采用过盈配合方式活动连接，且工作台(3)为长方体结构，其特征在于：所述工作台(3)上设有清洗槽(4)，清洗槽(4)为内凹槽长方体结构，共设有两个且等边大小一致，所述机身(2)与显示器(5)采用过盈配合方式活动连接，且显示器(5)为长方体结构，高为5cm，长为10cm，宽为3cm，所述机身(2)上设有指示灯(6)，指示灯(6)为圆形，半径为0.5cm，共设有四个且等边大小一致，所述机身(2)与数据器(7)采用过盈配合方式活动连接，且数据器(7)为长方体结构，所述机身(2)上设有开关钮(8)，且开关钮(8)为圆形，半径为1cm，所述机身(2)与散热网(9)采用过盈配合方式活动连接，且散热网(9)为长方体网状结构，所述供水器(1)与过滤器(10)采用过盈配合方式活动连接，且过滤器(10)为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm；所述过滤器(10)由进水口(101)、过滤层(102)、筒身(103)、电机(104)、顶盖(105)、出水口(106)、吸附层(107)、排污口(108)、支架(109)组成，所述筒身(103)为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm，所述筒身(103)贯穿连接进水口(101)，且进水口(101)为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身(103)内设有过滤层(102),且过滤层(102)为长方体网状结构，所述筒身(103)顶盖焊接顶盖(105)，且顶盖(105)为圆形，所述顶盖(105)与电机(104)采用过盈配合方式活动连接，且电机(104)为长方体结构，所述筒身(103)右侧面贯穿连接出水口(106)，且出水口(106)为圆柱体结构，半径为5cm，所述筒身(103)内设有吸附层(107)，且吸附层(107)为长方体网状结构，所述筒身(103)底部贯穿连接排污口(108)，且排污口(108)为L型构造，所述筒身(103)底部焊接支架(109)，且支架(109)为长方体结构。...

【技术特征摘要】
1.一种半导体有机清洗设备的供水系统，其结构包括供水器(1)、机身(2)、工作台(3)、清洗槽(4)、显示器(5)、指示灯(6)、数据器(7)、开关钮(8)、散热网(9)、过滤器(10)，所述机身(2)为长方体结构，高为200cm，长为190cm，宽为50cm，所述机身(2)与供水器(1)采用过盈配合方式活动连接，且供水器(1)为长方体结构，所述机身(2)与工作台(3)采用过盈配合方式活动连接，且工作台(3)为长方体结构，其特征在于：所述工作台(3)上设有清洗槽(4)，清洗槽(4)为内凹槽长方体结构，共设有两个且等边大小一致，所述机身(2)与显示器(5)采用过盈配合方式活动连接，且显示器(5)为长方体结构，高为5cm，长为10cm，宽为3cm，所述机身(2)上设有指示灯(6)，指示灯(6)为圆形，半径为0.5cm，共设有四个且等边大小一致，所述机身(2)与数据器(7)采用过盈配合方式活动连接，且数据器(7)为长方体结构，所述机身(2)上设有开关钮(8)，且开关钮(8)为圆形，半径为1cm，所述机身(2)与散热网(9)采用过盈配合方式活动连接，且散热网(9)为长方体网状结构，所述供水器(1)与过滤器(10)采用过盈配合方式活动连接，且过滤器(10)为圆柱体结构，高为70cm，半径为14cm；所述过滤器(10)由进水口(101)、过滤层(102)、筒身(103)、电机(104)、顶盖(105)、出水口(106)、吸附层(107)、排污口(108)、支架(109)组成，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱晓平，
申请(专利权)人：嘉兴博硕自动化设备有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33