衰减设备和方法技术

用于调节辐射的强度的设备(60)。所述设备包括光栅(61)，所述光栅用于接收辐射束(Ba)并用于将所述辐射束的至少一部分沿第一方向以第一反射辐射束(Ba0)的形式引导；以及一个或更多个第一致动器，所述致动器可操作以旋转所述光栅，用于调节所述辐射束和所述光栅的表面之间的掠射角，从而改变所述反射辐射束的强度。

Attenuation equipment and methods

A device (60) used to regulate the intensity of radiation. The device includes a grating (61) for receiving a radiation beam (Ba) and used to guide at least one part of the radiation beam in the first direction in the form of a first reflected radiation beam (Ba0), and one or more first actuators, the actuator can operate to rotate the grating, for adjusting the beam and the radiation beam. The glancing angle between the surfaces of the grating is described, thereby changing the intensity of the reflected radiation beam.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】衰减设备和方法相关申请的交叉引用本申请要求于2015年9月3日提交的欧洲申请EP15183681.4的优先权，其通过引用全文纳入本文中。
本专利技术涉及一种衰减设备，尤其涉及但不排他性地适合用于衰减激光EUV辐射束，所述激光EUV辐射束由用于光刻系统中的自由电子激光器产生。
技术介绍
光刻设备是被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案从图案形成装置(例如掩模)投影到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。光刻设备用于将图案投影到衬底上的辐射的波长决定了可以在该衬底上所形成的特征的最小尺寸。使用EUV辐射(为具有5-20nm范围内的波长的电磁辐射)的光刻设备与常规光刻设备(其可以例如使用具有193nm的波长的电磁辐射)相比可以用于在衬底上形成更小的特征。希望生产具有提高的功率的EUV辐射源，以提高EUV光刻术的生产量。然而，一些EUV辐射源的使用可生成这样的辐射：它的功率超出可在衬底处有效使用的功率。因此也希望生产可在衬底处有效使用的EUV辐射。本专利技术的至少一个实施例的目的是避免或者缓解上述问题中的至少一个问题。
技术实现思路
根据本文中所述的第一方面，提供一种用于调节辐射(例如光刻过程中使用的辐射)的强度的设备。所述设备包括光栅，所述光栅用于接收辐射束并用于将所述辐射束的至少一部分沿第一方向以第一反射辐射束的形式引导。所述设备还包括一个或者更多个第一致动器，所述一个或更多个第一致动器被布置成调节光栅的方向，从而改变反射辐射束的强度。以这种方式，可以通过对光栅的方向的调节使辐射束衰减，光栅的使用(而不是其他光学部件例如反射镜)使得在进行辐射束的强度改变所需的调节幅度方面以及冷却要求方面可以实现特别有效的衰减。辐射束可以包括EUV辐射。所述一个或更多个第一致动器可以能够操作以旋转光栅，从而调节辐射束和光栅表面之间的掠射角。在一些实施例中，光栅可以仅仅要求特别低幅度的调整。致动器因此可以能够操作移动，以将光栅调整过小于1度的角度。所述一个或更多个第一致动器可以能够操作，以围绕光栅表面的法线旋转所述光栅，从而改变所述光栅的一个或更多个沟槽和所述第一辐射束的入射面之间的角度。所述光栅可以能够操作以引导至少一个衍射辐射束离开所述第一方向。例如，所述设备可以包括一个或者更多个束流收集器，所述束流收集器被布置成接收一个或更多个衍射辐射束并消散其中的能量。所述设备还可以包括反射式光学装置，所述反射式光学装置能够操作以接收反射辐射束并将所述反射辐射束的至少一部分沿第二方向以第二反射辐射束引导。所述设备还可以包括一个或更多个第二致动器，所述一个或更多个第二致动器被布置成调节反射式光学装置的方向，以改变第二反射辐射束的强度。反射式光学装置可以是反射镜，或者可以是第二光栅。在其他实施例中，反射式光学装置可以能够操作，以接收第三辐射束并将所述第三辐射束的至少一部分向所述光栅引导。例如，由光栅接收的第一辐射束可以包括从反射式光学装置反射的第三辐射束的一部分。所述一个或更多个第二致动器可以能够操作以旋转反射式光学装置，从而调节辐射束和反射式光学装置的表面之间的掠射角。所述一个或者更多个第二致动器可以能够操作，以将所述反射式光学装置旋转过小于1度的角度。在所述反射式光学装置是光栅的情况下，所述一个或者更多个第二致动器可以能够操作，以围绕所述反射式光学装置的表面的法线旋转所述反射式光学装置，从而改变所述反射式光学装置的一个或更多个沟槽和所述第二反射辐射束的入射面之间的角度。所述反射式光学装置可以能够操作以引导一个或更多个衍射辐射束离开所述第二方向，例如向着一个或者更多个束流收集器。所述一个或者更多个第一致动器可以能够操作以平移所述光栅，使得从衰减设备以固定的位置和方向引出经衰减的辐射束。所述一个或更多个第二致动器可以能够操作以平移所述反射式光学装置，使得从衰减设备以固定的位置和方向引出经衰减的辐射束。例如，所述一个或者更多个致动器可以能够操作，以将所述光栅和所述反射式光学装置的任一个或者两者在所述辐射束的传播方向上平移。以这种方式，离开衰减设备的经衰减的辐射束可以具有固定的位置和方向。所述反射镜可以在所述第一辐射束的传播方向上具有这样的范围：它使得所述第一反射辐射束对于所述光栅的所有的预定方向范围入射到所述反射式光学装置的反射面上。所述设备还可以包括控制器，所述控制器被布置成控制所述一个或更多个第一致动器，以调整所述光栅的方向。所述控制器可以被布置成从传感器接收辐射强度的指示并响应于所述指示的接收而控制所述一个或者更多个第一致动器。例如，辐射强度的所述指示可以在晶片在光刻设备中的曝光过程中被接收。辐射强度的所述指示可以包括强度值，或者可以包括相对指示，例如“更大”或者“更小”。根据另一方面，提供一种光刻系统，所述光刻系统包括：辐射源，所述辐射源能够操作以产生第一辐射束；根据第一方面的衰减设备，所述衰减设备被布置成接收第一辐射束，所述第一辐射束包括主辐射束的至少一部分；以及至少一个光刻设备，所述至少一个光刻设备被布置成从所述衰减设备接收经衰减的辐射束。所述光刻系统可以进一步包括辐射束分束设备，所述辐射束分束设备被布置成接收主辐射束并输出至少一个分支辐射束。所述第一辐射束可以包括所述至少一个分支辐射束的至少一部分。所述辐射束分束设备可以被布置成输出多个分支辐射束。所述光刻系统可以包括用于所述多个分支辐射束中的每一个分支辐射束的相应衰减设备，每个衰减设备被布置成接收所述多个分支辐射束中的相应一个分支辐射束。所述辐射源可以包括一个或者更多个自由电子激光器。所述至少一个光刻设备可以包括一个或者更多个掩模检查设备。应当理解，本专利技术的方面可以按照任何适宜的方式实施，包括通过合适的硬件和/或软件的方式。可替代地，可以将可编程设备编程以实施本专利技术的实施例。因此，本专利技术也提供用于实施本专利技术的方面的合适的计算机程序。这样的计算机程序可以承载在合适的载体介质上，包括有形的载体介质(例如硬盘、CDROM等)以及无形的载体介质例如通讯信号。本专利技术的一个或者更多个方面可以与本文中所述的任何一个或者更多个其他方面结合，和/或与以上或者以下的说明书中说明的任何一个或者更多个特征结合。附图说明现在参照示意性附图仅通过举例的方式描述本专利技术的实施例，其中：图1描绘一种光刻系统，所述光刻系统包括根据本专利技术一实施例的衰减设备；图2描绘一种光刻设备，所述光刻设备形成图1的光刻系统的部分；图3是所提出的利用可调整反射镜的动态衰减器的示意图；图4是所提出的利用充气腔的静态衰减器的示意图；图5是包括多个衰减器的衰减设备的示意图；图6a、6b是包括多个反射式光栅的衰减器的示意图；图7、8是可能的光栅的示意图；图9a、9b是对于各个光栅构造描绘零阶反射率随着入射角度变化的曲线图；图10a、10b是包括单个光栅的衰减器的示意图；图11是描绘零阶反射率随着方位角变化的曲线图；图12是包括光栅和反射镜的衰减器的示意图。具体实施方式图1显示一种光刻系统LS，所述光刻系统包括根据本文中所述的示例性布置的一个或更多个衰减设备15a-15n。光刻系统LS进一步包括辐射源SO和多个光刻设备LAa-LAn。辐射源SO被配置成产生极紫外本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于调节辐射的强度的设备，包括：光栅，所述光栅用于接收辐射束并用于对所述辐射束的至少一部分沿第一方向以第一反射辐射束的形式引导；和一个或更多个第一致动器，所述一个或更多个第一致动器能够操作以旋转所述光栅，来调节所述辐射束和所述光栅的表面之间的掠射角，从而改变所述反射辐射束的强度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.09.03 EP 15183681.41.一种用于调节辐射的强度的设备，包括：光栅，所述光栅用于接收辐射束并用于对所述辐射束的至少一部分沿第一方向以第一反射辐射束的形式引导；和一个或更多个第一致动器，所述一个或更多个第一致动器能够操作以旋转所述光栅，来调节所述辐射束和所述光栅的表面之间的掠射角，从而改变所述反射辐射束的强度。2.根据权利要求1所述的设备，其中所述一个或更多个第一致动器能够操作，以将所述光栅旋转过小于1度的角度。3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述一个或更多个致动器能够操作，以围绕所述光栅的表面的法线旋转所述光栅，从而改变所述光栅的一个或更多个沟槽和所述第一辐射束的入射面之间的角度。4.根据前述任一权利要求所述的设备，其中所述光栅能够操作以引导至少一个衍射辐射束离开所述第一方向。5.根据前述任一权利要求所述的设备，还包括反射式光学装置，所述反射式光学装置能够操作以接收所述反射辐射束并将所述反射辐射束的至少一部分沿第二方向以第二反射辐射束引导；以及一个或更多个第二致动器，所述一个或更多个第二致动器被布置成调节所述反射式光学装置的方向，从而改变所述第二反射辐射束的强度。6.根据权利要求5所述的设备，其中所述反射式光学装置包括第二光栅。7.根据前述任一权利要求所述的设备，其中所述一个或更多个第一致动器能够操作以平移所述光栅，使得从衰减设备以固定的位置和方向引出经衰减的辐射束。8.根据权利要求5至7中的任一项所述的设备，其中所述一个或更多个第二致动器能够操作以平移所述反射式光学装置，使得从衰减设备以固定的位置和方向引出经衰减的辐射束。9.根据权利要求5以及任...

【专利技术属性】
技术研发人员：HK·尼恩惠斯，G·C·德弗里斯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL