阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机，其中，阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。本实用新型专利技术阴极弧靶装置密封性好、不发生真空泄漏、维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用。

Cathode arc target device and vacuum multi arc ion plating machine

The utility model discloses a cathode arc target device and a vacuum multi arc ion plating machine, in which the cathode arc target device consists of an arc target body, a target material, an arc drawing system, a sliding rod, a sliding seal mechanism and a sliding cylinder. The target material is mounted on one side of the arc target body, and the sliding rod is slidably installed at one end of the arc target body. The sliding cylinder is connected with a sliding rod and is driven by a sliding rod to drive an arc drawing system near or away from the target. The sliding seal mechanism is set outside the sliding rod for a vacuum seal, and the sliding seal mechanism includes a bellows and a bellows frame, and the corrugated tube frame is installed on the arc target body, and the body is installed on the arc target body. The two ends of the bellows are welded on the bellows. The cathode arc target device of the utility model has the advantages of good sealing performance, no vacuum leakage, easy maintenance, long service life, simple structure, reliability and practicality.

【技术实现步骤摘要】
阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机
本技术涉及真空镀膜设备
，特别涉及一种阴极弧靶装置及真空多弧离子镀膜机。
技术介绍
真空多弧离子镀膜机作为真空涂层的生产设备，当前已经被广泛应用到工业化生产中，阴极弧靶作为镀膜机的核心部件，其稳定性和可靠性直接关系到整个生产系统的稳定性以及产品质量的稳定性。阴极弧靶装置中，驱动引弧部分的滑动真空密封基本上均采用传统的油封密封或O形橡胶圈密封，此种密封的结构比较复杂、维护周期短、密封材料的材质要求高、机械加工精度要求较高。即使这样，引弧部分的滑动真空密封部分时常还会因为种种原因产生真空泄漏，严重影响到生产的稳定性和产品质量的可靠性。除此之外，在现在真空多弧离子镀膜机中，还存在抽真空效率慢、真空度难以保证的问题。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是根据上述现有技术的不足，提供一种密封性好、不发生真空泄漏、维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用的阴极弧靶装置；为此本技术还要提供一种采用该阴极弧靶装置的真空多弧离子镀膜机。为解决上述第一个技术问题，本技术的技术方案是：一种阴极弧靶装置，包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。为解决上述第二个技术问题，本技术的技术方案是：一种真空多弧离子镀膜机，包括：真空多弧离子镀膜系统，包括真空镀膜室及真空镀膜室内的阴极弧靶装置和工件架，在真空多弧离子镀膜系统启动之后，阴极弧靶装置的靶材表面产生电弧，发射金属蒸气，金属蒸气中的原子电离成正离子，正离子在真空镀膜室内运行时与反应气体离子结合，沉积在工件架的工件表面形成薄膜；所述阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上；抽真空系统，包括第一旋片泵、罗茨泵和分子泵；所述第一旋片泵用于对真空镀膜室进行一级抽真空，第一旋片泵的进气口连通罗茨泵的出气口；所述罗茨泵用于对真空镀膜室进行二级抽真空，罗茨泵的进气口连通分子泵的出气口；所述分子泵用于对真空镀膜室进行三级抽真空，分子泵的进气口连通真空镀膜室的出气口；控制系统，用于控制真空多弧离子镀膜系统及抽真空系统的工作运转。优选地，所述真空镀膜室设有真空室门，真空室门通过铰链安装在真空镀膜室一侧，真空室门上设置有观察窗及把手。优选地，所述阴极弧靶装置包括圆柱磁控靶装置和/或平面磁控靶装置。优选地，所述真空镀膜室设有若干加热器，用于镀膜时对真空镀膜室加热。优选地，所述抽真空系统还包括第二旋片泵，所述第二旋片泵用于为分子泵提供真空工作环境，所述分子泵设置有三组。优选地，所述分子泵与真空镀膜室之间设置有截流阀。优选地，所述真空多弧离子镀膜机还包括水冷系统，用于对真空多弧离子镀膜系统及抽真空系统进行散热降温。本技术的有益效果是：本技术阴极弧靶装置的驱动引弧部分的滑动真空密封采用焊接波纹管密封方式，取代原有油封和O形圈密封方式，很好地解决了原来的真空泄漏和维护频繁的问题，与此同时，该密封机构维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用。本技术真空多弧离子镀膜机采用第一旋片泵、罗茨泵和分子泵三级抽真空系统，抽真空效率高、真空度容易保证。附图说明图1为本技术阴极弧靶装置的纵剖视结构示意图。图2为本技术真空多弧离子镀膜机的整体结构示意图。图3为本技术真空多弧离子镀膜机的俯视结构透视图。图中：100.阴极弧靶装置；1.弧靶体；2.靶材；3.引弧系统；4.滑动杆；5.滑动密封机构；51.波纹管；52.波纹管架体；6.滑动气缸；7.真空镀膜室；8.工件架；9.第一旋片泵；10.罗茨泵；11.分子泵；12.气控阀组；13.真空室门；14.铰链；15.观察窗；16.把手；17.圆柱磁控靶装置；18.平面磁控靶装置；19.加热器；21.第二旋片泵；22.截流阀；23.水路；24.气路接头；25.真空测试接头；26.启动电磁阀；27.第一机架；28.第二机架。具体实施方式下面结合附图对本技术的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，一种阴极弧靶装置，包括弧靶体1、靶材2、引弧系统3、滑动杆4、滑动密封机构5及滑动气缸6；所述靶材2安装于弧靶体1一侧，所述滑动杆4可滑动地安装于弧靶体1一端，所述滑动气缸6与滑动杆4相连接，并通过滑动杆4带动引弧系统3靠近或远离靶材2；所述滑动密封机构5设置于滑动杆4之外，用于对滑动杆4进行真空密封；所述滑动密封机构5包括波纹管51及波纹管架体52，所述波纹管架体52安装于弧靶体1上，所述波纹管51的两端焊接于波纹管架体52上。本技术阴极弧靶装置的驱动引弧部分的滑动真空密封采用焊接波纹管密封方式，取代原有油封和O形圈密封方式，很好地解决了原来的真空泄漏和维护频繁的问题，与此同时，该密封机构维护容易、寿命长、结构简单、可靠实用。以下为本专利技术阴极弧靶装置与现有技术的对照表：现有技术阴极弧靶装置本专利技术阴极弧靶装置密封方式油封或O形橡胶圈密封焊接式波纹管密封制造成本成本较低成本增加10％∼20％（波纹管成本高）加工精度要求整套结构精度要求高，难加工整套结构精度要求低，易加工泄漏故障率故障率高基本无故障维护周期至少每月维护一次无需维护使用寿命半年（工作5000次左右）必须更换密封材料工作100000次以上，寿命提高20倍如图2和图3所示，并结合图1，一种真空多弧离子镀膜机，包括：真空多弧离子镀膜系统，包括真空镀膜室7及真空镀膜室7内的阴极弧靶装置100和工件架8，在真空多弧离子镀膜系统启动之后，阴极弧靶装置100的靶材2表面产生电弧，发射金属蒸气，金属蒸气中的原子电离成正离子，正离子在真空镀膜室7内运行时与反应气体离子（例如氩离子）结合，沉积在工件架8的工件（图中未示出）表面形成薄膜；所述反应气体从真空镀膜室7的气路接头24处进入；所述阴极弧靶装置100包括弧靶体1、靶材2、引弧系统3、滑动杆4、滑动密封机构5及滑动气缸6；所述靶材2安装于弧靶体1一侧，所述滑动杆4可滑动地安装于弧靶体1一端，所述滑动气缸6与滑动杆4相连接，并通过滑动杆4带动引弧系统3靠近或远离靶材2；所述滑动密封机构5设置于滑动杆4之外，用于对滑动杆4进行真空密封；所述滑动密封机构5包括波纹管51及波纹管架体52，所述波纹管架体52安装于弧靶体1上，所述波纹管51的两端焊接于波纹管架体52上；抽真空系统，包括第一旋片泵9、罗茨泵10和分子泵11；所述第一旋片泵9用于对真空镀膜室7进行一级抽真空，第一旋片泵9的进气口连通罗茨泵10的出气口；所述罗茨泵10用于对真空镀膜室7进行二级抽真空，罗茨泵10的进气本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阴极弧靶装置，其特征在于：包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。

【技术特征摘要】
1.一种阴极弧靶装置，其特征在于：包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上。2.一种真空多弧离子镀膜机，其特征在于，包括：真空多弧离子镀膜系统，包括真空镀膜室及真空镀膜室内的阴极弧靶装置和工件架，在真空多弧离子镀膜系统启动之后，阴极弧靶装置的靶材表面产生电弧，发射金属蒸气，金属蒸气中的原子电离成正离子，正离子在真空镀膜室内运行时与反应气体离子结合，沉积在工件架的工件表面形成薄膜；所述阴极弧靶装置包括弧靶体、靶材、引弧系统、滑动杆、滑动密封机构及滑动气缸；所述靶材安装于弧靶体一侧，所述滑动杆可滑动地安装于弧靶体一端，所述滑动气缸与滑动杆相连接，并通过滑动杆带动引弧系统靠近或远离靶材；所述滑动密封机构设置于滑动杆之外，用于对滑动杆进行真空密封；所述滑动密封机构包括波纹管及波纹管架体，所述波纹管架体安装于弧靶体上，所述波纹管的两端焊接于波纹管架体上；抽真空系统，包括第一旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军红，车少锋，郑卫民，王珍，
申请(专利权)人：东莞市典雅五金制品有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44