二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法，包括依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；含浸槽内设置有含浸滚轮组,含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。藉此，玻璃布经过了溶剂预浸槽的第一次预浸处理后再经过稀胶预浸槽的第二次预浸处理，最后进入含浸槽，从而使含浸效果达到最佳，本发明专利技术具有可实现性难度低，成本低的特点。

Two prepreg type prepreg immersing device and its immersion method

The invention discloses a two prepreg semi - solidified sheet immersion device and a leaching method, including a solvent prepreg tank, a dilute prepreg groove and a soaking tank which are arranged in sequence according to the transmission order of the workpiece; the solvent prepreg is arranged in the solvent prepreg tank, and the rotating square of the solvent prepreg roller is consistent with the direction of the workpiece; A prepreg roller is arranged in the groove. The rotation direction of the dilute gum prepreg roller is opposite to the forward direction of the workpiece; the immersion tank is arranged in a immersion wheel group. The immersion roller group includes a first sinking immersion roller, an exposed dipping roller and a two sinking dip roller, and the height of the exposed immersion roller is higher than the first sinking roller, Second the height of the immersion roller. Therefore, the glass cloth is prepreg after the first prepreg of the solvent prepreg trough, and then after second prepreg prepreg treatment of the dilute gum prepreg trough, and finally into the immersion tank, thus making the leaching effect best, and the invention has the characteristics of low realization difficulty and low cost.

【技术实现步骤摘要】
二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法
本专利技术涉及覆铜板领域之半固化片生产技术，是一种提高半固化片含浸效果的二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法。
技术介绍
玻璃布是指一种由玻璃纤维丝组成的织物，在覆铜板材料中作增强和绝缘作用。以目前主流覆铜板厂所采用的技术中，玻璃布一般是经传动装置，进入装有树脂胶水的胶槽，表面均匀覆盖胶水后经烤箱烘干后固化形成半固化片。玻璃布是由经向及纬向玻璃纤维束交替编织组成，而每一束纤维束由150～300根直径小于10μm的玻璃丝组成，玻璃布在覆盖胶水时时间短，速度快，很难完全填充玻璃丝之间的间隙，因而出现空泡区域，也称谓含浸不良。电子行业技术发展至今天，电路板的线路设计要求越来越细，线间距、孔间距设计越来越小，使得对线路板材料的绝缘性能要求越来越高，如何提高绝缘性是各厂商面临的主要问题，而保证绝缘性的前提是半固化片生产工艺中如何避免含浸不良的发生，保证浸透性达到最佳；目前所使用的主要方向有：调整树脂配方、增加含浸设备、加深含浸胶槽以及放缓生产线速等，但调整树脂配方的难度很大，耗时长，增加预浸设备必然需要增加空间，设备改动困难，放缓生产速率则会使产量，从而成本增加。因此，需要研究出新的技术方案来解决上述问题。
技术实现思路
鉴于以上，本专利技术可对目前技术存在之不足进行有效改善，其主要目的是提供一种二次预浸式半固化片含浸装置及其含浸方法，其经过了溶剂预浸槽的第一次预浸处理后再经过稀胶预浸槽的第二次预浸处理，最后进入含浸槽，从而使含浸效果达到最佳，本专利技术具有可实现性难度低，成本低的特点。为实现上述目的，本专利技术采用如下之技术方案：一种二次预浸式半固化片含浸装置，包括有依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,所述溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；所述稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,所述稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；所述含浸槽内设置有含浸滚轮组,所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；所述外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。作为一种优先方案，所述第一下沉含浸滚轮设置有一个；所述外露含浸滚轮和第二下沉含浸滚轮的设置数量相等,两者均为一个以上。作为一种优先方案，所述含浸槽的输出侧设置有并排设置的两个挤胶轮。作为一种优先方案，所述溶剂预浸槽与稀胶预浸槽之间设置有第一导向定位滚轮,所述稀胶预浸槽与含浸槽之间设置有第二导向定位滚轮。作为一种优先方案，所述溶剂预浸滚轮所在高度高于稀胶预浸滚轮所在高度。作为一种优先方案，所述第一导向定位滚轮所在高度低于溶剂预浸滚轮所在高度且高于稀胶预浸滚轮所在高度。作为一种优先方案，所述第二导向定位滚轮至少设置有两个；该两个第二导向定位滚轮中,其一第二导向定位滚轮衔接于稀胶预浸滚轮的输出侧,另一第二导向定位滚轮衔接于第一下沉含浸滚轮的输入侧,前述其一第二导向定位滚轮所在高度低于另一第二导向定位滚轮所在高度。一种二次预浸式半固化片含浸方法，其利用前述二次预浸式半固化片含浸装置进行处理；（1）准备步骤：溶剂预浸槽内装满所需要之溶剂，溶剂预浸滚轮部分浸没在溶剂中，部分露出液面上方；在稀胶预浸槽内装有胶液，稀胶预浸滚轮部分浸没在胶液中，部分露出液面上方；含浸槽内第一下沉含浸滚轮完全位于液面下，外露含浸滚轮全部或者部份露出液面，第二下沉含浸滚轮完全位于液面下；（2）工件处理步骤：将工件依次经溶剂预浸滚轮顶部、稀胶预浸滚轮底部、第一下沉含浸滚轮底部、外露含浸滚轮顶部、第二下沉含浸滚轮底部前进输送；在溶剂预浸槽内完成初步浸润，使工件处于湿润状态；在稀胶预浸槽内完成初步含浸，使胶液填充工件间隙，同时赶走工件内部间隙中的气泡；在含浸槽内完成浸胶。作为一种优先方案，所述溶剂预浸滚轮的35-45%体积浸没在溶剂中，剩余65-55%体积露出；稀胶预浸滚轮的35-45%体积浸没在胶液中，剩余65-55%体积露出。作为一种优先方案，所述溶剂预浸槽内装的溶剂为丙酮或丁酮；所述稀胶预浸槽内装的胶液为固含量在30%～40%之间的胶液。本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，由上述技术方案可知，其主要是通过对二次预浸式半固化片含浸装置的设计，在含浸处理时，玻璃布经过了溶剂预浸槽的第一次预浸处理后再经过稀胶预浸槽的第二次预浸处理，最后进入含浸槽，从而使含浸效果达到最佳，本专利技术具有可实现性难度低，成本低的特点。为了能更加清楚地说明本专利技术的结构特征，下面结合附图与具体实施例来对本专利技术进行详细阐述。附图说明图1是本专利技术之实施例大致结构示意图。附图标示说明：10、玻璃布20、溶剂预浸槽21、稀胶预浸槽22、含浸槽30、溶剂预浸滚轮31、第一导向定位滚轮,32：稀胶预浸滚轮33、第二导向定位滚轮34、第二导向定位滚轮35、第二导向定位滚轮36、第一下沉含浸滚轮37、外露含浸滚轮38、第二下沉含浸滚轮39、挤胶轮40、挤胶轮。具体实施方式请参照图1所示，其显示出了本专利技术之实施例的大致结构。一种二次预浸式半固化片含浸装置，包括有依工件（此处工件指玻璃布）传送顺序依次设置的溶剂预浸槽20、稀胶预浸槽21、含浸槽22；所述含浸槽22的输出侧设置有并排设置的两个挤胶轮40。所述溶剂预浸槽20内设置有溶剂预浸滚轮30,所述溶剂预浸滚轮30的转动方向与工件前进方向一致；所述稀胶预浸槽21内设置有稀胶预浸滚轮32,所述稀胶预浸滚轮32的转动方向与工件前进方向相反；所述含浸槽22内设置有含浸滚轮组,所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮36、外露含浸滚轮37及第二下沉含浸滚轮38；所述外露含浸滚轮37所在高度均高于第一下沉含浸滚轮36、第二下沉含浸滚轮38所在高度。通常，所述第一下沉含浸滚轮36设置有一个；所述外露含浸滚轮37和第二下沉含浸滚轮38的设置数量相等,两者均为一个以上。第一下沉含浸滚轮36位于液面以下，外露含浸滚轮37全部或者部份露出液面，第二下沉含浸滚轮38位于液面以下，此轮大小及材质与外露含浸滚轮37一致，其两侧为活动支架，依靠自身重力自然下垂放置在外露含浸滚轮37之上。此实例含浸槽22内设置1根第一下沉含浸滚轮36，1根外露含浸滚轮38和1根第二下沉含浸滚轮38，总共3根，也可以依据实际需要设置5根，7根……，也就说：当所述外露含浸滚轮37和第二下沉含浸滚轮38的设置数量均为2根时，总共则有5根；当所述外露含浸滚轮37和第二下沉含浸滚轮38的设置数量均为3根时，总共则有7根；含浸槽22内滚轮的总根数Z=1+2N（N为大于或等于1的整数）。所述溶剂预浸槽20与稀胶预浸槽21之间设置有第一导向定位滚轮31,所述稀胶预浸槽21与含浸槽22之间设置有第二导向定位滚轮。所述溶剂预浸滚轮30所在高度高于稀胶预浸滚轮32所在高度。所述第一导向定位滚轮31所在高度低于溶剂预浸滚轮30所在高度且高于稀胶预浸滚轮32所在高度。所述第二导向定位滚轮至少设置有两个；该两个第二导向定位滚轮中,其一第二导向定位滚轮衔接于稀胶预浸滚轮的输出侧,另一第二导向定位滚轮衔接于第一下沉含浸滚轮的输入侧,前述其一第二导向定位滚轮所在高度低于另一第二导向定位滚轮所在高度。本实施例中，第二导向定位滚轮本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：包括有依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮, 所述溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；所述稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮, 所述稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；所述含浸槽内设置有含浸滚轮组, 所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；所述外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。

【技术特征摘要】
1.一种二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：包括有依工件传送顺序依次设置的溶剂预浸槽、稀胶预浸槽、含浸槽；所述溶剂预浸槽内设置有溶剂预浸滚轮,所述溶剂预浸滚轮的转动方向与工件前进方向一致；所述稀胶预浸槽内设置有稀胶预浸滚轮,所述稀胶预浸滚轮的转动方向与工件前进方向相反；所述含浸槽内设置有含浸滚轮组,所述含浸滚轮组包括有第一下沉含浸滚轮、外露含浸滚轮及第二下沉含浸滚轮；所述外露含浸滚轮所在高度均高于第一下沉含浸滚轮、第二下沉含浸滚轮所在高度。2.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一下沉含浸滚轮设置有一个；所述外露含浸滚轮和第二下沉含浸滚轮的设置数量相等,两者均为一个以上。3.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述含浸槽的输出侧设置有并排设置的两个挤胶轮。4.根据权利要求1所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸槽与稀胶预浸槽之间设置有第一导向定位滚轮,所述稀胶预浸槽与含浸槽之间设置有第二导向定位滚轮。5.根据权利要求4所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述溶剂预浸滚轮所在高度高于稀胶预浸滚轮所在高度。6.根据权利要求5所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第一导向定位滚轮所在高度低于溶剂预浸滚轮所在高度且高于稀胶预浸滚轮所在高度。7.根据权利要求6所述的二次预浸式半固化片含浸装置，其特征在于：所述第二导向定位滚轮至少设置有两...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯吉成，罗家宝，蒋勇新，杨庆飞，罗孝普，胡俊青，
申请(专利权)人：东莞联茂电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44