一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及等离子表面处理设备技术领域，提供了一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，包括等离子表面处理机、传送带、传送带支撑架、第一保护膜、第二保护膜以及覆膜装置，所述传送带设置在所述传送带支撑架上，所述第一保护膜贴合在所述传送带上表面，所述等离子表面处理机设置在所述传送带中间上方的位置，对通过其下方的产品进行表面处理，所述第二保护膜设置在所述等离子表面处理机右方所述传送带上方，所述覆膜装置设置在所述传送带最右端部。本实用新型专利技术等离子表面处理和覆膜同步进行，只需一个工人即可完成加工，减少了产品二次污染，提高了产品的质量，提高了生产效率，具有结构简单，成本低廉，实用性强，操作方便的特点。

A plasma surface treatment device with film mulching function

The utility model relates to the technical field of plasma surface treatment equipment, providing a plasma surface treatment device with film covering function, including a plasma surface processor, a conveyor belt, a conveyor belt support frame, a first protective film, a second protection film, and a film mulching device. The conveyor belt is arranged on the conveyor belt support frame. The first protection film is fitted to the upper surface of the conveyor belt, the plasma surface processor is positioned above the middle of the conveyor belt, and the surface treatment is carried out through the product below it. The second protection film is set above the transmission belt of the right side of the plasma surface processing machine, the film covering device. It is set at the most right end of the conveyer belt. The plasma surface treatment and film mulching synchronization of the utility model, only one worker can finish processing, reduce the two pollution of the product, improve the quality of the product, improve the production efficiency, and has the characteristics of simple structure, low cost, strong practicality and convenient operation.

【技术实现步骤摘要】
一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置
本技术涉及等离子表面处理设备
，更具体地说，是涉及一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置。
技术介绍
等离子体(Plasma)是一种由自由电子和带电离子为主要成分的物质形态，常被视为是物质的第四态，被称为等离子态，也称“电浆体”。等离子表面处理设备是通过采用电离空气的方式来获得等离子体。其主要由等离子体发生器、喷头、连接线缆等元器件所组成。当接通电源后等离子体发生器内部会产生一个交变电压，此电压通过连接线缆被输送到处理头上，并在喷头内腔形成交变电场，当清洁的压缩空气经过此电场时，被电离成等离子体后吹出，最终形成了可对材料表面进行处理的等离子风。对物体表面进行物理性活化，增加物体表面符着力、亲水性。目前市面上的等离子表面处理机在做玻璃产品反面退镀处理时，等离子机和覆膜机是完全分开工作的，即等离子机只是单独做玻璃类素材反面溢镀问题做表面退镀处理，覆膜机只是单独做玻璃类产品覆膜时所使用的设备。在传统的等离子表面处理过程中，等离子表面处理机前面需要安排一个工人把产品放入托盘中，通过传送带带过托盘过等离子表面处理机。过完等离子后另外安排一个工人把托盘拿起整齐的放入工作台上，同时还要安排一个工人搬运产品，对经过等离子表面处理好的产品进行覆膜。完成以上工作内容复杂繁琐，至少需要3个工人，存在生产效率较低和浪费物料的问题，除此之外，由于经过等离子表面处理机处理好的产品要放置一段时间，同一个产品需要转移多次，导致产品表面灰尘、白点和指印过多，存在产品表面二次污染的问题，造成产品的良率达不到要求。
技术实现思路
针对上述现有技术的不足之处，本技术的目的在于提供一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，使用该等离子表面处理装置，可在等离子表面处理完后，不需要等待直进行覆膜工序，省去了以前的静放时间，提高产品的良率，减少了产品二次污染，同时提高了工作效率。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是：一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，包括等离子表面处理机、传送带、传送带支撑架、第一保护膜、第二保护膜以及覆膜装置，所述传送带设置在所述传送带支撑架上，所述第一保护膜贴合在所述传送带上表面，并随所述传送带传动，所述等离子表面处理机设置在所述传送带中间上方的位置，对通过其下方的产品进行表面处理，所述第二保护膜设置在所述等离子表面处理机右方所述传送带上方，附在通过其下方的所述产品的上表面上，并随所述产品传动，所述覆膜装置设置在所述传送带最右端部，使通过的所述第一保护膜和第二保护保护膜分别附在所述产品的上下表面。进一步地，所述第一保护膜绕在第一保护膜滚筒上，所述第一保护膜滚筒可转动的设置在所述传送带左端部下方。具体地，所述第一保护膜的宽度大于或等于所述产品宽度。具体地，所述第二保护膜宽度大于或等于所述产品宽度。进一步地，所述传送带固定在传送带滚筒上，所述传送带滚筒分别可转动的固定在所述传送带支撑架的左右两端部。进一步地，所述覆膜装置包括一对上下对称布置的橡胶滚筒。进一步地，所述橡胶滚筒之间的间隙小于所述产品的厚度，所述间隙的下表面与所述传送带上表面高度一致。进一步地，所述等离子表面处理机包括等离子发生装置、气体输送管以及等离子喷枪，所述气体输送管连接所述等离子发生装置和所述等离子喷枪，使低温等离子体喷向处理表面，对物体表面进行物理性活化处理，增加物体表面符着力。进一步地，所述等离子喷枪设置于所述传送带正上方，可沿所述传送带左右横摆。具体地，所述等离子喷枪左右横摆的距离与所述产品的宽度一致。与现有技术相比，本技术的有益效果在于：等离子处理机依靠电能，会产生高压、高频能量，这些能量喷枪钢管中被激活和被控制的辉光放电中产生低温等离子体，借助压缩空间将等离子体喷向处理表面，使处理表面产生相应的物理变化和化学变化，等离子处理机处理的物理表面得到了活化，材料表面达因值增大，增加物体表面符着力、亲水性，增强被处理物质的粘接强度，使得覆膜的效果更好，从而提高产品质量。等离子表面处理机上面安装覆膜装置以后，等离子表面处理和覆膜同步进行，只需要安排一个人在等离子机的传送带上的保护膜上面依次放产品，即可完成等离子处理和覆膜工作，减少二次污染，提高产品的质量，省去了使用托盘的周转，提高了生产效率，降低生产成本。因此，本技术具有结构简单，成本低廉，实用性强，操作方便的特点，可完全替代传统的等离子表面处理机。附图说明图1是本使用新型一较佳实施例中具有覆膜功能的等离子表面处理装置的结构示意图。图2是本使用新型一较佳实施例中等离子表面处理机的结构示意图。其中：1-第一保护膜滚筒，2-第一保护膜，3-传送带滚筒，4-传送带，5-等离子表面处理机，53-等离子喷枪，6-第二保护膜滚筒，7-第二保护膜，8-覆膜装置，9-传送带支撑架。具体实施方式为了使本技术的目的、技术方案及优点更加明白，以下结合附图及实施例对本技术进行进一步的详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术，基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。下面结合附图对本技术提供的优选实施方式做具体说明。请参照图1、图2，为本专利技术的一较佳实施例，一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，包括：等离子表面处理机5、传送带4、传送带支撑架9、第一保护膜2、第二保护膜7以及覆膜装置8，所述传送带4设置在所述传送带支撑架9上，所述第一保护膜2贴合在所述传送带4的上表面，并随所述传送带4传动，所述等离子表面处理机5设置在所述传送带4中间上方的位置，对通过其下方的产品进行表面处理，所述第二保护膜7设置在所述等离子表面处理机5的右方所述传送带4的上方位置，附在通过其下方的所述产品的上表面上，并随所述产品传动，所述覆膜装置8设置在所述传送带4的最右端部，使通过的所述第一保护膜2和第二保护保护膜7分别附在所述产品的上下表面。具体地，所述第一保护膜2绕在第一保护膜滚筒1上，所述第一保护膜滚筒1可转动的设置在所述传送带4的左端部下方位置。具体地，所述第一保护膜2的宽度大于或等于所述产品宽度。具体地，所述第二保护膜7的宽度大于或等于所述产品宽度。具体地，所述传送带4固定在传送带滚筒3上，所述传送带滚筒3分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，其特征在于，包括：等离子表面处理机、传送带、传送带支撑架、第一保护膜、第二保护膜以及覆膜装置，所述传送带设置在所述传送带支撑架上，所述第一保护膜贴合在所述传送带上表面，并随所述传送带传动，所述等离子表面处理机设置在所述传送带中间上方的位置，对通过其下方的产品进行表面处理，所述第二保护膜设置在所述等离子表面处理机右方所述传送带上方，附在通过其下方的所述产品的上表面上，并随所述产品传动，所述覆膜装置设置在所述传送带最右端部，使通过的所述第一保护膜和第二保护保护膜分别附在所述产品的上下表面。

【技术特征摘要】
1.一种具有覆膜功能的等离子表面处理装置，其特征在于，包括：等离子表面处理机、传送带、传送带支撑架、第一保护膜、第二保护膜以及覆膜装置，所述传送带设置在所述传送带支撑架上，所述第一保护膜贴合在所述传送带上表面，并随所述传送带传动，所述等离子表面处理机设置在所述传送带中间上方的位置，对通过其下方的产品进行表面处理，所述第二保护膜设置在所述等离子表面处理机右方所述传送带上方，附在通过其下方的所述产品的上表面上，并随所述产品传动，所述覆膜装置设置在所述传送带最右端部，使通过的所述第一保护膜和第二保护保护膜分别附在所述产品的上下表面。2.根据权利要求1所述的具有覆膜功能的等离子表面处理装置，其特征在于：所述第一保护膜绕在第一保护膜滚筒上，所述第一保护膜滚筒可转动的设置在所述传送带左端部下方。3.根据权利要求2所述的具有覆膜功能的等离子表面处理装置，其特征在于：所述第一保护膜的宽度大于或等于所述产品宽度。4.根据权利要求1所述的具有覆膜功能的等离子表面处理装置，其特征在于：所述第二保护膜宽度大于或等于所述产品宽度。5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，刘永康，常杰，张扬，
申请(专利权)人：深圳市一诺真空科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44