A substrate processing device. The substrate is treated by a first processing liquid or a second processing liquid supported on a rotatable substrate, even if the substrate treatment device is used to make the substrate rotated at low speed, and the processing fluid from the substrate is also recovered by category. In the development of the development process, the distribution section is raised at the time of the positive development, and the positive development liquid of the self wafer is guided from the distribution unit to the fixed cup in the future, and the Distribution Department is reduced at the time of negative development. Reclaim guide. At the outer end of the fixed cup, the inner circumferential side of the distribution part falls into the outer end of the distribution section after the distribution section is dropped, so that the negative developing liquid is not directed to the positive type recycling port at the time of negative development, and the angle of the upper surface of the distribution section is larger than the angle of the tilting surface on the upper part of the step.
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置
本技术涉及向被支承成可旋转的基板供给显影液等处理液、对该基板进行处理的基板处理装置。
技术介绍
例如在半导体器件的制造工艺的光刻工序中,依次进行如下处理等而在晶圆上形成预定的抗蚀剂图案:例如在作为基板的半导体晶圆(以下称为“晶圆”。)上涂敷抗蚀剂液并形成抗蚀剂膜的抗蚀剂涂敷处理;在该抗蚀剂膜对预定的图案进行进行曝光的曝光处理;在曝光后促进抗蚀剂膜内的化学反应的加热处理(曝光后烘烤,日文:ポストエクスポージャーベーキング);利用显影液对曝光后的抗蚀剂膜进行显影的显影处理。作为抗蚀剂液,存在在显影处理时曝光部被去除的正型抗蚀剂液和在显影处理时未曝光部被去除的负型抗蚀剂液。另外,作为显影液,存在分别与正型抗蚀剂液和负型抗蚀剂液相对应的正型显影液和负型显影液。在专利文献1中公开了一种利用同一模块进行正型显影液的显影处理和负型显影液的显影处理的显影处理装置。如图15和图16所示,该显影处理装置具备对随着晶圆W的旋转而飞散的显影液进行回收的回收杯501。回收杯501具有杯主体502和可相对于该杯主体502即晶圆W沿着上下方向移动的可动杯503。在专利文献1的显影处理装置中,如图15所示,通过在正型显影处理之际使可动杯503上升,使从旋转的晶圆W飞散开的正型显影液穿过可动杯503的下侧并向杯主体502的内侧流路504导入。另外,如图16所示,通过在负型显影处理之际使可动杯503下降,使从旋转的晶圆W飞散开的负型显影液穿过可动杯503的上侧并向杯主体502的外侧流路505导入。由此,不使正型显影液的排液和负型显影液的排液混合而分别回收。作为分别回收的目的,可 ...
【技术保护点】
一种基板处理装置,其向被支承成能够绕铅垂轴线旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对所述基板进行处理,并且利用回收杯对来自所述基板的处理液进行回收,其特征在于,所述回收杯具备:杯主体,其具有:环状的外周壁,其内径比所述基板的直径大;环状的内部构造体,其由朝向外周侧逐渐变低的第1倾斜面形成上端的外周面;底壁,其在内周侧设有所述第1处理液的回收口,在外周侧设有所述第2处理液的回收口;可动杯,其在上端具有由朝向外周侧逐渐变低的第2倾斜面形成上表面的分配部,并且设置成能够在所述杯主体的所述外周壁与所述内部构造体之间上下运动,通过使该可动杯上升,将所述第1处理液从所述分配部与所述内部构造体之间向所述第1处理液的回收口引导,通过使所述可动杯下降,将所述第2处理液从所述分配部与所述外周壁之间向所述第2处理液的回收口引导,所述杯主体在所述第1倾斜面的外周侧端具有台阶,在所述可动杯下降后,所述分配部的内周侧端落入到所述台阶上,所述分配部的上表面比所述台阶的形成上侧的面低,所述分配部的所述第2倾斜面的角度比所述第1倾斜面的角度大。
【技术特征摘要】
2016.08.24 JP 2016-1632431.一种基板处理装置,其向被支承成能够绕铅垂轴线旋转的基板供给第1处理液或第2处理液,对所述基板进行处理,并且利用回收杯对来自所述基板的处理液进行回收,其特征在于,所述回收杯具备:杯主体,其具有:环状的外周壁,其内径比所述基板的直径大;环状的内部构造体,其由朝向外周侧逐渐变低的第1倾斜面形成上端的外周面;底壁,其在内周侧设有所述第1处理液的回收口,在外周侧设有所述第2处理液的回收口;可动杯,其在上端具有由朝向外周侧逐渐变低的第2倾斜面形成上表面的分配部,并且设置成能够在所述杯主体的所述外周壁与所述内部构造体之间上下运动,通过使该可动杯上升,将所述第1处理液从所述分配部与所述内部构造体之间向所述第1处理液的回收口引导,通过使所述可动杯下降,将所述第2处理液从所述分配部与所述外周壁之间向所述第2处理液的回收口引导,所述杯主体在所述第1倾斜面的外周侧端具有台阶,在所述可动杯下降后,所述分配部的内周侧端落入到所述台阶上,所述分配部的上表面比所述台阶的形成上侧的面低,所述分配部的所述第2倾斜面的...
【专利技术属性】
技术研发人员:西畑广,福田昌弘,田中公一朗,甲斐亚希子,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:新型
国别省市:日本,JP
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