表面处理方法技术

本发明专利技术公开了一种表面处理方法，其包括以下步骤：将一产品置于温度为１０～３０℃、湿度为２０％～６０％的环境下；提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线，该γ射线源的射出能量为１００～３０００ｋｅｖ；将γ射线源对准产品的表面并使γ射线射至该产品表面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种，尤其是关于一种利用γ射线的。
技术介绍
随着经济的快速发展，人们生活水平日益提高，计算机(Computer)、通讯产品(Communication Electronics)和消费性产品(Consumer)(即3C产品)已被人们广泛应用，并充斥于人们生活当中。3C产品的性能不断提高，人们的审美观也不断提高，电脑机箱、显示器外壳、移动电话机壳和MP3、PDA外壳等都需要进行表面装饰，以使其表面更为美观，从而满足消费者的视觉要求。传统的有喷涂、贴纸和模内装饰(In-Mold Decoration，IMD)等。现有的喷涂和贴纸方法是分别在产品表面喷上一层涂层材料和贴上一层纸，采用该喷涂或贴纸方法进行表面处理后，经处理的产品表面可达到人们所需要的美观、光滑等较为理想的性能，且能包覆产品表面从而起到保护作用。然而，产品使用一段时间后，其表面的涂层材料或贴纸极易被磨掉或脱落，而影响产品外观。模内装饰方法是在模具定模侧吸附印刷有图案或文字的膜(Film)，在合模后向模腔内注射塑胶材料，而使膜附着于产品表面。采用模内装饰方法能得到具有良好表面性能的表面，且不易脱落。然而，其缺点是膜的制作周期长；成型时对模具的定位要求较高，使得工艺较为复杂，从而加工成本较高。另外，目前的3C产品广泛采用金属合金、复合材料、塑胶材料、竹子、木材、玻璃和微晶玻璃等。上述传统不能处理某些材料，例如模内装饰方法通常仅能处理塑胶材料。
技术实现思路
鉴于以上内容，有必要提供一种能长期保持、不易磨损，且工艺简单、且对各种材料均适用的。一种包括以下步骤将一产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下；提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线，该γ射线源的射出能量为100～3000kev；将γ射线源对准产品的表面并使γ射线射至该产品表面。相较现有技术，所述利用γ射线对3C产品表面进行处理，较为容易地得到了不易磨损的表面，且该处理方法只需简单地对产品辐射一定时间，工艺简单，并能适用于各种材料，应用广泛。具体实施方式本专利技术较佳实施方式是应用于金属合金、复合材料、塑胶材料、竹子、木材、玻璃和微晶玻璃等材料的产品的。该为首先将待处理的产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下；接着提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线；然后将γ射线源对准产品的表面并射至待处理产品的表面。其中该γ射线源可为钴60(Co-60，cobalt)、铯134(Cs-134，cesium)或铯137(Cs-137，cesium)。该γ射线源的射出能量可为100～3000千电子伏(kev)，优选500～1500kev。当采用钴60为γ射线源时，其辐射剂量率为100～3000千戈瑞/秒(KGy/s)。以下以玻璃和竹子为材料的产品为例说明该。对于以竹子为材料的产品而言，将待处理的产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下，采用Co-60为γ射线源，该γ射线源的射出能量为100～3000kev，辐射剂量率为100～3000KGy/s，将竹子材料的产品处理1～10分钟。在γ射线处理之前，竹子材料的柔韧性和弯曲强度均较高，经γ射线处理后，产品的表面具有较高的硬度、密度和疲劳强度，从外观上看，处理后的竹子表面具有艺术性。对于以玻璃为材料的产品而言，将待处理的产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下，采用钴60为γ射线源，该γ射线源的射出能量为100～3000kev，辐射剂量率为100～3000KGy/s，将石英材料的产品处理1～2小时。由于玻璃的主要由石英(SiO2，二氧化硅)组成，在γ射线处理之前，石英的内部结构为无定形态，经γ射线处理后，由于石英的硅原子与硅原子、硅原子与氧原子、氧原子与氧原子之间的距离改变，因此石英的表层内部结构变为微晶态，而使其表面颜色由透明变为粉红色，看起来更为美观。各种材料的产品用所述处理时，由于γ射线作为一种高能微观粒子流，既是能量载体，又是物质载体，当它们与材料相互作用时，会产生各种物理和化学上的效应，从而引起各材料的表层成分、结构和性能皆产生一系列变化，从而优化材料表面。权利要求1.一种，其特征在于其包括以下步骤将一产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下；提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线，所述γ射线源的射出能量为100～3000千电子伏；将γ射线源对准产品的表面并使γ射线射至该产品表面。2.如权利要求1所述的，其特征在于所述γ射线源为钴60、铯134或铯137。3.如权利要求2所述的，其特征在于所述γ射线源的射出能量为500～1500千电子伏。4.如权利要求3所述的，其特征在于所述γ射线源为钴60时，其辐射剂量率为100～3000千戈瑞/秒。5.如权利要求4所述的，其特征在于所述产品的材料为金属合金、复合材料、塑胶材料、竹子、木材、玻璃或微晶玻璃。6.如权利要求5所述的，其特征在于所述产品的材料为竹子，处理时间为1～10分钟。7.如权利要求5所述的，其特征在于所述产品的材料为石英，处理时间为1～2小时。全文摘要本专利技术公开了一种，其包括以下步骤将一产品置于温度为10～30℃、湿度为20％～60％的环境下；提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线，该γ射线源的射出能量为100～3000kev；将γ射线源对准产品的表面并使γ射线射至该产品表面。文档编号C03B27/012GK1932046SQ20051003734公开日2007年3月21日 申请日期2005年9月16日 优先权日2005年9月16日专利技术者陈杰良 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面处理方法，其特征在于：其包括以下步骤：将一产品置于温度为１０～３０℃、湿度为２０％～６０％的环境下；提供一γ射线源，该γ射线源可射出γ射线，所述γ射线源的射出能量为１００～３０００千电子伏；将γ射线源对准产品 的表面并使γ射线射至该产品表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈杰良，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]