鞋用矫正装置制造方法及图纸

与带跟鞋、正装鞋、平底鞋或运动鞋一起使用的矫正装置(10)，该装置(10)包括：主体(25)；内侧弓支撑体(40)，该内侧弓支撑体由远离主体(25)向上延伸的凸起限定；以及外偏楔(20)，该外偏楔由位于主体(25)的外侧后足部分和/或外侧前足部分的凸起限定，该外偏楔(20)适于使足部外翻并且使装置(10)的支撑在外侧上集中。

Orthodontic device for shoes

And the correction device with use with shoes, dress shoes, shoes or sports shoes (10), the device (10) comprises a body (25); the medial arch support body (40), the medial arch support body by far away from the main body (25) defining an upwardly extending protrusion; and partial wedge (20), the partial wedge located by the subject (25) side of the foot part and / or the outside of the front part of the foot of the outer convex limit, partial wedge (20) adapted to the foot valgus and the device (10) is supported on the lateral focus.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】鞋用矫正装置
本公开涉及一种鞋用矫正装置。特别地，本专利技术涉及一种正装鞋用矫正装置。然而，本领域技术人员应当理解本专利技术可以用于其它应用并且特别是其它鞋子类型。
技术介绍
足矫正装置(也被称为矫正器)一般被规定为由健康专业人士用来改变脚部动力学，提高功能，提供缓冲，减少疼痛，预防损伤和再分配作用于下肢肌骨骼系统的力。足矫正装置可以根据个体订制的方案制成或为大众制造并且经常专门为某类型鞋类——包括跑鞋、工作鞋以及高跟鞋——来进行设计。定制的矫正方案是由对个体足部的印模制成的并且根据拟合个体足部的形态学的个人化方案制造的。与此相比，现成矫正器(也称作通用矫正器/矫正器械)商业地制造并且一般具有适合一般适应人群的方案。当前市场上可以买到的适用于带跟鞋的通用矫正器械是：a.仅缓冲装置；b.仅应用内侧弓支撑体；或c.仅应用缓冲和内侧弓支撑体。通常女人穿高跟鞋以实现有吸引力的姿态，增加身高和搭配套装。穿高跟鞋时，需要改变行走步态来适应倾斜的足跟，这样，足跟倾斜度越高，发生生物力学改变就越严重。为了本申请之目的，带跟鞋被定义为任何具有大于30mm的足跟到脚趾的垂直差距(足跟倾斜度)，抬升足跟比前脚高的鞋。对穿带跟鞋站立和行走的适应性是广泛记载的，确定了与穿平底鞋产生的力学和姿势相比有明显差异。当穿高跟鞋行走时，以前认为足部和脚踝的自然位置改变，其中脚踝受迫保持跖屈位置(脚踝向下延伸而前脚朝地面放置)并且大脚趾关节持续受迫进入背屈位置。还被众所周知的是穿戴者必须通过在脚部、脚踝、膝盖、臀部以及脊椎处的肌骨骼补偿积极地适应足跟接触高度、站姿以及步态的迈步期，肌骨骼补偿包括穿戴者质心的改变、朝躯干倾斜、朝胸部位置、更短的步长，臀部突出、前脚上的负载压力的明显增加，足弓上的刚度的增加，减少的震动吸收，短的腓肠肌长度和改变的下肢和脊椎的肌肉作用。习惯地穿高跟鞋的长期效果已经被广泛记载。已经拟出长期使用高跟鞋和慢性疾病之间的关联，其中慢性疾病包括骨关节炎和肌骨骼疼痛，肌骨骼疼痛涉及足部，脚踝，膝盖，臀部和脊椎。骨畸形，包括拇囊炎(HAV)、锤状趾、跖弓塌陷以及解剖学上的变化(包括缩短小腿肌肉和跟腱增厚)，都与长期使用高跟鞋相关。同样被广泛记载的是足跟高度的增加直接与前脚的峰值压力的明显增加相关。足跟与脚趾之间的竖直高度差越大，则前脚所承受的体重百分数就越高。1954年Hicks发现当被动背屈施加到大脚趾时(例如当行走步态中足跟抬升时)，紧接着足部腱膜开始变紧，然后内侧纵弓升高，后足内翻并且胫骨/腓骨复合体向外部旋转。这被称为“旋绞机制”。尽管旋绞机制一般地被本领域技术人员理解，但带跟鞋导致旋绞机制过度活动而导致脚踝不稳定和继而疼痛之间的关联还没有被本领域技术人员和文献确定。目前为带跟鞋和其他类型的正装鞋穿戴而生产的现成矫正器械是通过内侧弓支撑体和缓冲的变化来设计的。被广泛接受的设计和概念是基于支撑内侧足弓和额外的前脚缓冲。当被用于带跟鞋时，集中支撑内侧足弓和/或内侧足部含有内翻楔的矫正器械将放大过度旋后，进一步导致不稳定性和相关的病理。本专利技术应用在带跟鞋以克服上述生物力学改变，除此之外，该设计还可以被需要支撑他们脚外侧(lateral)的穿平底鞋和/或运动鞋的人使用，特别是具有高弓足的人，慢性脚踝不稳的人或急性扭伤或腿外侧肌肉组织过度使用的人。本专利技术还适用于内侧膝盖关节炎退变的人或过度磨损鞋外侧外底的人。定义为本申请之目的，实施如下定义：旋后是足部和脚踝复合体的三平面运动，该运动造成导致距下关节轴线向外侧偏斜的距下关节内翻、内侧足弓抬高、足关节锁定机制、前足内收和脚踝跖屈。一般来说，旋后的足部姿势被确定为主要在休息跟骨站立位置的内翻的足跟对准的高弓足。为本申请之目的，过度旋后是当步态期间旋后发生不协调或比例过大。旋前是足部和脚踝复合体的三平面运动，该运动造成导致距下关节轴线向内侧偏斜的距下关节外翻、内侧足弓降低、足关节解锁、前足外展和脚踝背屈。一般来说，旋前的足部姿势被确定为主要在休息跟骨站立位置的外翻的足跟对准的低弓足。为本申请之目的，过度旋前是当步态期间旋前发生不协调或比例过大。距下关节内翻是由足跟的指向身体的中线(向内)的远端部分确定的足跟(跟骨)的前平面运动。为本申请之目的，内翻的可以与内偏的(varus)相互替换。距下关节外翻是由足跟的指向远离身体的中线(向外)的远端部分确定的足跟(跟骨)的前平面运动。为本申请之目的，外翻的可以与外偏的(valgus)相互替换。力矩是由力作用在半径上产生的转动效应。力矩＝F×r内侧柱是位于装置内侧上的坚固的外部凹口或扩口(flare)，它平衡到中立以减少矫正装置的任何内侧“摆动”运动。内侧柱可以(或可以不)用与该矫正装置垫体同样的材料制成。外侧柱是位于装置外侧的坚固的外部凹口或扩口，它平衡到中立以减少矫正装置的任何外侧“摆动”运动。外侧柱可以(或可以不)用与该矫正装置垫体同样的材料制成。内偏楔在后足、中足部和/或前足可以位于矫正装置外壳内部(例如内侧薄片)或外部(内翻柱)。内翻楔的内侧比外侧高并且可以用角度或毫米来测量。通过向内侧改变压力中心，可以内翻对应的足部位置。外偏楔在后足、中足部和/或前足可以位于矫正装置外壳内部(例如外侧薄片)或外部(外翻柱)。外偏楔的外侧比内侧高并且可以用角度或毫米来测量。通过向外侧改变压力中心，可以外翻对应的足部位置。足部中立位置(称作中立跟骨站立位置NCSP)是距舟关节在该位置应该是一致的，并且距下关节复合体的中间位置不是内翻，也不是外翻的位置。足部休息位置(称作休息跟骨站立位置RCSP)是指人在轻松站立时的位置。足部休息位置的测量与垂直测量或NCSP测量有关。大多数人在他们的RCSP自然站立时不是外翻就是内翻。足部的内侧纵弓涉及跟骨、距骨、舟骨、三个楔形骨以及第一/第二/第三跖骨之间的纵向空间。顶点位于距骨的上关节表面，并且站立时支撑顶点的两个支墩是跟骨后部跖面的结节和第一、第二、第三跖骨前部的头。一般地，在带跟鞋中，大脚趾被动的背屈导致足部内侧纵弓升高。矫正装置内侧弓高度以背部垫体的最低点(图1中1a)和内侧弓背部顶点(图1中3)之间的距离来测量。为了此申请之目的，建立在装置中的支撑内侧纵弓的标高称为内侧弓支撑或内侧弓轮廓。外侧纵弓是在足部外侧的足弓，向下凹，由跖骨、三楔形骨、骰骨以及跟骨形成。在矫正装置中骰骨凹口是外侧足弓支撑的普通形态。装置的外侧足弓高度以背部垫体的最低位置(图1中1a)和外侧足弓背部顶点(图1中4)之间的距离来测量。为本申请之目的，建立在装置中的支撑外侧纵弓的标高称为外侧足弓支撑、骰骨凹口或外侧足弓轮廓。距下关节也被称为距跟关节并且它是后足的关键关节。它导致了内翻和外翻并且当移动与中足部接合时导致旋后和旋前。足跟杯的高度可以用背部垫体的最低位置(图1中1a)到后跟顶缘的距离来测量并且足跟杯向内侧、向后以及向外侧环绕足跟。由于固有楔形，测量在内侧、后部以及外侧位置之间存在差异。垫体是实现装置从后跟杯到前缘作为一个整体的材料。垫体向前停止在跖骨或脚趾下或延伸过脚趾到达鞋子的整体长度。顶盖是在装置垫体之上的材料，其可以停止在垫体的后缘或可以继续向前。它可以由与垫体相同的材料或与垫体不同的材料制成。弓垫是鞋底的刚性结构，本文档来自技高网...

【技术保护点】
与带跟鞋、正装鞋、平底鞋或运动鞋一起使用的矫正装置，所述装置包括：主体；内侧弓支撑体，所述内侧弓支撑体由远离所述主体向上延伸的凸起限定；以及外偏楔，所述外偏楔由位于所述主体的外侧后足部分和/或外侧中足部分和/或外侧前足部分的凸起限定，所述外偏楔适于使足部外翻并且使所述装置的支撑在外侧上集中。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.08.05 AU 20159031261.与带跟鞋、正装鞋、平底鞋或运动鞋一起使用的矫正装置，所述装置包括：主体；内侧弓支撑体，所述内侧弓支撑体由远离所述主体向上延伸的凸起限定；以及外偏楔，所述外偏楔由位于所述主体的外侧后足部分和/或外侧中足部分和/或外侧前足部分的凸起限定，所述外偏楔适于使足部外翻并且使所述装置的支撑在外侧上集中。2.根据权利要求1所述的矫正装置，其中所述外偏楔沿着所述矫正装置从后足部分、通过中足部分延伸到前足部分。3.根据权利要求1或2所述的矫正装置，其中所述外偏楔在所述装置的外侧面上相对于所述主体测得的竖直高度最高达20mm。4.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置，其中所述外偏楔是定位在内部的外侧薄片。5.根据权利要求1至3中任一项所述的矫正装置，其中所述外偏楔是外部外偏柱。6.根据前述权利要求中任一项所述的矫正装置，还包括由远离所述主体延伸的凸起限定的外侧弓支撑体，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：埃米莉·萨尔卡维奇，奈杰尔·史密斯，
申请(专利权)人：维法尔私人有限公司，
类型：发明
国别省市：澳大利亚,AU